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1、第 PAGE10 頁 共 NUMPAGES10 頁2023年最新的最新材料現(xiàn)代研究方法 習(xí)題集-材料現(xiàn)代研究方法 第一章 X射線衍射分析 1、什么是X射線?什么是特征X射線(標(biāo)識X射線)譜?特征X射線可用于對材料進行哪兩方面的分析? X射線與可見光一樣,也是電磁波,其波長范圍在0.001nm100nm之間; 在X射線譜中,有若干條特定波長的譜線,這些譜線只有當(dāng)管電壓超過一定的數(shù)值時才會產(chǎn)生,而這種譜線的波長與管電壓、管電流等工作條件無關(guān),只決定于陽極材料,不同元素制成的陽極材料發(fā)出不同波長的譜線,因此稱之為特征X射線譜或標(biāo)識X射線譜。 特征X射線譜元素分析電子探針X射線顯微分析的依據(jù)。 2、根
2、據(jù)波爾的原子結(jié)構(gòu)殼層模型,闡述K系特征X射線的產(chǎn)生(畫圖說明)。 3、推導(dǎo)莫塞來定律。 4、什么是X射線強度? X射線作為一種電磁波,在其傳播過程中是攜帶著一定的能量的,多帶能量的多少,即表示其強弱的程度。IcE02 8 5、X射線衍射分析在無機非金屬材料研究中有哪些應(yīng)用? (1)物相分析:定性、定量(2)結(jié)構(gòu)分析:a、b、c、d(3)單晶分析:對稱性、晶面取向晶體加工、籽晶加工(4)測定相圖、固溶度(5)測定晶粒大小、應(yīng)力、應(yīng)變等情況 6、X射線管中焦點的形狀分為哪兩種各適用于什么分析方法? 點焦點,照相法;線焦點,衍射儀法。 7、目前常用的X射線管有哪兩種? 封閉式X射線管,旋轉(zhuǎn)陽極X射線
3、管。 8、元素對X射線的吸收限?簡述元素X射線吸收限的形成機理。 9、單色X射線采用的陽極靶材料的哪種特征X射線、濾波片材料的原子序數(shù)與陽極靶材料的原子序數(shù)關(guān)系如何?濾波片吸收限k與陽極靶材料的特征X射線波長是什么關(guān)系? 采用K射線;濾波片材料的原子序數(shù)一般比X射線管把材料的原子序數(shù)小1或2 10、K是由那兩條X射線合成的?怎樣合成的? 11、X射線與物質(zhì)相互作用時,產(chǎn)生哪兩種散射?各有什么特點?哪種散射適用于X射線衍射分析? 相干散射,非相干散射。相干散射:不改變波長;非相干散射:改變波長。相干衍射 12、什么叫X射線的光電效應(yīng)?什么叫熒光X射線?什么叫俄歇電子? (1)光電效應(yīng):當(dāng)X射線波
4、長足夠短時,X射線光子的能量就足夠大,能把原子中處于某一能級的電子打出來,而它本身則被吸收,它的能量就傳給該電子,使之成為具有能量的光電子,并使原子處于高能的激發(fā)態(tài)。這種過程就稱為光電吸收或光電效應(yīng)。 (2)熒光X射線:因為光電吸收后,原子處于高能激發(fā)態(tài),內(nèi)層出現(xiàn)了空位,外層電子往此躍遷,就會產(chǎn)生標(biāo)識X射線,這種由X射線激發(fā)出的X射線稱為熒光X射線。 (3)俄歇電子:當(dāng)外層電子躍遷到內(nèi)層空位時,其多余的能量傳遞給其他外層的電子,使之脫離原子,這樣的電子稱為俄歇電子。 13、X射線衍射分析的基本原理? X射線照射物體時,產(chǎn)生相干散射與非相干散,由于相干散射產(chǎn)生的次級X射線具有相同的波長,如果散射
