MetChem藥水之性能及維護_第1頁
MetChem藥水之性能及維護_第2頁
MetChem藥水之性能及維護_第3頁
MetChem藥水之性能及維護_第4頁
MetChem藥水之性能及維護_第5頁
已閱讀5頁,還剩42頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、HLHC - MetChemCompany Profile1MetChem藥水之性能及維護2Product Lines 產品Pretreatment Chemistries forAluminum 鋁合金基材前處理化學品MetChem 500Zincate鋅置換MetChem S452 Non-silicate Soakcleaner中性脫脂劑MetChem A130Acidic Aluminum Etchant 酸性侵蝕劑High phosphorusEN高磷化學鎳MetChem 8728 MetChem 8730 (Smart)MetChem 8733 MetChem 7702 (Smar

2、t)3Product Lines 產品MetChem 8601MetChem 8612MetChem 8608(專門用於端子)Medium phosphorus EN中磷化學鎳MetChem 2678MetChem 6728MetChem 6788MetChem 6736(Smart)MetChem 6602MetChem 66124Product Lines 產品Low phosphorusEN 低磷化學鎳 MetChem 2654Nickel BoronEN 鎳硼合金化學鍍MetChem 7617MetChem 7619Specialty chemicals 專屬化學品鎂合金化學鍍鎳WT-

3、25化學鎳廢液處理劑POST DIP 100POST DIP100 NF 無鉻鈍化劑Neutral nickel for Zinc Alloy ZD 101鋅合金預鍍中性鎳 (Cadmium free and Lead free無鉛無鎘環(huán)保型)5MetChem2654 產品特性 高硬度低磷化學鎳 優(yōu)異的耐磨性 高硬度鍍層 卓越的耐蝕性(鹼性環(huán)境) 傑出的釺焊性 穩(wěn)定一致的低磷含量 產品組分 A 綠色 建浴和補充使用 主要含硫酸鎳 B 無色或淡黃色 建浴使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸等 C 無色 補充使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸、醋酸鈉等 鍍層特性 鎳含量 :96 99% 磷含量 :1 - 4%

4、硬度 :60 62 RC ;66 68 RC 400 /hr 電阻 :20 30 micro-ohm/cm 中性鹽水噴霧實驗 :250 小時;厚度 1 mil (ASTM B-117) 磁性 :略具磁性 ;磁性 290 /hr 熔點 :1100 密度 :8.5 8.8g/cc 電導度 :通過 (ASTM B-489)6MetChem2654控制專案操作範圍最佳操作值鎳金屬含量5.1 - 6.9 (g/ L)6.0 (g/L)次亞磷酸鈉含量19 - 26 (g/L)22.5 (g/L)溫度71 - 88 根據實際應用PH值7.0 7.57.2承載率(dm2/L)0.2 - 2.01.0沉積速度(

5、ms/hr)12- 1815攪拌迴圈連續(xù)機械或溶液攪拌迴圈過濾 5 微米或以下濾心, 每小時過濾迴圈六個槽液MetChem 2654 A5 % v.v.MetChem 2654 B15 % v.v.DI 水80 % v.v.建浴組成操作條件7MetChem6788 產品特性 無鉛無鎘環(huán)保全光亮型中磷化學鎳 優(yōu)異且均勻一致的光亮性 卓越的溶液穩(wěn)定性 對鋁材作用時間長 1:1的補充添加 對污染物的高度容忍能力 產品組分 A 綠色 建浴和補充使用 主要含硫酸鎳 B 無色或淡黃色 建浴使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸等 C 無色 補充使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸、醋酸鈉等 鍍層特性 鎳含量 :91 94%

6、 磷含量 :6 - 9% 硬度 :48 54 RC ;66 68 RC 400 /hr 電阻 :35 80 micro-ohm/cm 中性鹽水噴霧實驗 :250 小時;厚度 1 mil (ASTM B-117) 磁性 :略具磁性 ;磁性 290 /hr 熔點 :880 1100 密度 :8.12 8.39 g/cc 電導度 :通過 (ASTM B-489)8MetChem6788MetChem 6788 AM6 % V by VMetChem 6788 B15 % V by V去離子水79 % V by V建浴組成操作條件9MetChem6788MetChem6788 A 鎳離子濃度=100g

