標準解讀
《GB/T 17722-1999 金覆蓋層厚度的掃描電鏡測量方法》這一標準詳細規(guī)定了使用掃描電子顯微鏡(SEM)來測定金鍍層或涂覆層厚度的方法原理、實驗設備、樣品制備、測量步驟及數據處理等要求。然而,您提供的對比信息不完整,沒有明確指出要與哪個具體的標準進行比較。因此,直接對比變更內容無法完成。但可以概述該標準本身的關鍵內容和可能的一般性更新方向,假設與早期或后續(xù)同類標準相比較。
該標準的核心內容可能包括:
- 方法原理:介紹了利用掃描電鏡中的能量散射譜(EDS)或背散射電子圖像(BSE)技術來分析金覆蓋層的厚度,這兩種方法都是基于測量金層與基材之間原子序數差異導致的信號變化。
- 實驗設備:明確了執(zhí)行測量所需的SEM設備應具備的性能指標,包括分辨率、真空度要求等,以及輔助附件如能譜儀的配置。
- 樣品制備:規(guī)定了樣品切割、鑲嵌、磨拋及最終表面處理的具體步驟,確保測量面平整且無污染。
- 測量步驟:詳細說明了如何設置SEM參數,選擇合適的測量點,進行數據采集。
- 數據處理:提供了計算金覆蓋層厚度的公式和校正方法,考慮到了儀器誤差和測量條件的影響。
若與舊版或其他類似標準比較,可能的變更方向包括但不限于:
- 技術進步:更新了對SEM及輔助檢測技術的要求,反映了技術進步帶來的更高精度或更快速的測量能力。
- 標準化流程:優(yōu)化了樣品制備流程,可能引入了更高效的清潔或表面處理方法,以減少人為誤差。
- 數據準確性:改進了數據處理算法,增加了校準程序,以提高測量結果的準確性和重復性。
- 適用范圍:擴大或細化了標準的適用范圍,可能涵蓋了更多類型的基材或不同厚度范圍的金覆蓋層。
- 環(huán)境與安全:加入了環(huán)境保護和操作安全的相關指導,符合更嚴格的實驗室管理規(guī)范。
由于缺乏具體的對比對象,上述內容僅為基于一般標準更新趨勢的推測,并非針對某特定標準的直接變更解讀。
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- 現行
- 正在執(zhí)行有效
- 1999-04-11 頒布
- 1999-12-01 實施
文檔簡介
TcS.37.020133中華人民共和國國家標準GB/T17722-1999金覆蓋層厚度的掃描電鏡測量方法Gold-platedthicknessmeasurementbySEM1999-04-11發(fā)布1999-12-01實施國家質量技術監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國國家標準金覆蓋層厚度的掃描電鏡測量方法GB/T17722-1999中中國標準出版社出版發(fā)行北京西城區(qū)復興門外三里河北街16號郵政編碼:100045電話:63787337、637874471999年7月第一版2004年11月電子版制作書號:155066·1-15975版權專有侵權必究舉報電話:01068533533
GB/T17722-1999目前市場出售的黃金制品名目繁多,常見的有鍍金、包金、鍛壓金以及各種表層鍍有黃金與白銀的混合鍍層的金制品·此外,一些K金飾品也在外面鍍覆純金或K金,一些白金飾品的表面覆蓋有各種貴金屬的鍍層,而且用上述方法制成的飾品或工藝品種類十分繁多,面對如此繁多的飾品和工藝品的質量監(jiān)測是一個極大的問題。本方法提出的對金覆蓋層厚度的直接測量方法,用掃描電鏡從金飾品的斷面上直接測定其覆蓋層的成分、覆蓋層的層數和各層的厚度等,對于評價上述各類金制品的質量將具有十分重要的意義。本標準的附錄A是提示的附錄,本標準由全國微束分析標準化技術委員會提出并歸口。本標準起草單位:中國科學院北京科儀研制中心、地礦部礦床地質研究所、北京科技大學材料物理系、上海市測試技術研究院、中船總725所。本標準主要起草人:陸亞偉、周劍雄、柳得槽、張訓彪、徐國照
中華人民共和國國家標準金覆蓋層厚度的掃描電鏡測量方法GB/T17722-1999Gold-platedthicknessmeasurementbySEM1范圍本標準規(guī)定了各類金制品的金覆蓋層厚度的掃描電鏡測量方法的技術要求,本標準也適用于電子深針儀測量金覆蓋層厚度·適用的厚度測量范圍為0.2~10m.其他金屬材料的覆蓋層厚度的測量也可參照執(zhí)行2引用標準下列標準所包含的條文·通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時.所示版本均為有效。所有標準都會被修訂.使用本標準的各方應探討、使用下列標準最新版本的可能性。GB/T12334—1990金屬及其他無機覆蓋層關于厚度測量的定義和一般規(guī)則GB/T13298-1991金屬顯微組織檢測方法GB/T15616-1991金屬與合金電子探針定量分析樣品的制備方法GB/T16594-1996微米級長度的掃描電鏡測量方法GB/T17362—1998黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法GB/T17363-1998黃金制品的電子探針測定方法術語局部厚度在基本測量面內對某一部位測定的厚度值平均厚度在基本測量面內不同部位選擇規(guī)定數量的局部厚度測量值的算術平均值注:基本測量面定義見GB/T12334—1990.4原理本標準方法是先將被測金覆蓋層樣品的外面加金屬保護層后,在垂直覆蓋層方向切成薄片,經過鑲嵌、研磨、拋光后制成試樣.利用掃描電鏡觀察二次電子像和背散射電子像直接測定覆蓋層層數和金覆蓋層的平均厚度。5標準器和儀器設備5.1掃描電鏡:二次電子像分辨力優(yōu)于10nm.背散射電子像分費力優(yōu)于20nm.5.2微米級長度標準器:經法定計量機構標定,最小刻度標稱值應小于2m。533比長儀:量程不小于60mm.誤差不
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