5、物質(zhì)內(nèi)的原子或分子排列具有周期性(晶體物質(zhì))則會發(fā)生相互加強的干涉現(xiàn)象,這就是X射線衍射分析的基本原理。 14、寫出布拉格方程,說明其含義。什么是布拉格定律? X射線的幾何條件是d、必須滿足布拉格公式。其數(shù)學(xué)表達式為:2dsin 其中d是晶面間距,是布拉格角,即入射線與晶面間的交角。2是衍射角。是入射X射線的波長。 布拉格方程表明,用波長的X射線照射晶面間距為d的晶體時,在2dsinn方向產(chǎn)生衍射。對于一定波長的X射線而言,晶體中能產(chǎn)生衍射的晶面數(shù)是有限的,即d2得晶面才能產(chǎn)生衍射。 布拉格定律:布拉格方程和光學(xué)反射定律加在一起就是布拉格定律。 15、什么叫布拉格角?什么叫衍射角? (1)布拉
6、格角:入射線與晶面間的交角。(2)衍射角:入射線和衍射線之間的夾角2。 16、多重性因子? 等同晶面對衍射強度的影響。在粉末衍射中,不同的晶體中屬于同一晶形的晶面間距相等,因此衍射角也相等,衍射線都重疊在同一衍射圓環(huán)上,這樣某一衍射線(HKL)的強度將正比于該晶形中的不同晶面數(shù),即為多重性因數(shù)。 17、X射線衍射研究方法有哪幾種?各自的實驗條件是什么?各研究方法有什么用途? (1)勞厄法:1、主要測定晶體的取向2、觀測晶體的對稱性,鑒定是否單晶3、粗略觀測警惕的完整性(2)轉(zhuǎn)晶法:1、測定單晶體試樣的晶胞常數(shù)2、觀測晶體的系統(tǒng)消光規(guī)律,以確定警惕的空間群(3)衍射儀法、粉末照相法:1、物相分析
7、,定性分析、定量分析2、測定晶體結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)3、晶粒大小,應(yīng)力狀態(tài) 18、透射勞厄法、背射勞厄法的勞厄圖各有什么特征? 透射勞厄圖:斑點分布呈一系列通過底片中心的橢圓或雙曲線。背射勞厄圖:斑點分布呈一系列雙曲線和直線。 19、轉(zhuǎn)晶法衍射花樣特征? 層線:衍射斑點分布在一系列平行直線上。零層線:通過入射斑點的層線。正負第一,第二層線:對零層線對稱 20、粉末照相法中應(yīng)用最廣的方法是什么方法?其衍射照片特征?根據(jù)照片如何確定2? 徳拜法;德拜衍射圖:長條形底片上的一系列圓弧。設(shè):R照片半徑 某晶面族(hkl)產(chǎn)生的衍射線與底片交于pp 兩點,從圖中可知 SR*4 S4R 21、什么是衍射儀法?該
8、法為什么能廣泛應(yīng)用?它有什么用途? (1)衍射儀法:用單色X射線照射多晶或轉(zhuǎn)動的單晶試樣,用探測器和探角儀探測衍射線的強度位置,并將它們轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?,然后進行自動記錄或用計算機進行自動分析處理。 (2)由于衍射儀法具有測量精度高、數(shù)據(jù)分析處理能力強等特點,所以才被廣泛應(yīng)用。 (3)衍射儀法應(yīng)用:X射線衍射分析的所有應(yīng)用,物相分析,結(jié)構(gòu)分析,單晶分析,測定相圖、固溶度,測定晶粒大小應(yīng)力應(yīng)變等情況。 22、粉末衍射儀核心部件是什么?該部件包括那些部分? 測角儀是核心部件。測角儀包括兩個同軸轉(zhuǎn)盤:小轉(zhuǎn)盤中心樣品臺H,大轉(zhuǎn)盤X射線源S、探測器D A大小轉(zhuǎn)盤均可繞它們的共同軸線O轉(zhuǎn)動,軸線O衍射儀軸。
9、BX射線源S與探測器前端的接收狹縫RS都處在以O(shè)圓心的大轉(zhuǎn)盤圓上衍射儀圓(R=185mm)。 23、衍射儀的探測器有哪幾種?并闡述各自的原理? (答案不確定,貌似不對)探測器以一定角速度在選定角度范圍連續(xù)掃描 - 計數(shù)率儀 - 繪 I-2曲線;探測器以一定步長移動 每點停留一定時間定標(biāo)器逐點測量衍射峰強度 - X-Y 數(shù)據(jù) 24、掃描儀的工作方式有哪兩種?各有什么優(yōu)缺點? (1)連續(xù)掃描:探測器以一定的角速度進行連續(xù)掃描。 優(yōu)點:快速,方便。缺點:峰位滯后,分辨力減低,線型畸變。 (2)步進掃描:讓探測器以一定的角度間隔逐步移動。 優(yōu)點:無滯后效應(yīng),平滑效應(yīng),峰位準(zhǔn),分辨力好。缺點:速度慢、時