7、/LMetChem6788 B 次亞磷酸鈉濃度=233g/LMetChem6788 C 次亞磷酸鈉濃度=480g/L溶液補充: MetChem6788 A : MetChem6788 C= 1:1 pH調整: 25%氨水該藥水沉積之鍍層亮度較高,溶液中相對光劑含量較高,在新建浴時需要工件活化處理或採用提高操作溫度的方式來激活。溶液可承受之裝載量較高。10MetChem8728產品特性 MetChem 8728 是MetChem(麥肯)公司的一種無鉛、鎘的無電解 鎳高 磷化學產品, 其鍍層含磷量可通過調節(jié)其PH值、溫度等控 制10.513%。其鍍層為非晶結構,含磷量10.5%,且其鍍層中的磷分佈

8、的非常均一(經化學分析其均值約差異約為0.5%)。此特性對於其延展性、耐 蝕性有著至關重要的作用。 MetChem 8728的鍍層符合ELV Directive 2000/53/EC, WEEE 2002/96/EC and RoHS 2002/95/EC的要求。無鉛、鎘滿足最新ROHS要求 一致的高磷含量出色的耐腐蝕性能 低應力沉積層鍍層抗污染 卓越的穩(wěn)定性良好的延展性 適合高厚度的要求良好的光滑、耐磨性 無磁性積層11MetChem8728 鍍層特性 鎳含量 :87 89.5% 磷含量 :10.5 - 13% 硬度 :46 47RC ;66 68 RC 400 /hr 電阻 :70 100

9、 micro-ohm/cm 中性鹽水噴霧實驗 :1000小時;厚度 1 mil (ASTM B-117) 磁性 :無磁性 ;磁性 290 /hr 熔點 :880 密度 :7.75g/cc 電導度 :通過 (ASTM B-489) MetChem8728 A 鎳離子濃度=133g/LMetChem8728 B 次亞磷酸鈉濃度=233g/LMetChem8728 C 次亞磷酸鈉濃度=566g/L溶液補充: MetChem8728 A : MetChem8728 C= 1:1.3312MetChem8728MetChem 8728A4.5 % V / VMetChem 8728 B15 % V /

10、V去離子水80.5 % V/ V建浴組成操作條件13MetChem8728為了得到卓越的鍍層結構及穩(wěn)定的沉積速率,其PH值和溫度必須很好的被控制在使用範圍之內。從以下PH&溫度的關係曲線開業(yè)很好的看出其間影響關係(其曲線是在鎳含量、次亞磷酸鈉在最佳值時所繪)。 Fig. 1 The curve for the parameters of pH and T with increasing MTO Fig.2-Effection pH on phosphorus of deposition pH值得變化對NI-P合金鍍層結構起著很大的作用,從圖2可以很好的反映出。無電解NI-P合金鍍層的結構很大程

11、度決定著其的化學、物理性質。從以往經驗得出,鍍層磷含量大於10%時,其鍍層有以下性: 低應力,壓力低甚至為零;耐蝕性好,空隙率低;無磁性積層14MetChem8608 產品特性 MetChem8608為一款高磷無電解鎳藥水,專門為空氣壓縮機接綫端 子電鍍設計。鍍層為三元合金Ni、Sn、P,因而鍍層有著良好的耐蝕性和優(yōu)異的釺焊性。該化學鎳藥水有以下特點: 良好的耐蝕性 優(yōu)異的釺焊性 藥水穩(wěn)定性好 鍍層亮度一致 使用週期長 完全環(huán)保 產品組分 A 綠色 建浴和補充使用 主要含硫酸鎳 B 無色或淡黃色 建浴使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸等 C 無色 補充使用 主要含次亞磷酸鈉、乳酸、醋酸鈉等15Met

12、Chem7619 產品特性 MetChem7619是爲提供在功能性和工程應用中要求硬度極高的化學鎳鍍層而專門研製的化學鍍鎳過程。其鍍層硬度接近於硬鉻 鍍層的水平。通過此過程,將使要求高硬度而不進行熱處理的應 用從中受益。7619鍍層所具有的特性是電子工業(yè)所需要的。其鍍層的高熔點(大約1400C)和良好的傳導率非常適合應用於電子領域 超高硬度鍍層 優(yōu)異的耐磨性 卓越的焊接性 均勻的半光亮鍍層 超長的 使用週期 產品組分 A 綠色 建浴和補充使用 主要含硫酸鎳 B 無色或淡黃色 建浴使用 C 無色 補充使用 R 無色 建浴和補充使用 主要含DMAB二甲基胺硼烷 鍍層特性 鎳含量 :95 99% 硼

