20192020同步蘇教化學必修一新突破課時分層作業(yè)19含硅礦物和信息材料Word含解析

20192020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19含硅礦物和信息資料Word版含分析20192020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19含硅礦物和信息資料Word版含分析8/8膈PAGE8膂羋薂膇20192020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19含硅礦物和信息資料Word版含分析2019-2020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19+含硅礦物和信息資料+Word版含分析

課時分層作業(yè)(十九)

(建議用時：25分鐘)

[合格基礎練]

1．以下表達正確的選項是( )

A．Na2SiO3是硅酸鹽，但不能夠溶于水

B．電影銀幕用水玻璃浸泡，主若是了為防腐

C．建筑工業(yè)常用水玻璃作黏合劑

D．用水玻璃浸泡鐵道的木制枕木，主若是為了防火

[Na2SiO3既是硅酸鹽，又是鈉鹽，硅酸鹽大多難溶于水，而鈉鹽均易溶于水；浸泡銀幕主若是為了防火，而浸泡枕木主若是為了防腐；水玻璃有黏合作用，

常作黏合劑。]

2．以下關于水玻璃的性質和用途的表達中不正確的選項是( )

A．這是一種礦物膠，既不燃燒也不受腐化

B．在建筑工業(yè)上能夠作黏合劑、耐酸水泥摻料

C．木材、織物浸過水玻璃后擁有防腐性能且不易燃燒

D．水玻璃的試劑瓶可用磨口玻璃塞

[水玻璃能夠粘結玻璃，試劑瓶塞應用橡皮塞。]

3．以下說法正確的選項是( )

A．硅的化學性質不爽朗，常溫下不與任何物質起反應

B．SiO2是制造玻璃的主要原料之一，它在常溫下不與NaOH溶液反應

C．電腦芯片的主要成分是SiO2

D．CO2通入水玻璃中能夠得硅酸

[A中硅常溫下能與F2、HF反應；B中SiO2常溫下可與NaOH溶液反應；

中電腦芯片的主要成分是Si；D中反應為Na2SiO3＋CO2＋H2O===H2SiO3↓＋

Na2CO3。]

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4．昆侖玉的成分可簡單看作是Ca2Mg5Si8O22(OH)2，則其用二氧化硅和金屬

氧化物的形式可表示為( )

A．CaO·MgO·SiO2·H2O

B．2CaO·5MgO·8SiO2·H2O

C．2CaO·MgO·SiO2·2H2O

D．5CaO·2MgO·8SiO2·H2O

[依照昆侖玉的化學式，將Ca、Mg、Si、H分別寫成氧化物的形式，按較爽朗金屬氧化物→較不爽朗金屬氧化物→SiO2→H2O的序次排列，再調整各氧化物前的計量數并使其與昆侖玉化學式中一致，可得昆侖玉氧化物表示形式為

2CaO·5MgO·8SiO2·H2O。]

5．以下表達正確的選項是( )

A．CO2和SiO2都是酸性氧化物，所以兩者物理性質相似

高溫

B．因為CaCO3＋SiO2=====CaSiO3＋CO2↑，所以硅酸的酸性比碳酸強C．CO2和SiO2都能與碳反應，且都作氧化劑

D．SiO2既能和NaOH反應，又能和HF反應，所以二氧化硅屬于兩性氧化

物

C[CO2和SiO2都是酸性氧化物，和其物理性質無因果關系，CO2熔、沸點

低，硬度小，微溶于水，SiO2的熔、沸點高，硬度大，不溶于水。CO2和SiO2的

高溫

物理性質相差較大，A項不正確；CaCO3＋SiO2=====CaSiO3＋CO2↑，反應進行

的原因是因為SiO2沸點高，CO2沸點低，而“較強酸制較弱的酸”是溶液中復分

解反應規(guī)律，B項不正確；CO2和SiO2都與碳反應，碳作還原劑，CO2和SiO2作

氧化劑，C項正確；SiO2與HF反應是HF的特點，SiO2不與其他酸反應，故SiO2

不屬于兩性氧化物，D項不正確。]

6．為確認HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性強弱，某學生設計了以以下列圖所示的實

驗裝置，一次實驗即可達到目的(不用選其他酸性物質)。請據此回答：-2-/52019-2020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19+含硅礦物和信息資料+Word版含分析

(1)錐形瓶中裝某可溶性正鹽溶液，分液漏斗所盛試劑應為________。

(2)裝置B所盛的試劑是________，其作用是

_____________________________________________________

。

(3)裝置C所盛試劑是________，C中反應的離子方程式是

。

(4)由此獲取的結論是：酸性________>________>________。

[分析]依照強酸＋弱酸鹽―→弱酸＋強酸鹽分析可知，分液漏斗中盛裝鹽

酸，A中盛放Na2CO3，依照Na2CO3＋2HCl===2NaCl＋H2O＋CO2↑能夠知道酸

性HCl強于H2CO3，爾后將生成的CO2通入Na2SiO3溶液中，反應為Na2SiO3＋

CO2＋H2O===H2SiO3↓＋Na2CO3，由此判斷酸性H2CO3>H2SiO3，但需注意的是

A中反應會有HCl氣體逸出，故通入Na2SiO3溶液前需將HCl吸取，但不能夠吸取

CO2，應采納飽和NaHCO3溶液。[答案](1)鹽酸(2)飽和NaHCO3溶液吸取HCl氣體(3)Na23溶液SiOSiO32－＋CO2＋H22SiO3↓＋CO32－(或SiO32－＋2CO2＋2H23－＋O===HO===2HCO23↓)(4)HClH23H23HSiOCOSiO[等級過關練]7．將過分的CO2分別通入：①CaCl2溶液②濃Na23溶液③Ca(OH)2SiO溶液④飽和Na23溶液。最后溶液中有白色積淀析出的是()COA．①②③④B．②④C．①②③D．②③[CO2溶于水：CO2＋H2O===H2CO3，H2CO3的酸性比鹽酸弱，而比硅酸強。依照酸與鹽反應的規(guī)律，CO2通入CaCl2溶液無明顯現象；過分的CO2通入濃Na2SiO3溶液中有白色積淀H2SiO3生成；CO2通入Ca(OH)2溶液至過分，

-3-/52019-2020同步蘇教化學必修一新打破課時分層作業(yè)19+含硅礦物和信息資料+Word版含分析

Ca(OH)2＋CO2===CaCO3↓＋H2O，CaCO3＋H2O＋CO2===Ca(HCO3)2，最一生

成Ca(HCO3)2而無積淀；過分CO2通入飽和Na2CO3溶液中：Na2CO3＋H2O＋

CO2===2NaHCO3↓，生成的NaHCO3溶解度比Na2CO3溶解度小而結晶析出。]

8．硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答以下問題：

制備硅半導體資料必定先獲取高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備

高純硅的主要方法，生產過程表示圖以下列圖：

(1)寫出由純SiHCl3制備高純硅反應化學的方程式：

_____________________________________________________

。

(2)整個制備過程必定嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水激烈反應生成H2SiO3、

HCl和另一種物質，寫出配平的化學方程式：

_____________________________________________________

；

H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的結果是

_____________________________________________________

。

[分析](1)依照質量守恒定律可知，SiHCl3與H2在高溫下反應，生成Si和

1357K

HCl，反應的化學方程式為SiHCl3＋H2=====Si＋3HCl。(2)依照質量守恒定律，

SiHCl3遇水激烈反應生成HSiO、HCl和H，反應的化學方程式為SiHCl3＋2323H223＋H2↑＋3HCl。H2還原SiHCl3過程中