2022-2023年光刻膠行業(yè)洞察報告PPT

2022-10-1720XX年匯報人：鐘庭瑋2022-2023年光刻膠行業(yè)洞察報告目錄contens01行業(yè)發(fā)展概述02行業(yè)環(huán)境分析03行業(yè)現(xiàn)狀分析04行業(yè)格局及發(fā)展趨勢近年來，中國發(fā)改委、國務(wù)院出臺了一系列紅利政策，鼓勵光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級，推動中國光刻膠行業(yè)國產(chǎn)化進程。EUV光刻膠將成為主流光刻膠的波長由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉(zhuǎn)移。隨著光刻膠的曝光波長縮短，光刻膠所能達到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進集成電路芯片向更小的制程節(jié)點發(fā)展。近年來，隨著芯片技術(shù)的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術(shù)工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)模化投產(chǎn)使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產(chǎn)技術(shù)的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術(shù)突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點，但ArF光刻膠未能實現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實現(xiàn)14納米節(jié)點以下的最可行方案。當前，三星電子和臺積電已具備EUV制程。如臺積電采用EUV制程，量產(chǎn)7納米芯片產(chǎn)品，在7納米市場占據(jù)絕對優(yōu)勢。一旦EUV技術(shù)發(fā)展成熟，EUV光刻膠將是未來7納米和5納米制程芯片的主流材料，在半導(dǎo)體制造中的占比將逐漸提高。摘要頁光刻膠產(chǎn)品定制化需求增長在全球化技術(shù)浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革正加快升級步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品趨向定制化和多樣化需求增長。光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢，對光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術(shù)工藝和光刻膠產(chǎn)品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個性化方向發(fā)展。為滿足行業(yè)下游個性化的需求，光刻膠制造商需要根據(jù)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)提出的整體生產(chǎn)工藝和定制化設(shè)計需求，設(shè)計和制造出符合客戶產(chǎn)品的技術(shù)和生產(chǎn)工藝，同時還需提供一體化技術(shù)綜合服務(wù)和產(chǎn)品升級服務(wù)等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)升級的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域市場將趨向非標準化，推動定制化光刻膠需求的增長。第一章行業(yè)發(fā)展概述01行業(yè)定義光刻膠是由樹脂、感光劑、溶劑及各類添加劑等組成的對光敏感的混合液態(tài)感光材料。在圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等一系列流程環(huán)節(jié)后，光刻膠可將所需要的掩膜板圖形轉(zhuǎn)移至代加工襯底上。光刻膠是半導(dǎo)體、平板顯示器、PCB等微電子、光電子領(lǐng)域加工制造中使用的關(guān)鍵材料，其性能直接影響了下游應(yīng)用產(chǎn)品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻膠根據(jù)顯示效果的不同可分為正性光刻膠和負性光刻膠:（1）正性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應(yīng)，可溶于顯影液；未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復(fù)制到襯底上。正性光刻膠響應(yīng)波長為330～430納米，膠膜厚為1～3微米，正性光刻膠的分辨率更高，無溶脹現(xiàn)象。因此，正性光刻膠的應(yīng)用比負性光刻膠更為普及。（2）負性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用下，負性光刻膠曝光部分產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)而不溶于顯影液；未曝光部分溶于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復(fù)制到襯底上。負性光刻膠響應(yīng)波長為330～430納米，膠膜厚0.3～1微米，負性光刻膠的分辨率比正性光刻膠低。因此，負性光刻膠的普及率低。光刻膠行業(yè)定義全球光刻膠行業(yè)起步于1950年，國外研究人員開發(fā)出酚醛樹脂-重氮萘醌正性光刻膠，此類光刻膠用稀堿水顯影時不存在膠膜溶脹問題，制成的光刻膠分辨率較高，而且抗干法蝕刻性較強。正性光刻膠根據(jù)所用的曝光機不同，又可分為寬譜紫外正膠、g線正膠、i線正膠。三種類型的正性光刻膠均采用線型酚醛樹脂制造出膜樹脂，重氮萘醌型酯化物作為感光劑，但由于酚醛樹脂和感光劑微觀結(jié)構(gòu)的不同，因此三種正膠的分辨率和應(yīng)用場景不同。如g線紫外正性光刻膠采用g線曝光，適用于0.5～0.6微米集成電路的制作，可滿足當時大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的制作。1954年，美國柯達公司研發(fā)出聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物類光刻膠體系，該類光刻膠是最先應(yīng)用在電子工業(yè)中的光刻膠，但由于該類光刻膠在硅片上的粘附性差，影響了它在電子工業(yè)的廣泛應(yīng)用。