10、間長。 25、衍射線峰位的確定方法有哪幾種?各適用于什么情況? (1)峰頂法:使用與線性尖銳的情況。(2)切線法:適用于線性頂部平坦,兩側(cè)直線性較好的情況。(3)半高寬中點法:適用于線性頂部平坦,兩側(cè)直線型不好的情況。(4)7/8高度法:使用于有重疊峰的存在,但峰頂能明顯分開的情況。(5)中點連線法:適用于最大強度的1/2、3/4、7/8處比較好分辨的情況;(6)拋物線擬合法:適用于衍射峰線形漫散及雙峰難分離的情況(7)重心法:干擾小,重復(fù)性好,但此法計算量大,宜配合計算機使用。 26、畫圖說明半高寬中點法確定峰位的方法。 27、X射線物相分析(定性、定量)的理論依據(jù)是什么? 定性分析原理:
11、1、通過衍射線的位置換算出d,確定晶胞的形狀、大小; 2、通過衍射線強度確定晶胞內(nèi)原子的種類、數(shù)目、排列方式; 3、通過晶體特有的衍射花樣確定晶體的特有結(jié)構(gòu) 4、單相物質(zhì):將未知物像的衍射花樣與已知物相得衍射花樣相比較。 5、多物相得混合物:其衍射圖形為這幾種晶體衍射線的機械疊加。 定量分析的原理:根據(jù)多相混合物中某一相得衍射強度,隨該相得相對含量的增加而增加,呈現(xiàn)出某種函數(shù)關(guān)系。如果確定了該函數(shù)關(guān)系就可以用實驗測得的強度計算出該相得含量。 30、為什么說d值的數(shù)據(jù)比相對強度的數(shù)據(jù)重要? 由于吸收的測量誤差等的影響,相對強度的數(shù)值往往可以發(fā)生很大的偏差,而d值的誤差一般不會太大。因此將實驗數(shù)據(jù)
12、與卡片上的數(shù)據(jù)核對時,d值必須相當(dāng)符合,一般要到小數(shù)點后二位才允許有偏差。 31、結(jié)合布拉格公式說明,為什么說低角度區(qū)的衍射數(shù)據(jù)比高角度區(qū)的數(shù)據(jù)重要? 由布拉格公式2dsin=可知,低角度的衍射線對應(yīng)d值較大的晶面。對不同的晶體來說,差別較大,相互重疊的機會較少,不易互相干擾。但高角度的衍射線對應(yīng)d值較小的晶面,對不同的晶體來說,晶面間距相近的機會多,容易混淆。特別是當(dāng)試樣晶體的完整性較差,晶格扭曲,有內(nèi)應(yīng)力或晶格較小時,往往使高角度線條散漫寬化,甚至無法測量。 32、X射線定量分析的理論依據(jù)是什么? 定量分析的原理:根據(jù)多相混合中某一相的衍射強度隨該相得相對含量增加而增加,呈現(xiàn)出某種函數(shù)關(guān)系
13、。如果用實驗測量或者理論分析等辦法確定了該函數(shù)關(guān)系,就可以用實驗測得的強蘇計算出該相得含量。 33、K值法進行定量分析的步驟?K值法為什么又叫基體沖洗法? 過程:1)物相鑒定;2)選擇標(biāo)樣物相;3)進行定標(biāo)曲線的測定;4)測定試樣中標(biāo)準(zhǔn)物相S的強度或測定按要求制備試樣中的待測物相及標(biāo)樣S物相制定衍射線強度;5)用所測定的數(shù)據(jù),按各自的方法計算出待測物相的質(zhì)量分數(shù)。 35、寫出謝樂公式,說明各參數(shù)的含義,并說明利用謝樂公式計算微晶尺寸時,樣品尺寸的適用范圍和主要注意事項。 假若晶體中沒有不均勻應(yīng)變的個晶格缺陷的存在,衍射線寬化完全是由于經(jīng)歷尺寸(或鑲嵌塊尺寸)大小引起的,可以證明有以下關(guān)系: 謝
