GB/T 12599-2002金屬覆蓋層錫電鍍層技術(shù)規(guī)范和試驗(yàn)方法

ICS25.220.40A29中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T12599—2002代替：GB/T12599-1990金屬覆蓋層錫電鍍層技術(shù)規(guī)范和試驗(yàn)方法Metalliccoatings--ElectroplatedcoatingsoftinSpecificationandtestmethods（ISO2093:1986,Electroplatedcoatingsoftin-Specificationandtestmethods,MOD)2002-09-11發(fā)布2003-04-01實(shí)施中華：人民共；和壓發(fā)布國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

GB/T12599—2002次前言0引言范圍規(guī)范性引用文件3術(shù)語和定義4需方應(yīng)向供方提供的資料5基體材料6抽樣7分類8鋼的熱處理9底鍍層要求10）錫鍍層要求…附錄A(規(guī)范性附錄）鍍層厚度測(cè)量附錄B(規(guī)范性附錄）著強(qiáng)度試驗(yàn)……附錄C(資料性附錄)指導(dǎo)意見·

GB/T12599-2002前本標(biāo)準(zhǔn)修改采用ISO2093:1986《錫電鍍層技術(shù)規(guī)范和試驗(yàn)方法》英文版）本標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)ISO2093:1986重新起草，本標(biāo)準(zhǔn)對(duì)應(yīng)ISO2093作了如下修改：按國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的覆蓋層系列標(biāo)準(zhǔn)·標(biāo)準(zhǔn)名稱前加上“金屬覆蓋層”-取消了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的前言：為便于使用,引用了采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)；增加了規(guī)范性引用文件的引導(dǎo)語；用“本標(biāo)準(zhǔn)”代替"本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)”；按引用標(biāo)準(zhǔn)ISO2064:1996修改了“主要表面”的定義；-因ISO9227代替了ISO3768.所以引用標(biāo)準(zhǔn)用對(duì)應(yīng)ISO9227的GB/T10125:本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T12599—1990《金屬覆蓋層錫電鍍層》。本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T12599—1990相比,主要變化如下:-補(bǔ)充了引言；-刪去了最小厚度的定義(原版的3.2條)-第5、6、7、8、9、10章的順序和部分內(nèi)容有所調(diào)整：補(bǔ)充了附錄B、附錄C。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B為規(guī)范性附錄，附錄C為資料性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：武漢材料保護(hù)研究所、廣州電器科學(xué)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：賈建新、何邵新、李大旭、謝銳兵、熊剛、黃三豹本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：-GB/T12599-1990.

GB/T12599—2002金屬覆蓋層錫電鍍層技術(shù)規(guī)范和試驗(yàn)方法0引本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬制品防腐蝕和提高可焊性的錫鍍層的要求執(zhí)行本標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)考電國(guó)家對(duì)食品工業(yè)用錫鍍層的相關(guān)法規(guī)和條例附錄C為用戶提供了附加信息。需方除規(guī)定本標(biāo)準(zhǔn)號(hào)外還應(yīng)當(dāng)提出4.1、4.2所規(guī)定的內(nèi)容1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬制品上標(biāo)稱純錫鍍層的要求。鍍層可以是無光的、光亮的鍍后狀態(tài).或電鍍后以喀融方法進(jìn)行熔流處理的狀態(tài)。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于：a紋零件：錫銅絲：未加工成型的板材、帶材和線材上的錫鍍層，或由它們制成的產(chǎn)品；螺旋形彈簧上的錫鍍層：采用化學(xué)方法（浸、自催化或化學(xué)鍍)獲得的錫鍍層：抗拉強(qiáng)度大于1000MPa(或相應(yīng)硬度)的鋼表面的錫鍍層，因?yàn)檫@類鋼電鍍時(shí)會(huì)產(chǎn)生氫脆。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn).然而.鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB/T2423.28電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程試驗(yàn)T：錫焊試驗(yàn)方法(eqvIEC68-2-20)GB/T4955金屬覆蓋層覆蓋層厚度測(cè)量陽極溶解庫侖法(idtISO2177）GB/T5270金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學(xué)沉積層)附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法（eqvISO2819）GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測(cè)量方法(eqvISO1463）GB/T9789金屬和其他非有機(jī)覆蓋層通常凝露條件下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)(cqvISO6988)GB/T101255人造氣腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)(eqvISO9227)GB/T12334金金屬和其他非有機(jī)覆蓋層關(guān)于厚度測(cè)量的定義和一般規(guī)則(idtISO2064)GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序(idtISO4519)GB/T16921金屬覆盞層厚度測(cè)量X射線光譜方法(eqvI