13、含量 :1 - 5% 硬度 :60 62 RC 電阻 :20 30 micro-ohm/cm 磁性 :略具磁性 ;磁性 290 /hr 熔點 :1455 密度 :8.83 8.87g/cc 電導度 :通過 (ASTM B-489)16MetChem7619控制專案操作範圍最佳操作值鎳金屬含量5.4 - 6.6 (g/ L)6.0 (g/L)DMAB含量2.0 - 3.0 (g/L)2.5 (g/L)溫度66- 74 68 pH值6.2 - 6.86.6承載率(dm2/L)0.5 - 2.51.0沉積速度(ms/hr)5.1- 7.66.0攪拌迴圈連續(xù)機械或溶液攪拌迴圈過濾 5 微米或以下濾心,

14、每小時過濾迴圈六個槽液鍍液壽命鐵材鍍件:8 10 MTO;鋁材鍍件:5 7 MTOMetChem 7619 A6.0 % v.v.MetChem 7619 B20.0 % v.v.MetChem 7619 R2.8 % v.v.DI 水71.2 % v.v.建浴組成操作條件補充時,將7619A、7619C和7619R溶液按照1:1:1.5比例直接加入到工作槽液中17MetChem ZD-101預鍍中性鎳配合劑 產品特性 該系列中性預鍍鎳主要應用在活性金屬表面處理的底層,例如:鋅合金、鋁合金、釹鐵硼等;具有鍍層緻密性好、光澤度高、鍍液耐雜質性能佳等特點??@密均勻的鍍層優(yōu)越的覆蓋能力簡易的使用方法

15、廣泛的應用領域組分作用 MetChem ZD101A 開缸及調整槽液使用 MetChem ZD101B 開缸及調整槽液使用 MetChem ZD101C 提高鍍層的光亮度18MetChem ZD-101預鍍中性鎳配合劑 ZD101應用于鋅合金 傳統(tǒng)工藝:前處理氰化鹼性鍍銅焦磷酸鍍銅酸銅鍍光亮鎳 (化學鍍鎳) 環(huán)保工藝:前處理中性預鍍鎳鍍光亮鎳(化學鍍鎳) 優(yōu)勢 環(huán)保優(yōu)勢 全面取代氰化物,減少污染 技術應用範圍廣 適用於各種鋅合金包括含銅量超過0.25% 工藝流程簡化 減少工序,降低成本 穩(wěn)定的電鍍液體系保證良好的產品品質 鍍層不易起泡19自動分析Controller (Model 1101)

16、功能特點 同時監(jiān)控多項參數 設有安全警報提示 安裝簡便,操作簡單 實時記錄,及時反饋 使用壽命長1101型控制器可以分析監(jiān)測槽液的濃度、pH及週期。當需要的時候,它可以控制藥水組分和中和劑的補充,以維持槽液在適當的操作範圍內;它也可以記錄槽液的週期,各種藥品補充的體積,這個紀錄可以用於計算生產成本并時刻監(jiān)控藥水的使用狀況.20藥水添加設備NES 加藥系統(tǒng) 功能特點 精密的PLC控制電路 補加及時,定量準確 安裝簡便 自動和手動兩種模式 材質具有耐酸鹼性NES加藥系統(tǒng)為獨立的添加系統(tǒng),可與1101或其他分析系統(tǒng)搭配使用,亦可單獨手動操作控制。其設有手動和自動兩種模式,自動模式據分析系統(tǒng)Contr

17、oller Model 1101提供的信號施行準確定量補加化學鍍鎳液;手動模式可以根據產線特殊需要對化學鍍鎳液進行相應當量的補加。21分析及溶液調整規(guī)范建浴 當開新槽時,必須在工件進槽之前分析并調整好鎳離子濃度、次亞磷酸鈉的濃度及pH值;鎳離子及次亞磷酸鈉的濃度與標準值的百分比須要達成一致(建浴時盡量調整鎳濃度及次亞磷酸鈉至標準值,即6g/L及35g/L),開槽時兩者濃度上限為6.18g/L、36.15g/L,高于這一值則需取出一部分槽液,并進行調整。例:a.實驗室分析出Ni=5.87g/L,次亞磷酸鈉=33.5g/L 調整方案(假定EN槽體積為V L):MetChemAM添加量=(6-5.8