1958年，美國柯達公司成功研發(fā)出環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠，該類光刻膠在硅片上具有粘附性良好、感光速度快、抗?jié)穹涛g能力強等特點。20世紀八十年代初，環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠成為電子工業(yè)主要應(yīng)用的光刻膠，為后續(xù)的光刻膠應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。行業(yè)發(fā)展歷程萌芽期（20世紀50年代～20世紀80年代初）在全球集成電路行業(yè)發(fā)展的背景下，光刻膠技術(shù)工藝逐步提高。20世紀80年代中期，i線光刻技術(shù)進入開發(fā)期。20世紀90年代，i線光刻膠進入高速發(fā)展期，并取代了g線光刻膠。隨著i線光刻機的改進，i線光刻膠可制造線寬為0.25微米的集成電路，拓寬了i線光刻的應(yīng)用范圍。隨著KrF（248納米）、ArF（193納米）等稀有氣體鹵化物準分子激發(fā)態(tài)激光光源技術(shù)的發(fā)展，深紫外光刻膠得以應(yīng)用。20世紀90年代前后，國外研究人員投入到KrF準分子激光為曝光源的KrF光刻膠研究中，KrF光刻膠逐步開始發(fā)展。然而，由于酚醛樹脂-重氮萘醌光刻膠在KrF（248納米）處有很強的非光漂白性吸收，導(dǎo)致光敏性差，因此KrF光刻膠無法使用。為了解決這一難題，國外研究學者通過提高曝光機的NA值及改進配套光刻技術(shù)，以拓展KrF光刻膠應(yīng)用的界限，到20世紀90年代中后期，KrF光刻膠進入成熟階段。這一時期，KrF光刻膠逐步應(yīng)用于液晶平板顯示器件加工制造中，對液晶平板顯示器的高精細化和彩色化發(fā)展起到推動的作用。與此同時，在半導(dǎo)體集成度不斷提高的進程中，光刻膠成為了半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中重要的材料，推進半導(dǎo)體制造技術(shù)的進步。初步發(fā)展期（20世紀80年代中期～20世紀90年代）進入21世紀后，全球高科技行業(yè)發(fā)展迅速，光刻膠行業(yè)下游半導(dǎo)體、平板顯示器等新興行業(yè)得到較快的發(fā)展。光刻膠從g線、i線、KrF發(fā)展到ArF光刻膠。相比KrF光刻膠，ArF光刻膠具有更高的分辨率，可達到0.1微米。因此2005年，ArF光刻膠逐步應(yīng)用于90納米的制造工藝。在全球半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展的背景下，全球光刻膠相關(guān)企業(yè)加快在光刻膠領(lǐng)域的研發(fā)步伐。2004年Intel公司安裝了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一條EUV掩模試產(chǎn)線，表明EUV光刻膠從研發(fā)階段進入試用階段。隨著微電子制造業(yè)精密度不斷提升，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外線向g線、i線、Krf、ArF發(fā)展到EUV光刻膠。作為新一代電子信息、新型顯示技術(shù)的重要基礎(chǔ)性化學材料，全球光刻膠需求得到增長。全球光刻膠市場規(guī)模從2010年的56億美元增長到2015年的71億美元，年復(fù)合增長率為7.9%，全球光刻膠行業(yè)進入快速發(fā)展階段。快速發(fā)展期（21世紀至今）產(chǎn)業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游參與者為溶劑、樹脂、光敏劑等各類原材料供應(yīng)商和光刻機、顯影機、檢測與測試等設(shè)備供應(yīng)商。溶劑、樹脂、光敏劑是光刻膠生產(chǎn)的主要原材料，其中光敏劑在光刻膠生產(chǎn)總成本中占比達到60%。根據(jù)在光刻膠行業(yè)有多年市場運營經(jīng)驗的專家表示，在溶劑方面，中國僅有小部分企業(yè)從事研發(fā)和生產(chǎn)光刻膠溶劑，但溶劑生產(chǎn)量供不應(yīng)求，無法滿足中國光刻膠制造商的需求。在樹脂方面，中國處于起步發(fā)展階段，目前山東圣泉新材料股份有限公司具備樹脂生產(chǎn)能力，但生產(chǎn)的樹脂質(zhì)量不穩(wěn)定，符合光刻膠制造商要求的樹脂產(chǎn)量僅有30%左右。在光敏劑方面，以常州強力電子新材料股份有限公司（以下簡稱“強力新材”）為代表的光敏劑供應(yīng)商在光敏劑技術(shù)方面具有領(lǐng)先優(yōu)勢，但強力新材的光敏劑主要應(yīng)用在PCB領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)，無法應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)。當前，應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠光敏劑主要依靠進口，市場主要被日本東京應(yīng)化工業(yè)株式會社（以下簡稱“東京應(yīng)化”）、韓國株式會社東進世美肯（以下簡稱“東進”）和美國羅門哈斯電子材料有限公司等廠商所占據(jù)。整體而言，中國從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少，中國光刻膠原材料市場主要被日本、韓國和美國廠商所占據(jù)。因此，中國光刻膠制造商對進口材料依賴性較大，在上游原材料環(huán)節(jié)的議價能力弱。在上游設(shè)備供應(yīng)商方面，光刻機、顯影機、檢測與測試設(shè)備是中國光刻膠制造的核心設(shè)備。由于中國在光刻機、顯影機、檢測與測試設(shè)備行業(yè)的起步時間較晚，且這些設(shè)備具備較高的制造工藝壁壘，導(dǎo)致中國在光刻膠、顯影機、檢測與測試設(shè)備的國產(chǎn)化程度均低于10%，此類設(shè)備主要依賴美國、日本、荷蘭等國。其中荷蘭ASML已壟斷了高端光刻機市場。由此可見，中國在行業(yè)上游設(shè)備市場方面不具備競爭優(yōu)勢，國外設(shè)備廠商的議價能力強。產(chǎn)業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)的中游參與主體為光刻膠制造商，主要負責光刻膠的研發(fā)、制造和銷售。