熱阻蒸發(fā)儀配置和技術(shù)指標(biāo)

1、熱阻蒸發(fā)儀配置和技術(shù)指標(biāo)一.設(shè)備概述：主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等應(yīng)用。真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，配3組蒸發(fā)源。適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鋰電池、有機(jī)膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；2. 適用于傳感器、電池、LED等的研究和實(shí)驗(yàn)；3. 適用于有機(jī)材料等蒸發(fā)；4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等；5. 適

2、用于掃描電鏡制樣等二.設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：1.真空腔室：304真空專用不銹鋼，L400W440H450mm，方形前開(kāi)門結(jié)構(gòu)；2.真空系統(tǒng)：復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空擋板閥，“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；3.真空指標(biāo)：極限真空優(yōu)于6.610-5Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)），升壓率0.8Pa/h；4.抽速：空載從大氣抽至10-4 Pa45min；5.基片臺(tái)：抽屜式結(jié)構(gòu)，承載最大小于120120mm基片；電機(jī)驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速度020轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)；手動(dòng)升降，升降高度080mm；可根據(jù)要求定制1種掩膜板（提供掩膜圖案）；6.基片臺(tái)加熱：加熱溫度：300，PID智能溫控閉環(huán)控制；7. 蒸發(fā)源：金屬

3、源:水冷銅電極 3組；逆變式蒸發(fā)電源，功率 3kW，1臺(tái)；配3組氣動(dòng)擋板及源間防污隔板；8.膜厚控制系統(tǒng)：選配高精度晶振膜厚儀在線監(jiān)測(cè)、控制膜厚；9.控制方式：PLC+觸摸屏控制方式；10.報(bào)警及保護(hù)：對(duì)泵、電極等缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。11. 保修期：整機(jī)保修叁年，終身維修服務(wù)。三.設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)述：1.真空腔室（1） 結(jié)構(gòu)：采用立式、圓形前開(kāi)門結(jié)構(gòu)，方便取、放樣品及真空腔室日常維護(hù)；（2） 材料及尺寸：采用304真空專用不銹鋼，400H450；所有焊縫連接均采用氬弧自動(dòng)焊接技術(shù)；鍍膜腔室（包括管道、連接法蘭等）均進(jìn)行清潔處理，內(nèi)表面

4、拋光，外表面電拋三項(xiàng)處理，以減少“出氣”量，有利于真空度的提高及耐腐蝕；（3） 主要接口裝配位置：預(yù)留接口：四個(gè)（CF35,LF26），膜厚監(jiān)控及拓展功。2. 基片臺(tái)（1） 基片臺(tái)：不銹鋼抽屜式結(jié)構(gòu)，承載最大小于120120mm基片；基片臺(tái)可從基片架組件中取出，方便用戶安裝基片；（2） 配有氣動(dòng)基片臺(tái)擋板；（3） 電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)，轉(zhuǎn)速0-20 rpm；主軸磁流體密封；（4） 手動(dòng)升降樣品臺(tái)：可有效提高貴重材料利用率及膜厚（焊接波紋管密封，蒸發(fā)源到樣品垂直距離230-300mm可調(diào)）；（5） 基片臺(tái)加熱：最高加熱溫度300，采用1.5KW金屬鎧裝加熱器及金屬反射板上整體安裝于基片臺(tái)背部對(duì)基片

5、進(jìn)行平行輻射加熱，采用熱電偶測(cè)溫、PID智能溫控儀控制；加熱器加熱范圍大于基片外沿50mm，保證樣片處于等溫加熱區(qū)內(nèi)，溫度均勻性5；（6） 標(biāo)準(zhǔn)基片臺(tái)配夾具，方便裝卡不同規(guī)格的基片，基片臺(tái)可按照用戶要求個(gè)性化定制。3蒸發(fā)源及電源（1） 六組蒸發(fā)源及擋板接口圓周均布；（2） 金屬蒸發(fā)源：3組，金屬蒸發(fā)源采用銅水冷蒸發(fā)電極及舟式或錐形坩堝式，（3） 最高蒸發(fā)溫度：室溫1300（真空狀態(tài)）；（4） 金屬蒸發(fā)電源：功率3KW 1臺(tái)；特點(diǎn)：電流通過(guò)逆變式調(diào)控，穩(wěn)定可靠。電源可切換供3組電極分時(shí)蒸鍍；（5） 蒸發(fā)源配3組氣動(dòng)擋板及源間防污隔板；（6） 蒸發(fā)舟配件：鉬舟20個(gè)；石英坩堝10只。4.真空系統(tǒng)（

