標準解讀

GB/T 12085.12-1989 是一項中國國家標準，全稱為《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗方法 污染》。這項標準規(guī)定了光學(xué)和光學(xué)儀器在進行環(huán)境試驗時，評估其對污染敏感度及耐受性的具體測試方法。以下是該標準的主要內(nèi)容概述：

  1. 適用范圍：標準適用于各種光學(xué)元件、組件以及整機光學(xué)儀器，用于評價這些產(chǎn)品在使用或存儲過程中，因空氣中的塵埃、煙霧、化學(xué)氣體等污染物引起的性能變化。

  2. 污染源定義：標準明確了污染可能來源于自然環(huán)境中的灰塵、工業(yè)排放的煙霧、腐蝕性氣體等，并區(qū)分了固態(tài)污染（如灰塵）和氣態(tài)污染（如酸性氣體）。

  3. 試驗條件與方法：

    • 試驗環(huán)境：規(guī)定了進行污染試驗的實驗室條件，包括溫濕度控制、空氣凈化水平等，確保試驗結(jié)果的可比性和重復(fù)性。
    • 污染源制備：詳細說明了如何制備模擬實際環(huán)境中可能遇到的各種污染源，比如使用特定粒徑分布的粉塵或配制特定濃度的氣體混合物。
    • 試驗程序：包括污染暴露時間、污染程度的控制、以及試驗期間和試驗后的檢測項目和方法，如光學(xué)性能測試、外觀檢查等。

  4. 評價指標：標準提供了一套評價體系，用于判斷光學(xué)產(chǎn)品在受污染后性能下降的程度，包括透光率變化、分辨率降低、表面沉積物的性質(zhì)及其去除難易度等。

  5. 試驗報告：要求試驗結(jié)束后，應(yīng)編制詳細的試驗報告，記錄試驗條件、方法、結(jié)果及分析，以便于產(chǎn)品質(zhì)量控制和改進。

  6. 安全與防護：雖然此部分內(nèi)容可能不是標準的核心，但通常會提及在進行污染試驗時需采取的安全措施和對試驗人員及設(shè)備的保護要求。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現(xiàn)行標準GB/T 12085.12-2010
  • 1989-12-29 頒布
  • 1990-08-01 實施
?正版授權(quán)
GB/T 12085.12-1989光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法污染_第1頁
GB/T 12085.12-1989光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法污染_第2頁
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文檔簡介

UDC681.7.08N30中華人民共和國國家標準GB12085.12-89光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法污染Opticsandopticalinstruments-Environmentaltestmethods-Contamination1989-12-29發(fā)布1990-08-01實施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國國家標準光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法污GB12085.12-89中國標準出版社出版發(fā)行北京西城區(qū)復(fù)興門外三里河北街16號郵政編碼：100045電話：63787337637874471990年12月第一版2005年9月電子版制作書號：155066·1-24279版權(quán)專有侵權(quán)必究舉報電話：（010)68533533

中華人民共和國國家標準光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法GB12085.12-89污染Opticsandopticalinstruments-Environmentaltestmethods-Contamination！主題內(nèi)容與適用范圍本標準規(guī)定了污雜試驗的試驗條件、條件試驗、試驗程序及環(huán)境試驗標記。本標準中所指的“污染”的含義是腐蝕性化學(xué)物質(zhì)！》（以下稱試劑）同光學(xué)儀器的接觸。本標準適用于光學(xué)儀器、裝有光學(xué)零部件的儀器和光學(xué)零部件。本標準不適用于作為正常的生產(chǎn)控制。注：1）不包括放射性元素和同位素及危險性化學(xué)物質(zhì)如2.2－二氯二乙硫2試驗?zāi)康难芯績x器，，尤其是儀器的表面、涂層或合成材料短時間內(nèi)暴露在試劑中的抵抗能力。武驗通常只用于在使用期有可能遭受污染的儀器選擇材料或元件時參考。引用標準GB12085.1光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗方法：術(shù)語、試驗范圍武驗條件試驗應(yīng)在GB12085.1規(guī)定的大氣環(huán)境條件下進行。4.1過樣除有關(guān)標準要求整臺儀器或部件試驗外，試驗應(yīng)采用代表性樣品作試樣。非金屬涂層試驗的基片用代表性

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