光刻膠從原材料到最終成品的制造過程中，需要經(jīng)過成品提純、金屬雜質(zhì)去除、蒸餾、抽濾、合成、分液、濃縮等一系列生產(chǎn)工藝，每道生產(chǎn)工藝均涉及曝光光源、加工圖形線路精度等方面的不同關(guān)鍵技術(shù)。光刻膠品類繁多，針對下游不同應(yīng)用需求，每種光刻膠產(chǎn)品的原材料配方和制備要求各不相同。因此，光刻膠制造商不僅需要具備研發(fā)能力和技術(shù)應(yīng)用能力，其研發(fā)人員還需具有較強的性能評價技術(shù)、微量分析技術(shù)能力以滿足下游電子信息產(chǎn)業(yè)的功能性需求。當前全球光刻膠生產(chǎn)制造主要被日本JSR株式會社（以下簡稱“JSR”）、東京應(yīng)化、信越化學工業(yè)株式會社（以下簡稱“信越化學”）、日本住友化學株式會社（以下簡稱“住友化學”）、美國陶氏化學有限公司（以下簡稱“陶氏化學”）和韓國東進等制造商所壟斷，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領(lǐng)域，其核心技術(shù)基本由美國和日本制造商所掌握。以半導(dǎo)體制造用的光刻膠市場為例，隨著半導(dǎo)體的集成度提升，因半導(dǎo)體制造用的光刻膠純度要求高，半導(dǎo)體對高性能半導(dǎo)體光刻膠提出了更高的要求。當前日本住友化學、東京應(yīng)化，美國陶氏化學等制造商掌握超過90%的半導(dǎo)體光刻膠市場，而在制造技術(shù)先進的KrF、ArF和EUV光刻膠領(lǐng)域占據(jù)50%以上的市場，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商仍存在差距。受益于中國政府頒布的利好政策，中國光刻膠制造商加大了光刻膠的研發(fā)力度?，F(xiàn)階段，中國蘇州瑞紅、科華微電子兩家企業(yè)加強在高端光刻膠領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)布局。蘇州瑞紅的KrF光刻膠已進入中試階段?？迫A微電子已建立年產(chǎn)能10噸的KrF光刻膠生產(chǎn)線。光刻膠行業(yè)存在嚴格的供應(yīng)商認證機制，憑借在KrF光刻膠的成熟制造工藝，科華微電子的KrF光刻膠已通過中國本土集成電路生產(chǎn)商中芯國際集成電路制造有限公司（以下簡稱“中芯國際”）認證。與此同時，科華微電子也正在積極研發(fā)ArF光刻膠，其參與的國家科技重大專項極紫外（EUV）光刻膠項目已通過驗收，該項目完成了關(guān)鍵材料設(shè)計、制備和合成工藝研究、配方組成的研究和光刻膠設(shè)備等研究?？梢?，中國蘇州瑞紅和科華微電子在光刻膠產(chǎn)業(yè)積極布局，且其光刻膠已取得下游廠商的認證，這兩家光刻膠制造商已在光刻膠領(lǐng)域取得較大進步，推動了光刻膠國產(chǎn)化進程。整體而言，中國光刻膠制造商與國外制造商相比，中國本土光刻膠制造商技術(shù)不高，市場競爭力不強。未來，在光刻膠國產(chǎn)化進程加快的趨勢下，光刻膠制造商發(fā)展空間將逐步增大。產(chǎn)業(yè)鏈上游中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用終端領(lǐng)域主要包括半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB領(lǐng)域。在“互聯(lián)網(wǎng)+”和5G進程持續(xù)深化的背景下，各類涉及電氣化和自動化的場景都離不開以半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB為核心的應(yīng)用。伴隨著消費升級、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對半導(dǎo)體、平板顯示和PCB制造提出了愈加精細化的要求。光刻膠是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性材料，其質(zhì)量直接影響到電子工業(yè)產(chǎn)品的集成度和成品率。因此，隨著行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域不斷趨向定制化、個性化，下游應(yīng)用領(lǐng)域?qū)庸饪棠z行業(yè)持續(xù)發(fā)展?？梢?，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z行業(yè)在產(chǎn)品設(shè)計、技術(shù)發(fā)展具有導(dǎo)向性，尤其是半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB行業(yè)的發(fā)展對光刻膠行業(yè)的發(fā)展具有至關(guān)重要的作用，這三大行業(yè)應(yīng)用的終端用戶在光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中具有強大的議價權(quán)。第二章行業(yè)環(huán)境分析02010203行業(yè)政策環(huán)境1《電子基礎(chǔ)材料和關(guān)鍵元器件“十一五”專項規(guī)劃》指出要重點支持國內(nèi)6英寸及以上集成電路生產(chǎn)所有的248納米及以下光刻膠、引線框架等配套產(chǎn)品。《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》提出要加強集成電路裝備、材料與工藝結(jié)合，開發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關(guān)鍵材料，加強集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協(xié)作，加快產(chǎn)業(yè)化進程，增強產(chǎn)業(yè)配套能力?！秶抑攸c支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）》明確將高分辨率光刻膠及配套化學品列入“精細化學品”大類的“電子化學品”項，光刻膠成為中國重點發(fā)展的新材料領(lǐng)域。工信部科技部、財政部國務(wù)院指出要發(fā)展集成電路用電子化學品，重點發(fā)展KrF（248納米）和ArF（193納米）光刻膠，推進中國電子化學品行業(yè)發(fā)展。