標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 23414-2009 微束分析 掃描電子顯微術(shù) 術(shù)語》是中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)之一,主要規(guī)定了與掃描電子顯微鏡及其應(yīng)用相關(guān)的專業(yè)術(shù)語定義。該標(biāo)準(zhǔn)適用于科學(xué)研究、教育培訓(xùn)以及相關(guān)技術(shù)文檔編寫等領(lǐng)域,旨在通過統(tǒng)一術(shù)語來促進(jìn)交流和理解的一致性。

在內(nèi)容上,《GB/T 23414-2009》涵蓋了從基礎(chǔ)概念到高級(jí)技術(shù)細(xì)節(jié)的廣泛范圍,包括但不限于:

  • 基礎(chǔ)原理:如電子槍、透鏡系統(tǒng)等構(gòu)成部分的工作機(jī)制。
  • 技術(shù)參數(shù):涉及分辨率、放大倍數(shù)等關(guān)鍵性能指標(biāo)的具體含義。
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:列舉了SEM(Scanning Electron Microscope, 掃描電子顯微鏡)在材料科學(xué)、生物學(xué)等多個(gè)學(xué)科中的具體用途。
  • 樣品制備方法:介紹了不同類型樣品準(zhǔn)備時(shí)所采用的技術(shù)手段。
  • 成像模式:描述了二次電子像、背散射電子像等多種成像方式的特點(diǎn)及應(yīng)用場(chǎng)景。
  • 數(shù)據(jù)處理:涉及到圖像分析軟件的功能介紹及其對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響。


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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2009-04-01 頒布
  • 2009-12-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

犐犆犛01.040.37:37.020

犖33

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008

微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語

犕犻犮狉狅犫犲犪犿犪狀犪犾狔狊犻狊—犛犮犪狀狀犻狀犵犲犾犲犮狋狉狅狀犿犻犮狉狅狊犮狅狆狔—

犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔

(ISO22493:2008,IDT)

20090401發(fā)布20091201實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ

引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅱ

1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1

2縮略語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1

3SEM物理基礎(chǔ)術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1

4SEM儀器術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!5

5SEM成像和圖像處理術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!10

6SEM圖像詮釋和分析術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14

7SEM圖像放大倍率和分辨率校正及測(cè)量術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!16

參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!18

中文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!19

英文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!22

犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO22493:2008《微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語》(英文版)。

為了便于使用,本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改:

———“本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)”一詞改為“本標(biāo)準(zhǔn)”;

———?jiǎng)h除國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的前言。

———“掃描電子顯微鏡”簡(jiǎn)稱“掃描電鏡”。

———增加了中文索引。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:李香庭、曾毅。

犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008

引言

SEM技術(shù)通常用于觀察和表征金屬、合金、陶瓷、玻璃、礦物、聚合物和粉體等固體材料在微米納

米范圍內(nèi)的形貌和組織。另外,應(yīng)用聚焦離子束與掃描電鏡分析技術(shù)能產(chǎn)生3維結(jié)構(gòu)。SEM技術(shù)的物

理基礎(chǔ)是電子光學(xué)、電子散射和二次電子發(fā)射的機(jī)理。

SEM技術(shù)是微束分析(MBA)的一個(gè)主要分支,已廣泛應(yīng)用于高技術(shù)工業(yè)、基礎(chǔ)工業(yè)、冶金和地質(zhì)、

生物和醫(yī)藥、環(huán)境保護(hù)和商貿(mào)等領(lǐng)域。各技術(shù)領(lǐng)域的術(shù)語標(biāo)準(zhǔn)化是該領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展的先決條件之一。

本標(biāo)準(zhǔn)是有關(guān)SEM的術(shù)語,它包含掃描電鏡在科學(xué)和工程領(lǐng)域?qū)嵺`中共同應(yīng)用的術(shù)語定義。本

標(biāo)準(zhǔn)是ISO/TC202微束分析技術(shù)委員會(huì),SC1術(shù)語分技術(shù)委員會(huì)為完成微束分析(MBA)領(lǐng)域中電子

探針顯微分析(EPMA)、掃描電子顯微術(shù)(SEM)、分析電子顯微術(shù)(AEM)、能譜法(EDX)等系列標(biāo)準(zhǔn)中

的第二個(gè)標(biāo)準(zhǔn),主要內(nèi)容包括:

SEM物理基礎(chǔ)術(shù)語;

SEM儀器術(shù)語;

SEM成像和圖像處理術(shù)語;

SEM圖像詮釋和分析術(shù)語;

SEM圖像放大倍率和分辯率校正及測(cè)量術(shù)語。

犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008

微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)定義了掃描電子顯微術(shù)(SEM)實(shí)踐中使用的術(shù)語。包括一般術(shù)語和按技術(shù)分類的具體概

念的術(shù)語,也包括已經(jīng)在ISO23833中定義的術(shù)語。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于所有有關(guān)SEM實(shí)踐的標(biāo)準(zhǔn)化文件。另外,本標(biāo)準(zhǔn)的某些術(shù)語定義,也適用于相關(guān)領(lǐng)

域的文件〔例如:電子探針顯微分析(EPMA)、分析電子顯微術(shù)(AEM)、能譜法(EDX)等〕。

2縮略語

AEManalyticalelectronmicroscopy/microscope分析電子顯微術(shù)/分析電子顯微鏡

BSE(BE)backscatteredelectron背散射電子

CPSEMcontrolledpressurescanningelectronmicroscope可控氣壓掃描電鏡

CRTcathoderaytube陰極射線管

EBICelectronbeaminducedcurrent電子束感生電流

EBSDelectronbackscatter/backscatteringdiffraction電子背散射衍射

EDSenergydispersiveXrayspectrometer/spectrometry能譜儀/能譜法

EDXenergydispersiveXrayspectrometry能譜法

EPMAelectronprobemicroanalysis/analyzer電子探針顯微分析/電子探針儀

ESEMenvironmentalscanningelectronmicroscope/microscopy環(huán)境掃描電鏡/環(huán)境掃描電子顯

微術(shù)

FWHMfullwidthathalfmaximum譜峰半高寬

SE

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