有限元上機報告二

1、ANSYST限元上機報告二班級：T1043-2學號：20100430245:顏雷題目：圖示正方形平板，板厚t=0.1m,材料常數(shù)為：彈性模量，承受垂直于板平面的均布載荷p=20kN/m2,平板外緣各邊采用固定的約束方式.1、屬于那類力學問題：屬于薄板彎曲問題2、單位制：N,m,pa單元類型：shell4node63,每個單元有四個節(jié)點，每個節(jié)點4個自由度。實常數(shù)：材料常數(shù)：1MainMenu>Preferences>structural2MainMenu>PreprocessorElementType>Add/Edit/Delete>Add>structur

2、alshell>4nodes63>OK34MainMenu>Preprocessor>MaterialProps>MaterialModels>Structural>Linear>Elastic>Isotropic3、通過如下操作生成實體模型：1MainMenu>Preprocessor>Modeling>Create>Areas>Rectangle>ByDimensionsX1=-2,X2=2Y1=-2,Y2=22MainMenu>Preprocessor>Modeling>Creat

3、e>Lines>LinesFillet選擇直線L1,L2Apply,形成一個圓角，同樣方式形成4個圓角Plot>lines3MainMenu>Preprocessor>Modeling>Create>Areas>Arbitrary>Byline將四個圓角與直角間的部分形成面4MainMenu>Preprocessor>Modeling>Create>Areas>Circle>SolidCircleWPX=0,WPY=0R=1形成圓5MainMenu>Preprocessor>Modeling&

4、gt;Opreate>Blooeans>Subtract>Areas通過布爾減運算形成實體如圖4、執(zhí)行網格劃分：MainMenu>PreprocessorMeshing>MeshTool>>Mesh>PickAll>OK網格劃分圖如下：ANmi.42J&1Z5、施加載荷及邊界條件：施加邊界條件：MainMenu>Solution>Define-Loads>Apply>Structural>Displacement>OnLines>AllDOF>OK施力口載荷：MainMenu>S

5、olution>Define-Loads>Apply>Structural>Pressure>OnAreas>value=20000載荷施加圖如下：6、求解并找出最大應力點及最大變形位置1MainMenu>Solution>Solve>CurrentLS>OK2MainMenu>GeneralPostprocfPlotResultsfContourPlotfNodalSolu-vonMeect:stress3MainMenu>GeneralPostproc>QueryResults>SubgridSolu>

6、;Stress>vonMisesSQEV>在對話框中點擊max>OK應力變形圖如下：ANnTra竽件,1¥口融g丸:+*?-S*!E4j(F?_亨#星+跳？右=鼎昌+配？*苗勺療g.士般？EHDra.鋁'EE：寸解？.蝎*E*赳？.&7SE4J»7靛雷最大應力值為0.578e+07Pa4MainMenu>GeneralPostprocPlotResultsContourPlotNodalSoluselect:DOFsolution>Displacement5MainMenu>GeneralPostproc>Query

7、Results>SubgridSolu>DOFsolution>USUM>在彈出的對話框中點擊max>OK找出變形位置如圖：1胤螺工支值nituSUB =1工期帆 £詢醐W =.1越-£3*=J用理一£3最大位移點0.144e-3mANnix.3 2.JK12C府e&T事工.心斯席-且闡NWEm泮石患E-D制心HE-2.ISflFE-M一碼嚶升國-耳電.好證心£：任旦工3鄉(xiāng)E-冊M,工理可在一期三7、考慮對稱性計算最大應力和位移：由于約束對稱，載荷對稱，所以取最大位移值為0.144e-3m1/4研究，邊界條件與約束施加如下列圖:IL碑EMC與ANDEC上詡？意窗此時解得的最大應力點如圖:最大應力點最大應力值為44e+7pa位移變形圖如圖最大位移值為0.144e-03m通過上述圖形比照分析結果如下表:結構分析最大應力值pa最大位移值m整體結構0.578e+070.144e-03取對稱的1/40.644e+070.144e-038、結論：考慮對稱與不對稱應力和位移有誤差存在，以整體