行業(yè)政治環(huán)境明確將深紫外光刻膠列為極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝的關(guān)鍵材料，支撐關(guān)鍵材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新生態(tài)體系建設(shè)與發(fā)展，同年12月，中國發(fā)改委頒布《新材料關(guān)鍵技術(shù)產(chǎn)業(yè)化實施方案》，指出要發(fā)展高端專用化學品，包括KrF（248納米）光刻膠和ArF光刻膠(193納米)，為大型和超大型集成電路提供設(shè)備，且單套裝置規(guī)模達到10噸/年。綜上所述，中國已將光刻膠行業(yè)列為重點發(fā)展行業(yè)，積極推進光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級。相關(guān)利好政策有助于推動中國光刻膠行業(yè)技術(shù)水平的提升，從而促使中國光刻膠行業(yè)進步。國家鼓勵的集成電路線茲小于28納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于65納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅辛減半征收企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于130納米(含)，且經(jīng)營期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅。光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策《關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》《關(guān)于儆好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》《石化和化學工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016-2020年）》《“十三五”先進制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專項規(guī)劃》光刻膠行業(yè)政策支持十四五規(guī)劃政府報告國家政策領(lǐng)導(dǎo)講話國務(wù)院發(fā)布政策、十四五規(guī)劃、政府報告、領(lǐng)導(dǎo)講話等都有對光刻膠行業(yè)做了一些綱領(lǐng)性的指導(dǎo)，合理的解讀能夠為光刻膠行業(yè)做了好的發(fā)展指引。行業(yè)政策支持光刻膠行業(yè)社會環(huán)境為加快推進我國光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，相關(guān)鼓勵性、支持性政策陸續(xù)發(fā)布。2019年，中國光刻膠銷售額達到人民幣84億元，若按美元兌人民幣匯率(1:6.5)計算，中國的市場規(guī)模幾乎占全球總量的15%。我國光刻膠的研究始于20世紀70年代，最初階段與國際水平相差無幾，但由于種種原因，差距愈來愈大。發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。行業(yè)社會環(huán)境行業(yè)社會環(huán)境發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。2020年，在國內(nèi)市場中，面板顯示及半導(dǎo)體光刻膠國內(nèi)企業(yè)在市場中占比不足40%，但部分細分產(chǎn)品已逐步實現(xiàn)技術(shù)突破；此外，在PCB光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中，中國企業(yè)占比約61%，外資企業(yè)占比約39%行業(yè)社會環(huán)境近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，也迎來了高速發(fā)展期。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。光刻膠主要是由光引發(fā)劑、樹脂以及各類添加劑等化學品成份組成的對光敏感的感光性材料，光刻膠可以通過光化學反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上，因此光刻膠主要用于電子信息產(chǎn)業(yè)中印制電路板的線路加工、各類液晶顯示器的制作、半導(dǎo)體芯片及器件的微細圖形加工等領(lǐng)域。第三章行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀03行業(yè)現(xiàn)狀全球光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)掌握，中國在光刻膠行業(yè)與國際先進水平相比仍有差距。一方面，中國光刻膠關(guān)鍵原材料和光刻膠設(shè)備主要依賴進口，對外依存度大。另一方面，國外光刻膠制造商起步早，市場把控力強，競爭優(yōu)勢明顯。而中國光刻膠制造商起步晚，缺乏技術(shù)積累，導(dǎo)致中國光刻膠制造商的市場競爭力弱。在全球大力發(fā)展高新技術(shù)的背景下，中國政府對于光刻膠的發(fā)展關(guān)注度較高。自“六五”計劃以來，光刻膠行業(yè)被列為國家高新技術(shù)計劃和國家重大科技項目。中國政府通過頒布一系列紅利政策，鼓勵光刻膠行業(yè)產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級，在規(guī)劃部署行業(yè)發(fā)展方向上起到了引導(dǎo)的作用。中國本土光刻膠制造商加強光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈布局，以蘇州瑞紅電子化學品有限公司（以下簡稱“蘇州瑞紅”）、北京科華微電子材料有限公司（以下簡稱“科華微電子”）、深圳市容大感光科技股份有限公司（以下簡稱“容大感光”）等為代表的光刻膠制造商已開啟了光刻膠自主研發(fā)步伐，逐步具備了自主研發(fā)光刻膠的實力。當前，蘇州瑞紅、科華微電子已實現(xiàn)光刻膠產(chǎn)品自主研發(fā)和規(guī)?；a(chǎn)，并取得行業(yè)下游中國本土廠商的認證，為行業(yè)下游半導(dǎo)體、平板顯示、PCB廠商供貨。行業(yè)現(xiàn)狀在全球高新技術(shù)發(fā)展的背景下，中國政府高度重視半導(dǎo)體、平板顯示器及PCB行業(yè)發(fā)展。在國家一系列紅利政策帶動下，中國半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢頭良好。