18、7)V/133, MetChemB添加量=(35-33.5)V/23322建浴b.實驗室分析出Ni=6.19g/L,次亞磷酸鈉=34.52g/L 鎳的百分比=6.19/6=103.2% 次亞磷酸鈉的百分比=34.52/35=98.6% 調整方案(假定EN槽體積為V L):此時103.2%103%,故須取出3.2%的鎳,取出溶液體積V1=3.2%V/103.2%,取出V1后鎳離子濃度等于6g/L,而次亞磷酸鈉的濃度=98.6%35100/103.2=33.44g/L MetChemB添加量=(35-33.44)V/233 Lc.實驗室分析出Ni=5.76g/L,次亞磷酸鈉=34.93g/L 鎳的

19、百分比=5.76/6=96% 次亞磷酸鈉的百分比=34.93/35=100% 調整方案(假定EN槽體積為V L):MetChemAM添加量=(100%-96%)6V/13323生產中調整1Ni濃度低,Hypo濃度高 Ni=5.8(96%) Hypo=40(114%) Add 4%Ni;run bath 5%,Ni 95%、Hypo 109%; Make a addition 5% Ni 2% Hypo, continue until the Ni=Hypo=100%2兩者均偏低 Ni=5.8(965),Hypo=30(86%) Make a addition 4% Ni, 14% Hypo24

20、3. Ni偏高,Hypo正好 Ni=6.5(108%)Hypo=35(100%) Run bath 4%,Ni104% Hypo96% Add 4% Hypo,then Hypo 100% Ni104% Run bath 4%,Ni100% Hypo96% Add 4% Hypo,then Hypo 100% Ni100%4. 兩者都偏高 Ni=6.5(108%) Hypo=40(114%) Run bath 5%,add 2%Hypo,then Ni103% Hypo111% Run bath 5%,add 2% Ni and 2% Hypo, then Ni100% Hypo108% Ru

21、n bath 5%,add 5% Ni and 2% Hypo, then Ni100% Hypo105% Run bath 5%,add 5% Ni and 2% Hypo, then Ni100% Hypo102% Run bath 5%,add 5% Ni and 3% Hypo, then Ni100% Hypo100%25倒槽分析控制倒槽之前取樣分析鎳離子濃度及次亞磷酸鈉濃度,并做好記錄。倒槽后在加入水至工作液位并循環(huán)半小時后,取樣分析鎳離子濃度。工作液的調整根據兩次分析值可計算出倒槽時損失的溶液體積V1,計算如下(槽體體積為V):倒槽前分析鎳離子濃度=5.91g/L,倒槽加水后分析

22、值=5.67g/L V1=(5.91-5.67)V/5.91V1為倒槽時損失的EN液的體積,故按開缸量添加AM及B,添加量: MetChem AM添加量=V16% MetChem B 添加量=V115%加藥循環(huán)半小時后,取樣分析鎳濃度及次亞磷酸鈉濃度,再將分析值與標準值相除,得到的百分比是否相差超過3%,如大于3%,則應做相應的添加調整(調整方法見生產中鎳濃度控制)。調整完畢后,開啟自動控制器,自動調整至操作規(guī)范值,再開始做料。 在鎳濃度及次亞磷酸鈉濃度調整完畢后,測定溶液的pH,并與標準設定值(即在不同MTO,設定的pH控制點)對比,相差是否大于0.03,根據情況適當補加氨水調整pH。26添

23、加注意添加藥水時,應緩慢倒入槽中,使藥水與槽液均勻混合。避免局部濃度過高引起白化(鄰亞磷酸鎳沈積,pH過高,鎳濃度過高,Hypo過多,螯合劑相對變少)。兩種藥劑添加位置應保持距離,以免兩種濃縮液直接混合,引起槽液不穩(wěn)定。添加藥水時注意不要澆到工件上,以免産生跳鍍或鍍層粗糙。添加時兩種藥水比例要正確,以免槽液成份比例失調。不進行添加時,C劑藥水最好密封保存,以免氨氣揮發(fā),喪失調節(jié)pH值的功能。油抽不要共用,以免藥水相互污染。冬天A劑如有結晶(10),屬正常現象,開封前請放溫水中(50)裏溶解。一次性添加藥水的用量不宜超過開槽時A劑用量的10%,如過需添加超過10%的量,應少量多次添加爲原則。否則

