鍍膜玻璃簡介

1、鍍膜玻璃鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、 合金或金屬化合物薄膜，以改 變玻璃的光學(xué)性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃 （Low-E）、導(dǎo)電膜玻璃等。熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、 鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜， 使產(chǎn)品呈豐富的色彩，對于可見光有 適當(dāng)?shù)耐干渎剩瑢t外線有較高的反射率，對紫外線有較高吸收率，因此，也稱 為陽光控制玻璃，主要用于建筑和玻璃幕墻；低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層 銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系，產(chǎn)品對可見光有較高的透射率，對 紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能，主要用于建

2、筑和汽車、船舶等交 通工具，由于膜層強度較差，一般都制成中空玻璃使用；導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表 面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜，可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示 屏等；鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相 沉積法以及溶膠一凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術(shù)可以設(shè)計制造 多層復(fù)雜膜系，可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能 較好，是目前生產(chǎn)和使用最多的產(chǎn)品之一。 真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁 控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距， 已逐步被真空濺射法取代。化學(xué)氣相沉積 法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應(yīng)氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻

3、璃表面形成鍍膜玻璃。該方法的特點是設(shè)備投入少、易調(diào)控，產(chǎn)品成本低、化學(xué) 穩(wěn)定性好，可進(jìn)行熱加工，是目前最有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一。 溶膠一凝膠法 生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡單，穩(wěn)定性也好，不足之處是產(chǎn)品光透射比太高，裝飾性較 差。鍍膜玻璃中應(yīng)用最多的是熱反射玻璃和低輻射玻璃。 基本上采用真空磁控濺 射法和化學(xué)氣相沉積法兩種生產(chǎn)方法。鍍膜玻璃性能特點：1太陽能透過率；2、較好的單向透視功能及較高的鏡面反射效果；3、對太陽能中的紅外線部分有較高的反射率，對紫外線部分有較高的吸收率，避免室內(nèi)物品的褪色，并能節(jié)約房屋內(nèi)冷暖空調(diào)的能耗 ；4、保護隱私：由于鍍膜玻璃反射作用，限制了可見光的通過量，是光線強的一面看

4、不見光線弱的一面；5、性能持久：膜層使用的金屬化合物與玻璃結(jié)合牢固，可有效地提高玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性和使用壽命；鍍膜玻璃產(chǎn)品應(yīng)用：廣泛應(yīng)用于各類建筑幕墻及門窗裝飾，可制作鋼化夾膠、中空等多種用途的復(fù)合玻璃制品。鍍膜玻璃產(chǎn)品顏色:翡翠綠、F綠、銀藍(lán)、銀白、銀灰、茶色、金色等各種顏色鍍膜玻璃產(chǎn)品質(zhì)量檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：鍍膜玻璃的基本知識我公司采用的鍍膜方法是真空陰極磁控濺射法。其原理大致如下：鍍膜真空室接地，與陽極相連，陰極裝置靶材，與負(fù)極 相連，磁控濺射是在濺射裝置中設(shè)置 磁場以控制電子運動方向，束搏電子運動軌 跡，從而提高工作氣體的 電離幾率和有效利用電子能量，提供大量的轟擊靶材的 正離子，形成高密度的

5、等離子區(qū)， 正離子轟擊靶材產(chǎn)牛濺射， 濺射粒子的中性靶 原子在基片上沉積成膜。在我公司的鍍膜產(chǎn)品主要分為熱反射鍍膜玻璃和低輻射鍍膜玻璃。由于中空線的生產(chǎn)加工單常會遇到鍍膜產(chǎn)品，所以有必要在這里簡單介紹 一下我公司鍍膜產(chǎn)品編號的知識一、熱反射鍍膜玻璃編號構(gòu)成：CXX# & ( F)C英文字母，表示南玻集團；XX兩個英文字母，為膜系列代號；# 一位數(shù)字，為玻璃基片色調(diào)分類代號；探兩位數(shù)字，表示膜在6mn透明玻璃上的透光率;& 英文字母，表示玻璃基片來源;-F 三線專用后綴。玻璃基片色調(diào)分類代號說明：1透明玻璃2綠色玻璃3灰色玻璃4茶色玻璃5藍(lán)色玻璃6藍(lán)綠色玻璃7天藍(lán)色玻璃（湖水藍(lán)）