作為半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)制造環(huán)節(jié)中關(guān)鍵的材料，光刻膠的市場需求得到快速釋放，尤其是平板顯示器用的光刻膠產(chǎn)量增長，中國光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢。根據(jù)研究院數(shù)據(jù)顯示，中國光刻膠產(chǎn)量從2014年的6.3萬噸增長到2018年的9.0萬噸，年復(fù)合增長率為9.3%。受益于中國紅利政策的扶持，中國本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進光刻膠國產(chǎn)化的進程。未來，中國有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動中國光刻膠產(chǎn)量進一步提升。與此同時，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、平板顯示器、PCB行業(yè)逐漸向中國轉(zhuǎn)移，帶動中國光刻膠的需求激增，中國光刻膠行業(yè)擁有較大發(fā)展空間。除此之外，在中國“工業(yè)0”、“互聯(lián)網(wǎng)+”和“中國制造2020”持續(xù)深化發(fā)展的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z的需求有望持續(xù)增長，從而推動中國光刻膠產(chǎn)量提升，到2023年中國光刻膠產(chǎn)量有望達到28萬噸，市場發(fā)展空間廣闊。行業(yè)現(xiàn)狀隨著PCB外資企業(yè)陸續(xù)在中國建廠，中國成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地，促使中國本土光刻膠制造商崛起，極大地推動了中國PCB光刻膠的發(fā)展。當前，中國光刻膠制造商在PCB領(lǐng)域制造用的光刻膠已逐步實現(xiàn)進口替代，打破了國外光刻膠制造商在該領(lǐng)域的壟斷，推進了中國光刻膠國產(chǎn)化進程的加快。然而，在技術(shù)要求較高的半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域，與國外光刻膠制造商相比，中國本土光刻膠制造商的生產(chǎn)配方工藝和制造技術(shù)仍存在差距。中國在半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域用的光刻膠主要集中在g線和i線光刻膠，而在中高端市場，半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域制造用的KrF和ArF光刻膠則被日本和美國企業(yè)所占據(jù)，中國在中高端市場不具備市場競爭力，在光刻膠技術(shù)方面仍需進一步增強自身競爭力。01020304行業(yè)現(xiàn)狀PCB光刻膠技術(shù)含量較低，國產(chǎn)化率超過50%PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢，容易得到高分辨率，滿足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約3~5%。全球PCB光刻膠市場規(guī)模在20億美元左右，中國市場規(guī)模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。PCB光刻膠全球市場行業(yè)集中度較高。干膜光刻膠方面，臺灣長興化學、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據(jù)了全球80%以上的市場份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽油墨占據(jù)全球60%左右的市場份額，前十家公司合計占據(jù)全球80%以上的市場份額。半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最高，國產(chǎn)化率極低半導(dǎo)體是光刻膠最重要的應(yīng)用領(lǐng)域。光刻和刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體芯片在精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，耗時約占整個芯片工藝的40%~50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學品在芯片制造材料成本中的占比高達12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。光刻膠市場需求快速增長。隨著半導(dǎo)體線路圖形越來越小，光刻工藝對光刻膠的需求量也越來越大。2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元，未來5年年均增速約8%~10%；中國半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣，未來5年年均增速約10%。熱點三行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量整體提高熱點二科研服務(wù)市場持續(xù)增長熱點一光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域廣泛光刻膠行業(yè)具有市場空間廣闊、銷售范圍廣、用戶分散、單批數(shù)量少、銷售單價高等特點。光刻膠行業(yè)技術(shù)提升，多元化科研服務(wù)平臺持續(xù)擴張，促進高價值服務(wù)企業(yè)品牌形成。行業(yè)產(chǎn)品化發(fā)展，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的綜合性科研服務(wù)企業(yè)逐漸增多。光刻膠行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量有待提升制約光刻膠行業(yè)發(fā)展。行業(yè)內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊，導(dǎo)致研究結(jié)果可靠性難以保證，產(chǎn)品喪失市場競爭力。光刻膠行業(yè)難形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理規(guī)范,產(chǎn)品質(zhì)量主要靠企業(yè)自主檢測保障，監(jiān)管難度大。