24、會導致槽液穩(wěn)定劑過量。27穩(wěn)定劑的消耗EN溶液中穩(wěn)定劑的消耗量是鎳離子的4倍,在藥水的使用過程中穩(wěn)定劑的補充很重要。在預鍍槽中穩(wěn)定劑的消耗量會更大,因爲鋁材表面的鋅置換層pH值很高,進入EN槽后反應很激烈,可能消耗的鎳含量並不多,但是消耗的穩(wěn)定劑的量卻很大。而EN溶液的補加是根據鎳離子的量來確定的,預鍍槽中鎳的含量減少不大,可能不會補加藥水,等到第二掛料進去之後同樣造成穩(wěn)定劑的量大大降低。如此以來溶液中穩(wěn)定劑的量會越來越少,最後只能導致問題的產生。注:Ni-正常鎳離子控制曲綫;Stablizers-正常穩(wěn)定劑的消耗與補加曲綫;Strike tank Stablizers-打底槽中穩(wěn)定劑的消耗與

25、補加曲綫。28Trouble Shooting29耐蝕性差分析30鍍層無光澤31落塵面粗糙32溶液分解氣體從鍍液內部緩慢地放出鍍液開始自行分解時,氣體不僅在鍍件的表面放出,而且在整個鍍液中緩慢而均勻地放出。氣體析出速度加劇出現上述情況的鍍液,若不及時采取有效的措施,則氣體的逸出速度會越來越快,會產生大量的氣泡,使鍍液呈泡沫狀。形成黑色鍍層或沉積物當化學鍍鎳液出現許多泡沫,鍍覆零件及器壁上就開始生成粗糙的黑色鍍層,或在鍍液中產生許多形狀不規(guī)則的黑色粒狀沉積物。鍍液顏色變淡鍍液在自行分解過程中,鍍液的顏色不斷變淡,例如含氨堿性化學鍍鎳液中,當發(fā)生自行分解后,鍍液的顏色由深藍色變成藍白色,與此同時還

26、可嗅到一股刺鼻的氨味,待氨味消失時,化學鍍鎳液已完全分解了。33影響鍍液不穩(wěn)定的主要因素鍍液的配比不當次亞磷酸鹽(還原劑)濃度過高提高鍍液中次亞磷酸鹽的濃度,可以提高沉積速度。但是當沉積速度達到極限時,繼續(xù)增加次亞磷酸鹽的濃度,不僅沉積速度提不高,反而會造成鍍液的自行分解。當鍍液中次亞磷酸鹽的濃度過高時,如果PH值也偏高,就會大大降低鍍液中亞磷酸鎳的沉淀條件,并造成工件表面上有許多顆粒狀。 鎳鹽的濃度過高提高鎳鹽的濃度,當鍍液PH值又偏高時,易生成亞磷酸鎳和氫氧化鎳沉淀,從而使鍍液混濁,極易觸發(fā)鍍液的自行分解,并造成工件表面上有許多顆粒狀。 絡合劑的濃度過低絡合劑的重要作用之一是能提高鍍液中亞

27、磷酸鎳的沉淀點。鍍液在鎳鹽濃度、溫度、PH值一定時,亞磷酸鎳在鍍液中的溶解度和沉淀點也是一定的。若溶液中絡合劑的濃度過低,隨著化學鍍鎳的進行,亞磷酸根將不斷地增加,會迅速達到亞磷酸鎳的沉淀點,從而出現沉淀的現象。這些沉淀物,將是鍍液自行會解的觸發(fā)劑之一,也是造成工件表面上有許多顆粒狀的原因之一。 PH值調整劑的濃度過高在鍍液其它成份不變的條件下,如果PH值調整過高,則也容易發(fā)生亞磷酸鎳和氫氧化鎳的沉淀,同時加速還原劑的分解,也是造成工件表面上有許多顆粒狀的原因之一。34鍍液維護方法不當 次亞磷酸鹽添加得太快在添加藥水時C劑添加得太快,會使鍍液局部的次亞磷酸鹽濃度過高,也會生成亞磷酸鎳的沉淀。