6、玻璃基片來源說明:相對應(yīng)的基片相對應(yīng)的基片相對應(yīng)的基片A AZ-湖水蘭:JS SGF白 玻B BG4藍(lán)綠KTC GR8中國綠:LUF GR2-F綠OXG GFG白玻PYH GR5-H綠QZ使用舉例：CSS2O8H-對應(yīng)過去CSS408表示偉光公司生產(chǎn)用H綠玻璃基片鍍SS系列膜，膜透光率為8%（2） CSC220F-F-對應(yīng)過去CSC220-F表示三線生產(chǎn)用F綠玻璃基片鍍SC系列膜，膜透光率為20%二、低輻射（Low-E鍍膜玻璃2. 2.1低輻射鍍膜玻璃的生產(chǎn)方式同熱反射基本類似，采用真空磁控濺射在玻璃表面經(jīng)多次鍍膜而成，靶材位于要鍍玻璃上的上面，金屬銀是生產(chǎn)低輻射、 紅外高反射膜鍍膜玻璃的主要

7、材料之一，膜層數(shù)量比熱反射玻璃多，最高的達(dá)到9層。生產(chǎn)中不可避免有掉渣造成的針孔（空洞），因掉渣造成的針孔形狀不規(guī) 則，掉渣的先后順序不同，其透光表現(xiàn)特點也不盡相同，生產(chǎn)中請注意區(qū)別。2. 2. 2氧化特點當(dāng)真空磁控濺射沉積的低輻射膜暴露在大氣中時，大氣中的腐蝕性水蒸氣 和微塵離子會在其表面上凝結(jié)和俯著，從而對保護層形成電化學(xué)腐蝕并使銀層氧 化。氧化斑通常呈圓形狀，初始約有 0.10.3mm隨時間推移逐步擴大。但仍然 是圓形狀（顯微鏡下觀察）。被人為污染的膜氧化點，也是圓形狀，但較為集中。起先是一、二點，隨 時間推移，點數(shù)逐步增多、擴大，構(gòu)成一塊大斑。顯微鏡觀察仍然是由許多小氧 化圓點組成。通

8、常合成復(fù)合產(chǎn)品的孤立幾個缺陷不會擴大。 除非有氧化的條件存 在。3低輻射玻璃使用和膜層的保護低輻射鍍膜玻璃的膜厚很薄，一般不超過 0.1卩（微米），即僅有頭發(fā)絲直 徑的千分之一左右，如果不妥善處置，易于被劃傷。最常見的劃傷發(fā)生在開箱后 的切割、運輸及安裝搬運幾個環(huán)節(jié)中。由于低輻射鍍膜玻璃膜層薄、軟，灰塵、 砂粒及玻璃切割時的碎屑都可能成為膜劃傷的致因物，因此在加工與搬運過程務(wù) 必遵守低輻射鍍膜玻璃操作要求。低輻射鍍膜玻璃的膜，不能像熱反射鍍膜玻璃那樣暴露在空氣中使用，即 膜面必須位于中空玻璃內(nèi)表面，夾層玻璃內(nèi)表面。只要復(fù)合產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)不破壞， 低輻射玻璃的光學(xué)、熱學(xué)和膜的理化性能也不會改變（即原

9、有的膜層缺陷不會擴 大）。低輻射（Low-E鍍膜玻璃編號構(gòu)成:編號構(gòu)成： CEX#$ &c英文字母，表示南玻集團（與熱反射鍍膜玻璃編號構(gòu)成相同）；E英文字母，表示Low-E鍍膜玻璃；X英文字母，為Low-E膜系列代號；#一位數(shù)字，為玻璃基片色調(diào)分類代號（與熱反射鍍膜玻璃編號構(gòu)成相同）；$一位數(shù)字，為Low-E膜反射顏色代號（如：1為中性色，2為淺灰色，3為淺藍(lán)色等）；探兩位數(shù)字，表示膜在 6mm透明玻璃上的透光率（與熱反射鍍膜玻璃編號構(gòu)成相同）；&一個英文字母，表示玻璃基片來源（與熱反射鍍膜玻璃編號構(gòu)成相同）;使用舉例：CES11-82S對應(yīng)過去CES11表示在南玻透明玻璃基片