中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)品主要集中在中低端領(lǐng)域，高端領(lǐng)域被外資企業(yè)壟斷，產(chǎn)品品質(zhì)有待進一步提升。行業(yè)熱點關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞受益于國家“02專項”的支持，中國光刻膠行業(yè)從起步時期依靠進口發(fā)展到如今，已具備部分光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和制造能力，中國光刻膠行業(yè)取得了一定的技術(shù)進步，推動光刻膠國產(chǎn)化程度的提升?，F(xiàn)階段，中國在中高端光刻膠技術(shù)已得到突破。在i線光刻膠方面，科華微電子已建成年產(chǎn)500噸i線光刻膠生產(chǎn)線，打破了國外廠商在i線光刻膠的壟斷。與此同時，科華微電子已建立了KrF光刻膠生產(chǎn)線，并已通過中芯國際的認證，已實現(xiàn)小批量供貨。在高端的KrF光刻膠方面，蘇州瑞紅已建成了KrF光刻膠中試生產(chǎn)線，KrF光刻膠分辨率達到0.25～0.13微米的技術(shù)要求。中國光刻膠技術(shù)逐步提高行業(yè)驅(qū)動因素1政策支持近年來，中國發(fā)改委、國務(wù)院出臺了一系列紅利政策，鼓勵光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級，推動中國光刻膠行業(yè)國產(chǎn)化進程。關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞關(guān)鍵詞2017年，中國國務(wù)院在《關(guān)于進一步擴大和升級信息消費持續(xù)釋放內(nèi)需潛力的指導(dǎo)意見》中提出加快第五代移動通信（5G）標準研究、技術(shù)試驗和產(chǎn)業(yè)推進，力爭2020年啟動商用。當前，中國已具備5G商用部署條件，并已逐步啟動5G通信的措施。2019年6月，中國工信部正式向中國電信、中國移動、中國聯(lián)通、中國廣電發(fā)放5G商用牌照。中國移動、中國聯(lián)通、中國電信三大運營均已公布5G部署。而高頻PCB是實現(xiàn)5G應(yīng)用的電子部件之一。因此，5G的商用成為光刻膠行業(yè)發(fā)展的動力，帶動光刻膠的需求增長。5G通信系統(tǒng)在3,000MHz～5,000MHz的頻率使用，與4G通信系統(tǒng)相比，5G數(shù)據(jù)傳輸速度提高10倍以上。為實現(xiàn)無線傳輸、增加傳輸速率，大規(guī)模的天線陣列和超密集組網(wǎng)是發(fā)展5G的關(guān)鍵技術(shù)，而高頻PCB是5G通信基材，具有低損耗、高可靠性、高頻特性等特點。在5G技術(shù)的發(fā)展下，5G新建的通信基站數(shù)量將會達到4G時代的2倍以上，超密集小基站建設(shè)擴大了高頻PCB需求。作為PCB制造環(huán)節(jié)的必備材料，中國光刻膠市場需求相應(yīng)地將快速釋放。5G商用帶動光刻膠行業(yè)發(fā)展行業(yè)驅(qū)動因素2全球半導(dǎo)體制造基地向中國轉(zhuǎn)移半導(dǎo)體行業(yè)是電子信息高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心。在“中國制造2025”進程持續(xù)深化的背景下，人工智能、云計算、物聯(lián)網(wǎng)興起成為中國半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的主要動力。與此同時，中國作為全球最大的電子整機制造基地，對半導(dǎo)體產(chǎn)品需求不斷增長，推動中國半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。近年來，憑借著巨大的市場容量和消費群體，中國大陸半導(dǎo)體銷售額占全球半導(dǎo)體銷售額的30%左右，超過美國、歐洲、日本，成為全球最大的半導(dǎo)體銷售國，中國半導(dǎo)體市場發(fā)展勢頭良好，吸引了全球晶圓制造商在中國建廠，全球半導(dǎo)體制造產(chǎn)能逐步向中國轉(zhuǎn)移。根據(jù)國家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù)顯示，2017年至2020年期間，中國大陸將新建27座晶圓廠，在全球新建晶圓廠數(shù)量中占比為4第四章行業(yè)前景趨勢04ABC光刻膠是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，是集基礎(chǔ)化學、物理學和電子工程等多學科結(jié)合的綜合學科領(lǐng)域，對多學科交叉的復(fù)合型人才需求較大。雖然目前中國高校設(shè)置了相關(guān)光刻膠領(lǐng)域的課程，但是受教學配套設(shè)施資源有限的影響，中國大部分高校的課程設(shè)置仍然滯后，難以形成實際操作應(yīng)用。而光刻膠的實際生產(chǎn)要求光刻膠技術(shù)人員具有很強專業(yè)性:不僅要求技術(shù)人員具備較強的技術(shù)理論水平，技術(shù)綜合運用能力和實際操作經(jīng)驗，還需要技術(shù)人員對行業(yè)發(fā)展趨勢有深入的了解，才能把握市場機遇，進行產(chǎn)品開發(fā)以達到行業(yè)領(lǐng)先水平。但由于培養(yǎng)一位光刻膠人才需要3-5年，培養(yǎng)經(jīng)驗豐富的專業(yè)人才需要至少10年，導(dǎo)致目前中國光刻膠相關(guān)企業(yè)的專業(yè)人才儲備不足。專業(yè)人才儲備不足行業(yè)發(fā)展問題光刻膠品種種類繁多、專業(yè)跨度大，其行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)企業(yè)對光刻膠純度和性能要求嚴格。因此，光刻膠行業(yè)存在較為嚴格的供應(yīng)商認證機制，下游應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域企業(yè)與光刻膠制造商合作前會對光刻膠制造商的研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、產(chǎn)品質(zhì)量及性能等方面進行充分考核。