電池制造工藝硅片化學(xué)腐蝕

1、電池制造工藝硅片化學(xué)腐蝕為什么要進(jìn)行化學(xué)腐蝕？為什么要進(jìn)行化學(xué)腐蝕？ 硅片在切片和研磨等機(jī)械加工之后，其表面因加工應(yīng)力形成一層損傷層及污染 對(duì)硅片進(jìn)行化學(xué)腐蝕有哪些手段？ 酸性腐蝕 堿性腐蝕酸性腐蝕的原理是什么？酸性腐蝕的原理是什么？ 常用的酸性腐蝕液，通常由不同比率的硝酸（HNO3）,氫氟酸（HF）及緩沖液等組成，其腐蝕的機(jī)理為：1.利用硝酸（HNO3）氧化硅片表面 Si+2HNO3SiO2+2HNO2 2HNO2NO+NO2+H2O2.利用氫氟酸（HF）與氧化硅生成可溶于水的絡(luò)合物 SiO2+6HFH2SiF6+2H2OHF/HNO3體系化學(xué)品濃度與其腐蝕速率關(guān)系？體系化學(xué)品濃度與其腐蝕速

2、率關(guān)系？ 若HF含量多，則腐蝕速率受氧化反應(yīng)控制.u氧化對(duì)硅片晶向，攙雜濃度和晶體缺陷較敏感 若HNO3含量多，則腐蝕速率受反應(yīng)生成物溶解速率的限制u溶解過(guò)程是一種擴(kuò)散過(guò)程，會(huì)受到液體對(duì)流速度的影響HF/HNO3體系腐蝕設(shè)計(jì)的原則？體系腐蝕設(shè)計(jì)的原則？ 腐蝕速率的可控性 某種表面結(jié)構(gòu)特殊工藝需求，如多晶絨面制作 尋求添加劑，使腐蝕速率更可控，可滿足高產(chǎn)能的需求HF/HNO3體系中的添加劑有什么作用？體系中的添加劑有什么作用？ 緩沖腐蝕速率 改善表面濕化（Wetting）程度 加速腐蝕速率目的可采用化學(xué)藥品原因緩沖腐蝕速率水（H2O）,醋酸（CH3COOH）,磷酸（H3PO4） 濃度稀釋加速腐蝕

3、速率亞硝酸鈉（Na2NO2）,氟硅酸（H2SiF6）反應(yīng)中間產(chǎn)物HF/HNO3體系的緩沖添加劑選擇條件？體系的緩沖添加劑選擇條件？ 在HF/HNO3中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定 在腐蝕過(guò)程中，不會(huì)與反應(yīng)產(chǎn)物發(fā)生進(jìn)一步反應(yīng) 可溶解在HF/HNO3之中 可以濕化晶片表面 不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)泡沫堿性腐蝕的原理是什么？堿性腐蝕的原理是什么？ 常用的堿性腐蝕化學(xué)藥品為KOH或NaOH，其腐蝕的機(jī)理為： Si+2KOH+H2O K2SiO3+2H2堿腐蝕速率影響因素？堿腐蝕速率影響因素？ 表面懸掛鍵密度，與晶向有關(guān) 化學(xué)濃度 溫度 表面機(jī)械損傷硅片在化學(xué)腐蝕后的表面特性？硅片在化學(xué)腐蝕后的表面特性？ TTV（Total Th

4、ickness Variation） TIR（Total Indicator Reading） 粗糙度（Roughness） 反射度（Reflectivity） 波度（Waviness） 金屬含量太陽(yáng)能電池中的硅片化學(xué)腐蝕硅表面制絨和邊緣刻蝕為什么要制作絨面？為什么要制作絨面？ 光在非垂直入射至硅表面，會(huì)發(fā)生反射現(xiàn)象，為了降低光反射，增強(qiáng)光吸收，需要在硅表面形成絨面 為什么降低反射會(huì)增加光的吸收因?yàn)樾枰獫M足能量守恒定律光反射光吸收光透射光總能量堿腐蝕在絨面制作上的應(yīng)用？堿腐蝕在絨面制作上的應(yīng)用？ 利用KOH或NaOH在腐蝕單晶硅片時(shí)在不同晶向腐蝕速率的差異性 不同晶向的刻蝕速率為 不同晶向腐蝕速率的差異（各向異性腐蝕）與什么有關(guān)？ 溶液濃度，有關(guān)系，但關(guān)系不大，因?yàn)楦g過(guò)程受表面過(guò)程控制 溫度,溫度越低，腐蝕速率差異越大 添加劑，如異丙醇IPA，通常用來(lái)減緩刻蝕速率化學(xué)腐蝕在表面拋光處理上的應(yīng)用化學(xué)腐蝕在表面拋光處理上的應(yīng)用 什么是拋光？ 拋光指形成完全反射的表面，即鏡面 化學(xué)拋光的原理？ 對(duì)硅片表面的均勻刻蝕 拋光化學(xué)藥液的配置 通?？梢允褂肏F/HNO3或KOH溶液化學(xué)腐蝕在邊緣刻蝕上的應(yīng)用？化學(xué)腐蝕在邊緣刻蝕上的應(yīng)用？通常使用HF/HNO3體系，利用其各向同性腐蝕特性，可以在特定設(shè)備條件下