14、樂公式:DhklK cos Dhkl垂直于(hkl)面方向的晶粒尺寸() 由于晶粒細化引起的衍射峰寬化 K常數(shù),取衍射峰半高寬1/2,K=0.89;取衍射峰積分寬度i,K=1.00。 樣品尺寸:1nm100nm。 注意事項:先用標(biāo)準(zhǔn)試樣測定儀器本身的寬化,進行校正;對K進行雙線分離求得K1帶入謝樂公式;可選取同一方向兩個衍射面進行計算以便比較。 第二章 電子顯微分析 1、什么是顯微鏡的分辨本領(lǐng)(分辨能力、分辨率),它和那些因素有什么關(guān)系? 分辨率(分辨能力、分辨本領(lǐng)):一個光學(xué)系統(tǒng)能分開兩個物點的能力,數(shù)值上是剛能(清楚地)分開兩個物點間的最小距離。 阿貝公式:r0.61nm) nsin r-
15、分辨率,與成正比;r越小,分辨率越高 2、什么是電子顯微分析?電子顯微分析的特點是什么? 電子顯微分析是利用聚焦電子束與試樣物質(zhì)相互作用產(chǎn)生的各種物理信號,分析試樣物質(zhì)的微區(qū)形貌、顯微結(jié)構(gòu)、晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成。 特點:(1)高分辨率:0.20.3nm(線分辨率:0.1040.14);(2)高放大倍數(shù):15倍100萬倍(200萬倍),且連續(xù)可調(diào);(3)是一種微區(qū)、選區(qū)分析方法:能進行nm尺度的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)組成分析;(4)多功能、綜合性分析:形貌、結(jié)構(gòu)(顯微結(jié)構(gòu)、晶體結(jié)構(gòu))、成份。 3、電子的波性是什么?電子波長由什么決定? 運動著的微觀粒子(如中子、電子、離子等)也具有波粒二象性假說運動著的微
16、觀粒子也伴隨著一個波物質(zhì)波或德布羅意波。 電子的波長與加速電壓V的平方根成反比。 4、什么是靜電透鏡、磁透鏡? (1)靜電透鏡:一定形狀的等電位曲面族可使電子束聚焦成像,產(chǎn)生這種旋轉(zhuǎn)對稱等電位曲面族的電極裝置。(2)磁透鏡:旋轉(zhuǎn)對稱磁場對電子束有聚焦成像用,產(chǎn)生這種旋轉(zhuǎn)對稱磁場的線圈裝置。 5、靜電透鏡和磁透鏡各有什么特點?各用于電鏡中的什么位置? 特點:靜電透鏡總是會聚透鏡;強電場導(dǎo)致鏡筒內(nèi)擊穿和弧光放電。因此電場強度不能太高,靜電透鏡焦距較長,不能很好的矯正球差。磁透鏡與靜電透鏡比,焦距短。 位置:靜電透鏡用于電子槍中使電子束會聚成形;磁透鏡在電子顯微鏡中用于使電子束聚焦、成像。 6、旋轉(zhuǎn)
17、對稱磁場使電子束清晰成像的前提條件是什么? (1)磁場分布是嚴格軸對稱的(2)滿足旁軸條件(3)電子波的波長相同 7、什么是電磁透鏡的像差?電磁透鏡的像差有哪幾種? 實際的電磁透鏡不能完全滿足(1)磁場分布是嚴格軸對稱的(2)滿足旁軸條件(3)電子波的波長相同。因此從物面上一點散射出的電子束,不一定全部徽劇在一點,或者物面上的各點并不按比例成像于同一平面內(nèi),結(jié)果圖像模糊不清,或與原物的幾何形狀不完全相似,這種現(xiàn)象稱為像差。 電磁透鏡的像差有球差、色差、軸上像散、畸變 8、電磁透鏡的場深、焦深? 場深:不影響分辨本領(lǐng)的前提下,物平面可沿透鏡軸移動的距離。 焦深:在不影響透鏡成像分辨本領(lǐng)的前提下,