光刻膠制造商成為合格供應(yīng)商之前，必須經(jīng)過產(chǎn)品送樣測試、樣品認證、樣品中試、工廠現(xiàn)場審核、小批試做、大批量供貨等嚴格的篩選流程，認證流程多、周期長。光刻膠供應(yīng)商一旦通過下游應(yīng)用廠商的認證，將會成為光刻膠的合格供應(yīng)商，并形成相對穩(wěn)定的合作關(guān)系且不輕易更換。穩(wěn)定的合作關(guān)系使得行業(yè)中知名企業(yè)具有一定的客戶壁壘，而這一穩(wěn)定的合作模式也使得光刻膠生產(chǎn)商的市場份額較為穩(wěn)定，市場新進入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭，簽約新客戶的難度高，同時也導(dǎo)致中小光刻膠制造商的產(chǎn)品難以進行測試與改進。由于光刻膠行業(yè)技術(shù)門檻較高，主要的光刻膠市場被國外制造商所占據(jù)，中國光刻膠制造商在行業(yè)的市場份額低。因此，在國外光刻膠制造商占據(jù)主要市場份額的形勢下，嚴格的供應(yīng)商認證機制會使中國光刻膠制造商尤其是中小規(guī)模的光刻膠制造商難以發(fā)展壯大，阻礙了中國光刻膠行業(yè)的發(fā)展。行業(yè)進入壁壘高光刻膠需要有相應(yīng)的光刻機與之配對調(diào)試，資金壁壘較高。目前全球光刻機核心技術(shù)處于壟斷狀態(tài)，只有荷蘭ASML公司可制造EUV光刻機，售價超過1億歐元；而技術(shù)水平稍低的DUV光刻機，售價為2000~5000萬美元；目前國內(nèi)只有一家企業(yè)可制造光刻機，且技術(shù)等級較低。光刻機的配套需求光刻膠行業(yè)發(fā)展建議發(fā)展建議1發(fā)展建議2發(fā)展建議3提升產(chǎn)品質(zhì)量（1）政府方面：政府應(yīng)當制定行業(yè)生產(chǎn)標準，規(guī)范光刻膠行業(yè)生產(chǎn)流程，并成立相關(guān)部門，對科研用光刻膠行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等各個環(huán)節(jié)進行監(jiān)督，形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理體系，完善試劑流通環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)，重點加強冷鏈運輸環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施升級，保證光刻膠行業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量，促進行業(yè)長期穩(wěn)定的發(fā)展；（2）生產(chǎn)企業(yè)方面：光刻膠行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)嚴格遵守行業(yè)生產(chǎn)規(guī)范，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。目前市場上已有多個本土光刻膠行業(yè)企業(yè)加強生產(chǎn)質(zhì)量的把控，對標優(yōu)質(zhì)、高端的進口產(chǎn)品，并憑借價格優(yōu)勢逐步替代進口。此外，光刻膠行業(yè)企業(yè)緊跟行業(yè)研發(fā)潮流，加大創(chuàng)新研發(fā)力度，不斷推出新產(chǎn)品，進一步擴大市場占有率，也是未來行業(yè)發(fā)展的重要趨勢。全面增值服務(wù)單一的資金提供方角色僅能為光刻膠行業(yè)企業(yè)提供“凈利差”的盈利模式，光刻膠行業(yè)同質(zhì)化競爭日趨嚴重，利潤空間不斷被壓縮，企業(yè)業(yè)務(wù)收入因此受影響，商業(yè)模式亟待轉(zhuǎn)型除傳統(tǒng)的光刻膠行業(yè)需求外，設(shè)備管理、服務(wù)解決方案、貸款解決方案、結(jié)構(gòu)化融資方案、專業(yè)咨詢服務(wù)等方面多方位綜合性的增值服務(wù)需求也逐步增強。中國本土光刻膠行業(yè)龍頭企業(yè)開始在定制型服務(wù)領(lǐng)域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位多元化融資渠道可持續(xù)公司債等創(chuàng)新產(chǎn)品，擴大非公開定向債務(wù)融資工具（PPN）、公司債等額度獲取，形成了公司債、PPN、中期票據(jù)、短融、超短融資等多產(chǎn)品、多市場交替發(fā)行的新局面；企業(yè)獲取各業(yè)態(tài)銀行如國有銀行、政策性銀行、外資銀行以及其他中資行的授信額度，確保了銀行貸款資金來源的穩(wěn)定性。光刻膠行業(yè)企業(yè)在保證間接融資渠道通暢的同時，能夠綜合運用發(fā)債和資產(chǎn)證券化等方式促進自身融資渠道的多元化，降低對單一產(chǎn)品和市場的依賴程度，實現(xiàn)融資地域的分散化，從而降低資金成本，提升企業(yè)負債端的市場競爭力。以遠東宏信為例，公司依據(jù)自身戰(zhàn)略發(fā)展需求，堅持“資源全球化”戰(zhàn)略，結(jié)合實時國內(nèi)外金融環(huán)境，有效調(diào)整公司直接融資和間接融資的分布結(jié)構(gòu)，在融資成本方面與同業(yè)相比優(yōu)勢突出。行業(yè)建議行業(yè)發(fā)展趨勢1EUV光刻膠將成為主流光刻膠的波長由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉(zhuǎn)移。隨著光刻膠的曝光波長縮短，光刻膠所能達到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進集成電路芯片向更小的制程節(jié)點發(fā)展。近年來，隨著芯片技術(shù)的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術(shù)工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)?；懂a(chǎn)使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產(chǎn)技術(shù)的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術(shù)突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點，但ArF光刻膠未能實現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實現(xiàn)14納米節(jié)點以下的最可行方案。