28、調整PH值不當或過高堿液加得太快,或堿液加得太多,會使鍍液局部的PH值過高,容易產生氫氧化鎳沉淀,并使工件表面產生許多顆粒。 添加的順序不當添加補充時按照先加C劑,再加氨水,最後加A劑的順序 補充后未進行充分攪拌當添加藥劑后要及時攪拌均勻。35化學鍍鎳液被污染兩類污染物影響化學鍍鎳液的污染物很多,除鍍液可過濾除去的固體微粒雜質外,污染物大致可分為兩類:有機污染物和無機污染物2. 有機污染物及其排除有機污染物可能來自未清浩處理的設備,如塑料襯里,過濾機以及某些工藝材料,如粘接劑、屏蔽劑等。來自前處理溶液帶入的污染物,如脫脂劑、殘存油類、脫膜劑、酸洗緩蝕劑等等。這類污染物會造成鍍層外觀發(fā)花、條索狀

29、氣帶,甚至喪失結合強度。鍍液中的有機污染物可使用活性炭吸收除去。但是,應注意活性炭處理后,補加鍍液中損失的有效的有機物成分,如:有機光亮劑、穩(wěn)定劑和絡合劑。另一個方面,應防止活性炭處理的二次污染,如未過濾掉的活性炭微粒和不合格的活性炭中的污染物的溶出等等。363. 無機污染物及其排除 陰離子型污染物(1)硝酸鹽來自硝酸鈍化化學鍍鎳槽后,因中和清洗不充分的殘留物。低濃鍍硝酸鹽污染物無明顯影響;但是,鍍液中硝酸濃度過高時,鍍速會降低,甚至造成停鍍。(2)硅酸鹽污染可能來自前處理清洗劑,其有害在于會在金屬表面形成凝膠膜,造成鍍層外觀發(fā)花、針孔。這些弊病,可以采用加強鍍前清洗的方法加以克服?;蛘?,干脆

30、不采用含硅酸鹽的清洗劑。 陽離子型污染物 (1)金屬離子污染物來自化學藥品及前處理溶液的帶入,基體金屬的溶解,清洗不良(甚至清洗用水本身已被污染)。金屬離子污染對化學鍍鎳的影響是深遠的,影響最為嚴重的金屬離子主要是鉛、鎘、銅、鉍、砷和鈀等。(2)鍍液中鉛離子來自含鉛的底金屬的溶解或者含鉛穩(wěn)定劑添加量的錯誤。鍍液中積累鉛離子濃度大于510-6g/L之后,會造成鍍層灰暗、漏鍍、停鍍、鍍液使用壽命短。37 (3)銅離子是有害的。當鍍液中銅離子濃度達到10010-6g/L時,會在鐵金屬工件表面生成置換銅,因而造成化學鍍鎳層結合強度變差的問題。在某些化學鍍液中,1510-6g/L的銅離子會造成鍍層變色。

31、鍍液中銅離子來源于兩個方面:一方面是銅質工件或掛具在鍍液中的溶解;另一個方面是前處理溶液中銅離子在鋼鐵工件的表面上生成置換銅,繼而在鍍液中的溶解。 (4)鎘離子污染通常來源于未退鍍干凈的曾經用于鍍鎘的吊架,受鎘離子污染過的前處理溶液,以及含鎘穩(wěn)定劑或光亮劑的添加量錯誤,鍍液中積累的鎘離子濃度超過期310-6g/L時,會造成鍍層灰暗,孔邊起皮和漏鍍。(5)鈣、鎂離子主要來源于工業(yè)用水,由于鍍液浴蒸發(fā)積累,鈣、鎂離子濃度太大時,會造成鍍層粗糙、發(fā)霧、針孔;甚至,如果鈣、鎂離子濃度過高而生成不溶物,則可能造成鍍液自發(fā)分解。防止鈣、鎂離子污染的辦法是使用去離子水,并經常檢查去離子水的純度質量。38 (

32、6)鈀離子污染來源于非金屬或非催化活性金屬鍍前活化、敏化溶液、如果清洗不干凈,帶入鍍液后將會引起鍍液自發(fā)分解。 用假鍍法除去重金屬污染物對于重金屬污染物,可用較大面積的電解鎳板,經活化洗凈后,進入鍍液中進行電解,以此去除重金屬離子。此法,即所謂的“假鍍”(dummy)?!凹馘儭焙?,應補充添加鍍液成分,以維持鍍液中各種化學成分都在工藝范圍內。39操作方法有問題1. 鍍液溫度 液溫過高或過低必須密切監(jiān)視鍍液溫度才能獲得穩(wěn)定的高質量的鍍層。因此,有必要采用精密溫度控制器;并使用合格的溫度計檢查溫度控制器,進一步核實控制溫度在正確范圍之內。若未經檢查,可能會因溫度過高而造成鍍液分解,也可能因溫度過低而

