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文檔簡介

1、繼 續(xù)下一頁上一頁目 錄一、概述八、第1頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 如修改特征尺寸、修改截面形狀、變更父子關(guān)系即重定一特征屬性等;對某如修改特征尺寸、修改截面形狀、變更父子關(guān)系即重定一特征屬性等;對某些相似的特征進行復(fù)制、陣列、刪除、調(diào)整生成次序的操作及其它一些操作。些相似的特征進行復(fù)制、陣列、刪除、調(diào)整生成次序的操作及其它一些操作。 特征操作是對已建特征進行各種修改的一些操作。一、概述:第2頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第3頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁1 1、零件模式下元素的選取:、零件模式下元素的選取:智能智能第4頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第5頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第6頁

2、/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第7頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第8頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第9頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第10頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第11頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第12頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第13頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 1、基本概念: 隱含特征的目的是為了提高零件的重新生成速度,可以暫時不顯示被隱含的特征。當需要時可以恢復(fù)顯示。2、隱含特征的操作方法:方法1:在模型樹中選擇特征,在右鍵彈出菜單中選擇【隱含】 命令。第14頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁方法2:先選擇特征,在主菜單中選擇【編輯】【隱含】 命令。方法3:在主菜單中選擇【編輯】【

3、特征操作】從出現(xiàn) 的菜單中選擇【隱含】,然后選取特征,單擊【完成】。第15頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁【】第16頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第17頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁3、第18頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁2、1、特征刪除的方式:第19頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選中特征,選擇主菜單【編輯】【刪除】選項。選中特征,按鍵盤上的【Delete】鍵;在模型樹中選取特征,按右鍵,選擇彈出菜單中的【刪除】;特征刪除的方式: 注: 如果要刪除復(fù)制子特征,須先使用【分解組】命令將 特征分解,然后再執(zhí)行刪除操作; 如果要刪除陣列子特征,則需選擇彈出菜單中的 【刪除陣列】,否則將把父特征一起刪除

4、; 如果刪除父特征,那么子特征也將受到牽連,其操作 同隱含操作。 第20頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第21頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 第22頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第23頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第24頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 1、掃描特征的重定義:操作方法:同前。、軌跡重定義:第25頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、截面重定義:、其它重定義:選擇要重定義的【元素】,點擊【定義】。2、混合特征的重定義:、平行:可重新定義截面位置 重新定義截面第26頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、旋轉(zhuǎn):修改截面移出截面增加截面顯示截面選擇截面方式截面例題:顯示截面:bianjijiemian

5、-liti2第27頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第28頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 、選擇要排序的特征:第29頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選取特征,點擊【完成】。第30頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁草繪平面垂直草繪平面的參照平面尺寸標注參照(草繪平面、參照平面、尺寸標注平面相互垂直)第31頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁改變第32頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁可替換、可相同參照第33頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第34頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第35頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第36頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第37頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第38頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁見

6、后續(xù)“模型的視圖管理”。 第39頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第40頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 更改后,由于旋轉(zhuǎn)特征截面中的定位尺寸5是以完全圓角的一條邊為參照的,上述重定義后完全角不存在,使旋轉(zhuǎn)特征截面的參照丟失,出現(xiàn)特征生成失敗。第41頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第42頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第43頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第44頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第45頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁新參照第46頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 重定缺少參照第47頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁可替換、可相同參照重定所有參照第48頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第49頁/共86頁繼 續(xù)

7、下一頁上一頁第50頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 通過指定新的參考將若干個特征復(fù)制到一個新的位置,從而產(chǎn)生一個形狀與原始樣本特征相似的新特征。若干個特征:一次可以復(fù)制第51頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁一個:正確理解“一個”概念,復(fù)制結(jié)果的個數(shù)是一個。相似:選擇【編輯】【特征操作】【復(fù)制】 第52頁/共86頁新參考:利用新選取的參考來替代父特征中原有的參考,來復(fù)制出子特征。其特點:可在不同的平面上產(chǎn)生復(fù)制特征。相同參考:子、父特征的參考相同,通過改變參考尺寸進行特征復(fù)制。其特點:可快速產(chǎn)生相同方向的復(fù)制特征。鏡像:通過指定鏡像平面來鏡像父特征,產(chǎn)生子特征。其特點:必須指定鏡像平面,且子、父特征

8、的形狀、大小完全一樣。移動:通過平移或旋轉(zhuǎn)父特征來復(fù)制出子特征。其中:平移特征時,需指定平移的方向和距離;旋轉(zhuǎn)特征時,需指定旋轉(zhuǎn)的方向和角度。繼 續(xù)下一頁上一頁第53頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第54頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁第55頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、獨立型:子、父特征相互獨立,對父特征的修改不會影響子特征;反之亦然。、從屬型:子、父特征是相關(guān)的,對父特征的修改將使子特征同時改變;反之亦然。3、特征復(fù)制的創(chuàng)建過程:選擇【編輯】【特征操作】【復(fù)制】-第56頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、選取需復(fù)制的特征選取特征并確定后,彈出:、選取可變尺寸然后即可為每個可變尺寸輸入新值。、在對