10、上鍍無色透明Low-E膜,膜透光率為82%（2）CEB23-63F對應(yīng)過去CEB23表示在F綠玻璃基片上鍍淺藍(lán)色 Low-E 膜,膜透光率為63%鍍膜玻璃常見質(zhì)量問題一、劃傷或擦傷定義和說明：鍍膜玻璃表面和其它較硬的物質(zhì)相對滑動或磨擦造成的線狀或帶狀的傷痕為劃傷或擦傷，主要表現(xiàn)為劃傷或擦傷部位的玻璃透光率增高， 或膜面脫 落透亮。其形態(tài)多為不規(guī)則的弧形細(xì)條狀或帶狀。產(chǎn)生原因：劃傷或擦傷往往是在施工安裝使用中產(chǎn)生的，主要有：1、生產(chǎn)方面：由于設(shè)備或后清洗的原因，在生產(chǎn)中是存在玻璃劃傷可能性的，但這種劃傷一般為規(guī)則的和直線型的，是能控制和檢驗出來的。另外，生產(chǎn)過程 中對鍍膜玻璃的搬運、裝箱也是有可

11、能造成劃傷的，原片本身也可能存在劃傷。 但客觀的說，大片鍍膜玻璃因是直接在線用裝片機裝片， 一般是不可能造成劃傷 的，而強化鍍膜玻璃因也是直接貼膜后裝箱， 膜面一般不會接觸其它硬物，所以 通常也是不會出現(xiàn)劃傷或擦傷的。2、切割原因：比如切割尺或卷尺在玻璃膜面的拖動；因玻璃膜面上有砂粒或玻 璃屑等，擦拭過程中造成的玻璃膜面的擦傷； 鍍膜面朝下切割或沒注意到每箱的 最后一片是反方向放置等原因，致使玻璃膜面與它物摩擦而造成劃傷。3、堆放和存放：開箱后或切割后的玻璃沒有按要求堆放，片于片之間沒有墊任 何襯墊物，致使玻璃之間直接接觸，由于砂粒或玻璃屑等的原因，在搬運或運輸 過程中造成劃傷或擦傷。4、安裝

12、和清洗：在打膠或安裝中，人為原因造成的因硬物的劃傷或擦傷；在清洗中使用了不干凈或較硬的擦拭物， 或是在玻璃膜面有水泥砂漿等污染物， 而使 用了不正確的清潔方法。二、掉膜定義和說明：鍍膜玻璃膜層表面出現(xiàn)的局部掉膜或脫膜現(xiàn)象。主要表現(xiàn)為局部的 透光率增強或膜層完全脫落，脫膜形態(tài)一般是指點狀、團狀和片狀的。對掉膜現(xiàn) 象，在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的，我們都有嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)控制，一般來說，掉膜部位的直 徑大于2.5mm是不允許的。產(chǎn)生原因：引起掉膜的原因較多，往往也較難界定，其主要原因有：1、生產(chǎn)方面：因鍍膜工藝的原因，在生產(chǎn)中可能會出現(xiàn)一些針狀的掉膜，也叫 針眼，是濺射鍍膜工藝本身無法避免的。 另外，因鍍膜原片本

13、身或設(shè)備清洗的原 因，也有可能造成掉膜，對此國家標(biāo)準(zhǔn)有相應(yīng)的要求和規(guī)定， 我們出廠的產(chǎn)品都 是嚴(yán)格按此規(guī)定檢驗，合格后才出廠的。2、運輸?shù)裟ぃ阂虿Ａч_箱搬運后或切割完后，沒有按要求在玻璃片與片之間墊任何襯墊物或墊得不滿不平，致使玻璃之間直接接觸，在搬運或運輸過程中造成 玻璃與玻璃膜面直接的相對摩擦而導(dǎo)致掉膜。這種掉膜一般為點狀或團狀的掉膜，可用手或檢驗設(shè)備感覺或檢查到摩擦的痕跡。3、腐蝕性掉膜：因玻璃膜面在切割堆放、施工使用或清洗中，因交叉施工或使 用了不正確的方法，使得玻璃膜面接觸到了酸堿或氧化性物質(zhì)等， 致使玻璃膜面 被污染腐蝕而掉膜。這種掉膜一般能在掉膜面或現(xiàn)場找到腐蝕性物質(zhì)殘留的痕 跡

