CHI660電化學(xué)工作站使用說(shuō)明市公開(kāi)課金獎(jiǎng)市賽課一等獎(jiǎng)?wù)n件

1、CHI660電化學(xué)工作站使用說(shuō)明介紹人：肖輝同學(xué)第1頁(yè)儀器硬件指標(biāo)與使用注意事項(xiàng)控制電位：10V電流：250mA2、3、4電極體系參比電極輸入阻抗：1012電位分辨率：0.1mV靈敏度：0.11012A/V共34檔測(cè)量范圍：10靈敏度電流測(cè)量下線：50pA工作環(huán)境：1530，相對(duì)濕度080%注意：工作時(shí)紅夾頭和綠夾頭不能直接連接第2頁(yè)將文件數(shù)據(jù)列表轉(zhuǎn)換成文本文件設(shè)置文本文件格式導(dǎo)入文本文件第3頁(yè)系統(tǒng)設(shè)置通信口設(shè)置通信速度第4頁(yè)電化學(xué)技術(shù)介紹第5頁(yè)循環(huán)伏安法（Cyclic Voltammetry）下列圖是CV 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是I-V曲線第6頁(yè)線性掃描伏安法（Linear

2、 Sweep Voltammetry）下列圖是LSV 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是I-V曲線第7頁(yè)Staircase Voltammetry下列圖是SCV 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是I-V曲線第8頁(yè)Tafel Plot下列圖是TAFEL 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是log（I）-V曲線第9頁(yè)計(jì)時(shí)電流法（Chronoamperometry）下列圖是CA 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是I-t曲線第10頁(yè)計(jì)時(shí)電量法（Chronocoulometry）下列圖是CC 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖對(duì)應(yīng)參數(shù)設(shè)定輸出是經(jīng)過(guò)電極電量-t曲線第11頁(yè)A.C. V

3、oltammetry下列圖是ACV 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖輸出是I-V曲線第12頁(yè)交流阻抗（A.C. Impedance）下列圖是IMP 技術(shù)輸出電壓隨時(shí)間改變圖 電化學(xué)暫態(tài)技術(shù)一個(gè)。慣用是正弦波交流阻抗技術(shù)?？刂齐姌O電流（或電極電勢(shì)）使按正弦波規(guī)律隨時(shí)間小幅度改變，同時(shí)測(cè)量作為其響應(yīng)電極電勢(shì)（或電流）隨時(shí)間改變規(guī)律。這一響應(yīng)經(jīng)常以直接測(cè)得電極系統(tǒng)交流阻抗Z或?qū)Ъ{Y來(lái)代替。電極阻抗普通用復(fù)數(shù)表示,即ZZ-jZ （或YY-jY）,虛部常是電容性,所以Z 前用負(fù)號(hào)。 第13頁(yè)第14頁(yè)電位溶出分析Potentiometric Stripping Analysis輸出電位時(shí)間關(guān)系第15頁(yè)Ampero

4、metric i-t CurveSample Interval選擇應(yīng)依據(jù)試驗(yàn)時(shí)間來(lái)選擇，不過(guò)Sample Interval越長(zhǎng)，噪聲越少。輸出：I-t曲線第16頁(yè)電化學(xué)噪聲測(cè)量Electrochemical Noise Measurement 在電化學(xué)噪聲測(cè)量中，沒(méi)有內(nèi)部輸出信號(hào)，也不使用對(duì)電極。在測(cè)量時(shí)，將工作電極（綠夾頭）浸到溶液中，同時(shí)在將另一個(gè)電極一頭浸到溶液中一頭接地。假如要測(cè)噪聲電勢(shì)，則可把參比電極也加入溶液中。電勢(shì)增益第17頁(yè)Open Circuit Potential - Time(OCPT)試驗(yàn)中，不接對(duì)電極，將工作電極和參比電極接在一起。第18頁(yè)控制菜單介紹試驗(yàn)條件控制重復(fù)運(yùn)行試驗(yàn)設(shè)置可測(cè)量開(kāi)路電壓IR降賠償濾波器設(shè)定電解池控制產(chǎn)生個(gè)階躍信號(hào)，但不數(shù)據(jù)采集和顯示溶出伏安法，設(shè)定后電沉積步驟會(huì)加在普通伏安法步驟之前風(fēng)扇設(shè)置宏命令第19頁(yè)操作實(shí)