33、鍍速太慢。 鍍槽液溫不均勻由于加熱方式或鍍液循環(huán)過濾方式不均勻,造成鍍槽中上下或左右液溫有差別,對較大的鍍槽(如900L)而言,有時會高達58之差距,對于孔徑要求或對鍍層厚度要求都較嚴格時,由于液溫溫差較大,工件鍍層的一致性就差,而且會使工件因尺寸問題而造成報廢。 鍍液局部過熱在操作過程中,如果采用電爐、電加熱器、蒸汽直接加熱時,就會使鍍液局部溫度過高(超過工藝規(guī)定的溫度上限),PH值同時也偏高時,不僅鍍層粗糙,而且還容易引起鍍液分解。因此,即使PH值正常,鍍液直接加熱方式也是不可取的。402. 循環(huán)過濾 化學鍍液應保持循環(huán)過濾,循環(huán)量為每小時610倍鍍液容積,濾徑尺寸不大于5um,定期地更換

34、濾袋或濾芯,這樣,就可以減少甚至消除鍍層表面的粗糙問題。由于化學鍍是一/L種自催化沉積過程,如果鍍液中存在著固體微粒,輕則造成鍍層粗糙,重則引起鍍液自發(fā)分解,全部報廢,因此,除去鍍液中的固體微粒是很重要的事。3. 鍍液攪拌鍍液攪拌不良亦會引起質量問題。由于攪拌不良,工件表面鍍液流動為層流,傳質過程較慢,即參加瓜的物質到達工件表面以及反應產物離開工件的運動受阻,工件溶液界面狀況惡化,因而會造成鍍層氣孔、氣滯和鍍層外觀發(fā)化。良好的攪拌,無論是機械攪拌、清潔的壓縮空氣攪拌或者工件移動,對于獲得合作的鍍層是重要的。然而,過分地攪拌鍍液,也會造成鍍速下降,工件尖銳部位漏鍍等問題。4. 鍍液裝載量不當裝載

35、量過低或過高都會直接影響鍍層的沉積速度。特別是高速沉積時,所獲得鍍層比較疏松,鎳顆??赡軓腻儗用撀涞藉円褐?,形成自催化劑還原中心,促進鍍液自行分解的趨勢,而且在工件的表面上有許多顆粒生成。415. PH值測試不當一般,通過PH計和PH試紙測定鍍液的PH值。應當注意的是,某些PH試紙的讀數同PH計讀數相差可能高達0.5。在某些化學鍍鎳工藝中,由于鍍液中鹽離子效應造成PH值讀數不準。當化學鍍液老化時NH4+、Na+、K+、SO42、Cl等離子的積累都會造成溶液離子強度的改變。結果,PH值試紙對新鍍液的反應與對舊鍍液的反應不同。不僅如此,由于PH試紙制造方面的原因,不同廠商供應的PH試紙,對于同一化

36、學鍍鎳液的測量,讀數之間的差異高達0.5。因此,PH計測量的讀數比較準確,而PH試紙測量的讀數只能作參考。為了獲得可靠的測量結果,必須對PH計進行校正。影響PH計測量準確度的通常錯誤,是忽略了溫度對PH值的影響。首先,應當考慮校正溶液與被測化學鍍鎳液的溫度應一致,其次,¥應注意使用溫度補償。6. 裝掛工具架不合要求如果使用的裝掛工具架沒有很好地進行防腐處理,那么這些工裝掛具架就會在鍍液中緩慢地腐蝕,從而增加了鍍液中的雜質。這些雜質可能觸發(fā)鍍液的自行分解。裝掛工具架的掛鉤,沒有均勻地合理地排列,使得局部處工件超過11.2dm2/L的裝載量。裝掛工具架每一次施鍍后,退鎳不徹底。這些,都會使鍍液性能下降,工件上也可能出現氣泡等不良的品質。42空載現象引發(fā)翻槽的分析和改善正常做料生產過程中,槽液中鎳離子和槽液中的次亞、穩(wěn)定劑等會以一定比例進行消耗,因此通過補加含有鎳離子的A劑和含有次亞、穩(wěn)定劑的C劑用以維持槽液中各成分含量在適當范圍,從而保持槽液的穩(wěn)定。 當槽液處于空載狀態(tài)時,槽液中的鎳離子濃度不會消耗,但槽液仍處于高溫狀態(tài),槽液內部

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論