18、像平面可沿透鏡軸移動的距離。 9、原子核對電子的彈性散射和非彈性散射? 彈性散射:入射電子與原子核發(fā)生彈性碰撞時: m原子核m電子,電子只改變方向,不改變能量。彈性散射的電子能量等于或者接近于入射電子能量E0。 非彈性散射:入射電子被庫侖電勢制動而減速。入射電子損失的能量轉(zhuǎn)變?yōu)閄射線,電子即改變方向,也損失能量。 10、電子的彈性散射有什么特點?用于什么分析? 特點:只改變方向,不改變能量。用于分析分析形貌特征;顯示原子序數(shù)襯度,定性地進行成分分析。 11、背散射電子和透射電子? 背散射電子:電子進入試樣后受到原子的彈性散射和非彈性散射,有一部分電子的總散射角大于90度,重新從試樣表面逸出,稱
19、為背散射電子。 透射電子:當(dāng)試樣厚度小于入射電子的穿透深度時,入射電子將穿透試樣從另一表面射出,稱為透射電子。 12、簡述透射電鏡的工作原理。 1、聚焦電子束作照明光源:電子槍產(chǎn)生的電子束,經(jīng)1-2級聚光鏡會聚后,均勻地照射試樣上的某一待觀察的微小區(qū)域上。 2、入射電子與試樣物質(zhì)相互作用,由于試樣很薄,絕大部分電子穿透試樣,其強度分布與試樣的形貌、組成、結(jié)構(gòu)一一對應(yīng)。 3、透射出的電子經(jīng)一系列透鏡放大投射到熒光屏上。 4、熒光屏把電子強度分布轉(zhuǎn)變?yōu)榭梢姽鈴姸确植嫉膱D像。 13、簡述透射電鏡的特點。 特點:高分辨率:點分辨率:r=0.230.25nm,線分辨率:r=0.1040.14nm 高放大
20、倍數(shù):100倍80萬倍,連續(xù)可調(diào)。電子衍射:結(jié)構(gòu)分析。 14、透射電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)分為那幾個系統(tǒng)? 光學(xué)成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、電氣系統(tǒng) 15、透射電鏡光學(xué)成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)分為哪幾部分? 照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)、圖像記錄觀察系統(tǒng) 16、透射電鏡的性能指標(biāo)包括哪些方面? 1.分辨率:點分辨率:0.230.25nm;線分辨率:0.1040.14nm。 2.放大倍數(shù):100倍80萬倍。 3.加速電壓:普通電鏡:100200KV 17、透射電鏡對樣品有什么要求?透射電鏡粉末樣品和薄膜樣品如何制備? 要求:(1)厚度:100200納米(2)含水,其它易揮發(fā)物質(zhì)先處理(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,并有一定的機械強度(4)非常
21、清潔 粉末樣品的制備:用超聲波分散器將粉末溶液分散成懸浮液。用滴管滴幾滴在覆蓋有碳加強火膠棉支持膜的電鏡銅網(wǎng)上,待其干燥后,在蒸上一層碳膜,即成為電鏡觀察所用的粉末樣品。 薄膜樣品的制備:超薄切片生物試樣;電解拋光金屬材料;化學(xué)拋光半導(dǎo)體、單晶體、氧化物等;離子轟擊無機非金屬材料。 18、說明電子顯微像的理論叫什么理論?透射電鏡襯度有哪幾種?各適用于什么材料? (1)電子顯微像的理論:襯度理論。襯度電子圖像的光強度差別 (2)透射電鏡的襯度包括質(zhì)厚襯度、衍射襯度和相位襯度 (3)質(zhì)厚襯度:適用于非晶體薄膜和復(fù)形膜試樣所成的圖像解釋; 衍射襯度和相位襯度:適用于晶體薄膜試樣所成圖像的解釋。 19、簡述電子衍射的特點。 波長短,受物質(zhì)的散射強。單晶的電子衍
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