14、。三、斑點或斑紋定義和說明：從非鍍膜面觀看，栽鍍膜玻璃上存在不規(guī)則的黑色斑點狀或斑紋狀 的表面缺陷。一般有發(fā)霉、紙紋、吸盤印、原片沾錫和水印等現(xiàn)象。產(chǎn)生原因：出現(xiàn)斑點或斑紋的情況較多，其中主要是鍍膜前原片就有缺陷， 或鍍 膜后由于儲存使用不當(dāng)?shù)仍蛟斐伞?、生產(chǎn)方面：一般來說，鍍膜玻璃生產(chǎn)工藝本身是不會產(chǎn)生這些缺陷的，主要在原片質(zhì)量上。比如原片不新鮮出現(xiàn)的發(fā)霉和紙紋印等；原片本身帶來的吸盤引 和沾錫等；鋼化或半鋼化玻璃清洗不好造成的水印等； 以及原片本身受到了污染， 這些都有可能造成鍍膜玻璃產(chǎn)品的斑點或斑紋缺陷。2、儲存和施工安裝：由于玻璃長期放置于潮濕和不通風(fēng)的環(huán)境下，或置于室外 受到日曬雨

15、淋，玻璃也有可能發(fā)霉或變質(zhì)而出現(xiàn)斑點或斑紋。3、膜層污染：由于安裝施工和清潔時的不當(dāng)，也有可能造成對玻璃的局部污染而使得玻璃出現(xiàn)斑點或斑紋。另外，由于玻璃得不到及時的清潔，造成灰塵和油 煙等贓物長期附著在玻璃表面，最終因清洗不掉而出現(xiàn)斑點或斑紋狀的污染。四、破裂定義或說明：這里所指的破裂主要是指因切割或安裝使用等原因， 致使玻璃上窗 上墻后出現(xiàn)的破裂現(xiàn)象。除安裝使用中人為撞擊等原因造成的破裂外， 我們一般 把這種鍍膜玻璃安裝使用之后的破裂叫鍍膜玻璃的熱應(yīng)力破裂。產(chǎn)生原因：因鍍膜玻璃與普通透明玻璃有些光學(xué)上的差異， 所以在安裝使用上就 有更嚴(yán)格的要求，其有可能產(chǎn)生熱應(yīng)力破裂的主要原因有：1、在設(shè)

16、計方面：鍍膜玻璃的防熱炸裂設(shè)計是建筑設(shè)計中必須認(rèn)真考慮一個重要 因素。除要考慮建筑物的朝向，室內(nèi)和室外遮蔽效應(yīng)，氣候條件，所選玻璃對太 陽輻射能的吸收大小等因素外，所選用什么玻璃，如強化鍍膜玻璃還是普通鍍膜 玻璃也是一個很重要的因素。2、在玻璃安裝方面：比如玻璃在安裝過程中必須與金屬框或其它金屬物保持一定的距離，嚴(yán)禁玻璃邊角在任何方向直接接觸金屬框體或保留的空隙過小，更不能象安裝普通白玻一樣，直接把玻璃放在金屬框體上，這樣，因鍍膜玻璃的吸熱 作用而膨脹，就必然會導(dǎo)致玻璃的破裂。另外，玻璃窗或幕墻的安裝不平整也是 導(dǎo)致玻璃破裂的一個很重要的原因，由于玻璃在安裝中不平，會產(chǎn)生彎曲變形，雖然還不一定

17、馬上會導(dǎo)致彎曲破裂， 但因各種熱應(yīng)力因素的影響，就大大增加了 玻璃發(fā)生熱應(yīng)力破裂的幾率，這就對鍍膜玻璃的安裝提出了更高的要求。3、玻璃的切割質(zhì)量：玻璃邊緣的切割質(zhì)量至關(guān)重要，它是影響玻璃破裂的重要 原因。研究表明，任何邊部的缺陷都會導(dǎo)致邊緣的抗張強度降低十幾倍，因此，如果因切割質(zhì)量不好，在玻璃的邊緣存在邊界凹凸不平整、 甭邊甭角的情況或有 暗傷，玻璃在受熱膨脹時，由于內(nèi)部應(yīng)力的作用，就極易在邊緣有切割缺陷的點 開始破裂。第一節(jié)鍍膜玻璃一、鍍膜工藝鍍膜工藝是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，鍍膜方法有真空蒸 發(fā)、真空濺射、化學(xué)還原、溶膠凝膠等。我公司采用的是陰極真空磁控濺射法 通過磁控濺射