6、1） 真空機(jī)組采用“復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵”準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)；（2） 復(fù)合分子泵：FF200/1200C,抽速1200 L/S；（3） 機(jī)械泵型號(hào)：TRP-36,9L/S，直聯(lián)旋片泵，內(nèi)置擋油閥；（4） 真空閥門：主閥GDQ-S200, 氣動(dòng)高真空擋板閥；（5） 前級(jí)閥/旁路閥：GDQ-J40；（6） 真空測(cè)量：“兩低一高”（兩只電阻規(guī)測(cè)量低真空，一只電離規(guī)測(cè)量高真空） 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍從1105Pa到110-5Pa；（7） 真空密封：可拆靜密封采用氟橡膠圈密封；不常拆靜密封。5.強(qiáng)制水冷報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)（1） 總進(jìn)水與總出水接制冷循環(huán)水機(jī)，水溫需控溫范圍10-25 。給電極、分子泵、提供穩(wěn)

7、定的制冷循環(huán)水，保證設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行；（2） 水路：標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)出水口及水排分配，保障循環(huán)供水到每個(gè)水冷部件；（3） 水壓傳感器：1套，總進(jìn)水采用水壓繼電器檢測(cè)供水及水壓狀態(tài)，執(zhí)行異常報(bào)警。6. 薄膜厚度監(jiān)控系統(tǒng)設(shè)備系統(tǒng)安裝有薄膜厚度監(jiān)控系統(tǒng)，可精確控制蒸發(fā)過(guò)程中沉積薄膜的厚度。膜厚儀探頭接口從真空腔室預(yù)留CF35 法蘭引入；晶振探頭安裝在靠近基片臺(tái)附近，用以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)鍍膜速率和終厚，精度可達(dá)1（0.1nm）。具備與電源聯(lián)鎖控制功能，若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度，可自動(dòng)切斷電源，停止鍍膜，實(shí)現(xiàn)自控膜厚之目的。7.電氣控制系統(tǒng)（1） 電氣控制系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏控制抽真空系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)一鍵式抽真空，蒸發(fā)鍍膜電源采

8、用手動(dòng)控制，以方便用戶進(jìn)行鍍膜工藝參數(shù)的摸索；（2） 控制內(nèi)容：總供電、分子泵、機(jī)械泵、閥門；分子泵電源參數(shù)顯示及開(kāi)關(guān)控制；真空計(jì)參數(shù)顯示及控制；基片臺(tái)轉(zhuǎn)速控制；基片加熱溫度控制等；（3） 安全保護(hù)報(bào)警系統(tǒng)：在缺水、水壓過(guò)低、電源過(guò)流、短路等異常情況執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。8.機(jī)架與控制柜約L1650W750H1800一體化設(shè)計(jì)，只留前開(kāi)門，鋁型材及碳鋼制作，表面噴塑處理，支撐真空腔體、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)，底下配腳輪，方便移動(dòng)、定位。四. 設(shè)備配置序號(hào)系統(tǒng)/部件型號(hào)/參數(shù)數(shù)量1真空腔室L400W440H450mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼（方箱型）1套80 mm 配磁力檔板1

9、套腔室防護(hù)板1套2旋轉(zhuǎn)升降基片臺(tái)抽屜式結(jié)構(gòu)，承載最大120120mm基片電機(jī)驅(qū)動(dòng)主軸磁流體密封，手動(dòng)調(diào)節(jié)高度，0-80mm高度可調(diào)（可按用戶要求定做一套掩膜板）1套基片臺(tái)加熱鎧裝加熱器，最高加熱溫度300，日本島電溫控儀控溫及熱電偶加熱電源閉環(huán)精確控溫1套基片臺(tái)擋板電氣動(dòng)控制開(kāi)合式1套3金屬蒸發(fā)源及電源水冷蒸發(fā)電極 6根組成3組3組蒸發(fā)源配擋板，防止交叉污染3套金屬蒸發(fā)電源：功率3kW1臺(tái)有機(jī)蒸發(fā)束源式有機(jī)蒸發(fā)源，石英坩堝容量2CC，角度可調(diào)傾斜指向基片臺(tái)2組PID智能控溫式蒸發(fā)電源：功率1kW 2組源擋板每組獨(dú)立擋板，源間有隔板5組蒸發(fā)舟/坩堝鉬舟20個(gè)；石英坩堝10只。1批4真空系統(tǒng)復(fù)合分子泵：FF200/1200C1臺(tái)機(jī)械泵：TRP-361臺(tái)前級(jí)/旁路閥GDQ-J402臺(tái)高真空擋板閥：GDQ- S200 1臺(tái)放氣閥：6mm，電磁截止閥1只數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)：二低一高1臺(tái)波紋管、材質(zhì)：SUS304不銹鋼1套密封件、連接件及其附件1套5水路系統(tǒng)水排：SUS304不銹鋼，6進(jìn)6出1套水壓繼電器，缺水報(bào)警1套6冷卻循環(huán)水水溫不高于 25，水壓0.20.4MPa，流量12 升/分鐘1套7氣路系統(tǒng)電接點(diǎn)壓力表氣路分配單元1套8膜厚控制系統(tǒng)薄膜厚度監(jiān)控儀，F(xiàn)TM106，單探頭，原裝晶振片一盒1套9電氣控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏控制方式；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)1套10易損件常