當前，三星電子和臺積電已具備EUV制程。如臺積電采用EUV制程，量產(chǎn)7納米芯片產(chǎn)品，在7納米市場占據(jù)絕對優(yōu)勢。一旦EUV技術(shù)發(fā)展成熟，EUV光刻膠將是未來7納米和5納米制程芯片的主流材料，在半導(dǎo)體制造中的占比將逐漸提高。光刻膠產(chǎn)品定制化需求增長在全球化技術(shù)浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革正加快升級步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品趨向定制化和多樣化需求增長。光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢，對光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術(shù)工藝和光刻膠產(chǎn)品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個性化方向發(fā)展。為滿足行業(yè)下游個性化的需求，光刻膠制造商需要根據(jù)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)提出的整體生產(chǎn)工藝和定制化設(shè)計需求，設(shè)計和制造出符合客戶產(chǎn)品的技術(shù)和生產(chǎn)工藝，同時還需提供一體化技術(shù)綜合服務(wù)和產(chǎn)品升級服務(wù)等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)升級的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域市場將趨向非標準化，推動定制化光刻膠需求的增長。行業(yè)發(fā)展趨勢2光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化程度提升當前，中國光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)技術(shù)仍主要依賴進口，尤其是生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠主要設(shè)備和材料主要依賴進口，對外依存度達到90%以上，導(dǎo)致中國在光刻膠生產(chǎn)和加工上缺少市場話語權(quán)。在“中國制造2025”的背景下，中國本土光刻膠企業(yè)正積極對標國外光刻膠技術(shù)，同時對新的核心技術(shù)有著較大的發(fā)展需求，這促使中國本土光刻膠企業(yè)研發(fā)動力不斷增強，中國有望在5年內(nèi)實現(xiàn)中高端光刻膠產(chǎn)品替代。與此同時，由于光刻膠行業(yè)的技術(shù)壁壘較高，一旦企業(yè)缺少核心技術(shù)，將在光刻膠市場不具備競爭優(yōu)勢，這樣的形勢促使中國本土領(lǐng)先光刻膠企業(yè)通過加強技術(shù)研發(fā)，以減少與國外企業(yè)的技術(shù)差距，推出自主研發(fā)的國產(chǎn)光刻膠以替代進口。目前中國蘇州瑞紅和科華微電子已掌握了自主研發(fā)的i線、KrF和EUV光刻膠技術(shù)，其中蘇州瑞紅和科華微電子在i線和KrF光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了自主加工制造。隨著中國光刻膠技術(shù)不斷進步和行業(yè)下游需求持續(xù)增長，未來中國光刻膠將逐步完成國產(chǎn)化進口，光刻膠的國產(chǎn)化趨勢明顯。部分企業(yè)通過參股與收購方式加速實現(xiàn)技術(shù)突破本土企業(yè)也在面板光刻膠細分領(lǐng)域積極想辦法迅速突破技術(shù)瓶頸，目前晶瑞股份和北京科華微已經(jīng)在觸控屏光刻膠實現(xiàn)量產(chǎn)；北京科華微和飛凱新材在TFT-LCD正性光刻膠實現(xiàn)量產(chǎn)；晶瑞股份在TFT-LCD正性光刻膠進行產(chǎn)能建設(shè)。而雅克科技則希望通過參股及兼并收購的方式迅速實現(xiàn)技術(shù)與產(chǎn)能突破。2018年7月，雅克科技通過參股江蘇科特美新材料有限公司10%股權(quán)布局TFT-LCD正性光刻膠，該公司的主要運營實體是韓國CotemCo。，Ltd。公司，COTEM位于韓國京能道坡州市，主要產(chǎn)品是IFT-PR及光刻膠輔助材料(顯影液、清洗液等)、B以樹脂、碳納米管等。2020年8月，雅克科技再次參股雅克科技45%股權(quán)，雅克科技目前占據(jù)江蘇科特美新材料有限公司55%的股權(quán)。此外，2020年2月，雅克科技通過香港斯洋國際有限公司收購韓國LG化學下屬的彩色光刻膠事業(yè)部的部分經(jīng)營性資產(chǎn)，并將在標的資產(chǎn)交割完成后的18個月時間內(nèi)，在韓國投資建設(shè)彩色光刻膠生產(chǎn)工廠。光刻膠行業(yè)標準化與定制化界限被打破，未來趨于融合。標準化加微定制的產(chǎn)品戰(zhàn)略，有效平衡企業(yè)操作層面與消費者需求層面的矛盾讓消費者既擁有足夠的確定性，也有足夠的彈性。光刻膠行業(yè)大數(shù)據(jù)應(yīng)用使得實際操作和施工賦能方式深入介入，使得平臺從簡單的流量供給入口轉(zhuǎn)變?yōu)楣ぞ吖┙o、技術(shù)供給、工人供給的模式。中國消費升級倒逼光刻膠行業(yè)提高服務(wù)質(zhì)量，用戶需求從獲取公司信息并與公司對接暢通轉(zhuǎn)變?yōu)楦幼⒅伢w驗注重實際的效果，滿足用戶需求，提供個性化定制服務(wù)，成為光刻膠行業(yè)新的發(fā)展方向。行業(yè)面臨洗牌標準化趨勢融合行業(yè)平臺職能轉(zhuǎn)化注重用戶體驗由于新冠疫情對經(jīng)濟的巨大沖擊，各行各業(yè)都面臨資源重新洗牌，因此光刻膠行業(yè)也進入洗牌期。下游企業(yè)缺乏核心技術(shù)。投資融資主要集中于行業(yè)主流企業(yè)，對中小企業(yè)面臨巨大挑戰(zhàn)。光刻膠行業(yè)發(fā)展前景趨勢行業(yè)發(fā)展前景趨勢光刻膠行業(yè)投資風險服務(wù)更新速度不夠，不能及時適應(yīng)用戶的需求。服務(wù)更新慢實體經(jīng)濟遭遇疫情“黑天鵝”疫情持續(xù)，對經(jīng)濟持續(xù)沖擊。另一個是“灰犀?！?，債務(wù)衰退，在這次應(yīng)對疫情的過程中，各國都用了非常多的財政政策，發(fā)了很多國債，全球范圍內(nèi)國債水平相對于GDP上升了18%，而且以后的利率水平還會提升。黑天鵝/灰犀牛為用戶提