18、，在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物 薄膜。通過鍍膜可以改變基片的某些屬性，如光學(xué)性能、電學(xué)性能、機械性能、化 學(xué)性能、裝飾性能等。1 鍍膜原理陰極真空磁控濺射的特點：膜層厚度均勻、鍍膜速度快、基板溫度低。濺射鍍膜利用2個原理：輝光放電、連續(xù)撞擊。濺射過程是建立在氣體放電 基礎(chǔ)上的，放電從低壓下開始的，氣體離子與靶材相互作用，離子不斷的撞擊靶 表面，靶材從靶表面被轟擊下來然后在靶附近的基片（玻璃）上沉積下來，凝結(jié) 成一層薄膜。當(dāng)氣體通入真空室后，氣體在低氣壓高電壓的情況下迅速被電離，Ar原子電離為Ar+和e-，帶正電的Ar+離子在電場的作用下向陰極運動，最終撞擊靶材， 把能量傳

19、遞給靶材。當(dāng)較多的 Ar+離子撞擊靶材，靶材表面原子所受到的撞擊力 大于靶材內(nèi)部應(yīng)力時，靶表面原子就從靶表面析出。帶負(fù)電的電子e-在電場作用 下向帶正電的陽極運動，而陰極上是裝有磁體的，真空室內(nèi)同時具有磁場，電子 在電磁場的作用下作圓周運動，而真空室內(nèi)不斷的在補充氣體，電子會撞擊補充 的氣體分子，加速氣體分子的電離，電子撞擊氣體分子后能量減小，運動半徑減 小，多次撞擊后能量消失，故電子的運動軌跡是螺旋形。常見的濺射有兩種：不反應(yīng)濺射和反應(yīng)濺射。不反應(yīng)濺射指濺射氣體和鍍膜 材料之間不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。因此不反應(yīng)濺射所使用的氣體為惰性氣體， 一般使用 氬氣（Ar），稱為工作氣體。不反應(yīng)濺射一般都用在鍍

20、金屬膜層上，導(dǎo)電性能越 好的材料，濺射速率越高。反應(yīng)濺射就是在反應(yīng)氣體環(huán)境中鍍膜，濺射過程中靶材會與濺射氣體發(fā)生化 學(xué)反應(yīng)。反應(yīng)濺射一般沉積不導(dǎo)電的膜層， 例如：SnOx，ZnOx，SiOx，SiNx等。 在反應(yīng)濺射系統(tǒng)中，一般都加入 Ar加速反應(yīng)速度，即提高濺射速率。在反應(yīng)濺 射氣氛中，加入工作氣體越多，濺射速率越高，當(dāng)加入的工作氣體過多時，反應(yīng) 氣體來不急將所有濺射出來的原子反應(yīng)掉，膜層內(nèi)就會含有金屬，我們把這種狀 態(tài)叫翻轉(zhuǎn)。在反應(yīng)濺射過程中，無論翻轉(zhuǎn)與正常狀態(tài)，靶的濺射速率都沒有不反應(yīng)濺射速率高。2 鍍膜靶材由于用途不同，用于鍍膜的材料也不同。我公司鍍膜工藝中所使用的材料包 括：金屬材料

21、：Ag、NiCr等，其中Ag具有較好的輻射率，是良好的輻射材 料介質(zhì)材料：主要有SnOx、ZnOx、TiOx等，這些材料具有良好的吸收， 反射率低。使用這些材料進(jìn)行組合，可以得到各種膜系。天津南玻生產(chǎn)的鍍膜產(chǎn)品有兩 大類，一是陽光控制鍍膜玻璃，也熱反射玻璃，一是低輻射鍍膜玻璃，也 稱Low-E玻璃。這兩類鍍膜玻璃最大的區(qū)別是，Low-E玻璃含有銀層，而熱反射玻璃沒有。陽光控制鍍膜玻璃（熱反射）有以下膜系：單層膜：CMG系列，膜結(jié)構(gòu)是gTiOx雙層膜：CCS系列，膜結(jié)構(gòu)是gCrTiNxCSY系列，膜結(jié)構(gòu)是gCrNxTiOx多層膜：CGP系列，膜結(jié)構(gòu)是gSnO xCrTiOxCPA系列，膜結(jié)構(gòu)是g