9、話框中,單擊【確定】即可。 在菜單中選取可變尺寸,使相應(yīng)的尺寸前面 中出現(xiàn)“”,并單擊【完成】。可快速產(chǎn)生相同方向的復(fù)制特征。第57頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、選取需復(fù)制的特征:選取特征后,彈出“組元素”對話框和“組可變尺寸”菜單、選取可變尺寸: 在“組可變尺寸”菜單中選取可變尺寸,使相應(yīng)的尺寸前面出現(xiàn)“”,并單擊【完成】 。然后即可為每個可變尺寸輸入新值。 如果不需改變特征的尺寸,單擊【完成】后,可直接彈出“參考”菜單。、替換參考:替換:以新的參考替換原有的參考。相同:使用原有的參考。第58頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁跳過:跳過當前參考,以后再定義。參照信息:提供解釋放置參照的信息。完

10、成替換后,彈出“組放置”對話框:重定義:返回命令開始,重新定義各元素。顯示結(jié)果:用于顯示組的幾何形狀。信息:出現(xiàn)信息窗口,顯示當前復(fù)制特征的信息。、在菜單和對話框中,均單擊【確定】即可。、選取需復(fù)制的特征選取特征后,彈出“設(shè)置平面”菜單:平面:選擇現(xiàn)有的實體平面或基準平面 作為鏡像對稱面。第59頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁產(chǎn)生基準:臨時建立一基準平面作為鏡像對稱面。放棄平面:放棄鏡像復(fù)制操作。、指定鏡像對稱面后,在菜單中單擊【確定】 。、選取需復(fù)制的特征選取特征后,彈出“移動特征”菜單選擇“平移”或“旋轉(zhuǎn)”后,出現(xiàn)“選取方向”菜單。、指定方向后,還需輸入平移的距離或者旋轉(zhuǎn)的角度。、在菜單中,

11、選擇【完成移動】。第60頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁 將零件模型中的某一特征作為父特征,使其按一定方式產(chǎn)生出若干與之相似的子特征的操作方法和過程。第61頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁直線型陣列:按照距離尺寸的增量以直線方式進行的陣列;旋轉(zhuǎn)型陣列:按照角度尺寸的增量以圓周方式進行的陣列。相同:子、父特征的尺寸大小、放置平面必須完 全相同,各特征之間不可相交;可變:子、父特征的尺寸大小、放置平面可以不 同,但各個特征之間不可相交;一般:子、父特征的尺寸大小、放置平面可以不 同,并各個特征之間可以相交。第62頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁陣列前相同型陣列可變型陣列一般型陣列第63頁/共86頁繼 續(xù)

12、下一頁上一頁、選取需陣列的特征,在主菜單中單擊【編輯】 【陣列】 、在模型樹中選取需陣列的特征,并擊右鍵,在彈出的快捷菜單中選取【陣列】 選項。三種方法的結(jié)果,均出現(xiàn)特征陣列操控面板。、選取需陣列的特征,在工具條上單擊5、特征陣列操控面板的設(shè)置:第64頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁、尺寸:通過選取特征的參考尺寸,并設(shè)置其尺寸增量和陣列的數(shù)量來創(chuàng)建陣列特征。、方向:通過選取陣列方向,并設(shè)置沿此方向陣列的偏距和數(shù)量來創(chuàng)建陣列特征。、軸:以所選軸線為中心進行圓周陣列。、填充:用陣列成員來填充一草繪區(qū)域。、表:使用陣列表并為每一個陣列實例指定尺寸來控制陣列。、參照:參照現(xiàn)有陣列來創(chuàng)建陣列。第65頁/共

13、86頁繼 續(xù)下一頁上一頁通過選取特征的參考尺寸, 并設(shè)置其尺寸增量和陣列的數(shù)量來創(chuàng)建陣列特征。選擇沿第一方向需變化的參考尺寸(及尺寸增量),可選擇多個參考尺寸(按下Ctrl鍵)。選擇沿第二方向需變化的參考尺寸(及尺寸增量)(此方向也可不設(shè)置)第66頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選擇基準面、平面、直線、軸,以定義第一陣列方向的參照選擇基準面、平面、直線、軸,以定義第二陣列方向的參照(此方向也可不設(shè)置)定義陣列的方向、數(shù)量和偏距第67頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選擇要成為陣列中心的基準軸設(shè)置陣列的角度范圍(與前一項只可選其一)定義陣列的方向、數(shù)量和陣列間夾角定義圓周陣列的徑向數(shù)量和間距保持陣列成員的角度方向第68頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選擇一草繪作為陣列的填充區(qū)設(shè)置陣列間距選擇陣列的分布樣式定義陣列的旋轉(zhuǎn)角設(shè)置陣列與填充邊界的間距當陣列呈圓形分布時,定義徑向間距定義草繪第69頁/共86頁繼 續(xù)下一頁上一頁選擇陣列表尺寸選擇表名單編輯活動表按規(guī)定格式編輯、保存并退出

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