22、SnO xCrTiNx低輻射玻璃（Low-E玻璃）有以下系列：單 NiCr（ CES系列），膜結(jié)構(gòu)是 gSnOxAgNiCrSnOx雙NiCr（ CEB CEF系列），膜結(jié)構(gòu)是gSnO xNiCrAgNiCrS nOx雙 銀 （CED 系 列）， 膜 結(jié)構(gòu) 是gSnO xNiCrAgNiCrAgNiCrS nOx3 鍍膜基片鍍膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、鋼化玻璃、彩釉玻璃、夾層玻璃等。鍍膜前基片必須用純凈水清洗，去除基片表面的灰塵、污垢、油膩等雜質(zhì), 因為表面的雜質(zhì)將會影響膜層的附著能力， 或者影響鍍膜玻璃的外觀質(zhì)量。如果 基片表面存在膠印、筆印等不能清洗掉的雜質(zhì)，在清洗之前必須用酒精將雜質(zhì)

23、擦 去。鍍膜玻璃不可返工處理，如果基片表面沒有清洗干凈，將造成不可挽回的損 失。4 鍍膜設(shè)備及工藝流程我公司鍍膜設(shè)備是引進(jìn)德國VACT真空磁控鍍膜玻璃生產(chǎn)線，屬于當(dāng)今世界最先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備?？梢陨a(chǎn)的玻璃厚度為219mm，最大尺寸為2540*4600，是中國目前可生產(chǎn)最大尺寸玻璃的生產(chǎn)線。其生產(chǎn)工 藝流程為：上片（手動或自動）一-清洗三遍（拋光、自來水清洗、純水清洗）看片臺（檢測基片外觀缺陷） 緩沖室 鎖氣室 控氣室 > 真空室（磁控濺射鍍膜室）一-控氣室一-鎖氣室一-緩沖室一-在線光 度計測顏色后清洗在線檢驗（外觀檢測）下片成品、半 成品包裝一、鍍膜玻璃的特點1. 熱反射玻璃的特

24、點：通過鍍不同薄膜，控制對太陽直接輻射的反射、透過和吸收，達(dá)到調(diào)節(jié)熱量傳遞的目的。熱反射鍍膜玻璃具有各種各樣的顏色，熱反射玻璃有以 下特點：1. 1能有效控制太陽直接輻射能的入射量。在夏季白天太陽直接照射時，與普通透明玻璃相比， 可將向室內(nèi)傳遞的太陽輻射熱減少15%-70%;1. 2豐富多采的反射色調(diào)和極佳的裝飾效果；1. 3良好的遮避作用；1. 4能減弱紫外光的透過。2. Low-e玻璃的特點：低輻射鍍膜玻璃，是一種對遠(yuǎn)紅外線具有較高反射比的鍍膜玻璃，也 具有陽光控制功能，稱為陽光控制低輻射玻璃。功能材料主要是金屬銀，離線Low-E玻璃表面輻射率要求低于0.15。所謂“低輻射”是因為鍍膜層具有極低的遠(yuǎn)紅外表面輻射率而得名。在遠(yuǎn)紅外區(qū)域，輻射率 =吸收率。透過率 +吸收率+反射率=1,而透過率=0， 所以輻射率+反射率=1。因LOW-E膜層的輻射率極低，故其遠(yuǎn)紅外反射率 極咼。低輻射鍍膜玻璃具有以下特點：2. 1極低的表面輻射率(E< 0.15 ),極高的遠(yuǎn)紅外(熱輻射)反射率，可 降低熱量的傳遞速度。2. 2在保證低輻射功能的條件下，可調(diào)節(jié)可見光的透過率和反射率，以適 應(yīng)不同地區(qū)的需要。2. 3LOW-E玻璃膜層顏色屬于干涉色，因此可以調(diào)出豐富多彩的顏色。2. 4金屬銀在空氣中極易氧化，因此LOW-E玻璃必須做成中空玻璃等復(fù)合產(chǎn)品使用。由