GB/T 23414-2009微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語(yǔ)

犐犆犛０１．０４０．３７：３７．０２０

犖３３

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜２３４１４—２００９／犐犛犗２２４９３：２００８

微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語(yǔ)

犕犻犮狉狅犫犲犪犿犪狀犪犾狔狊犻狊—犛犮犪狀狀犻狀犵犲犾犲犮狋狉狅狀犿犻犮狉狅狊犮狅狆狔—

犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔

（ＩＳＯ２２４９３：２００８，ＩＤＴ）

２００９０４０１發(fā)布２００９１２０１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書(shū)

犌犅／犜２３４１４—２００９／犐犛犗２２４９３：２００８

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ

引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅱ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２縮略語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３ＳＥＭ物理基礎(chǔ)術(shù)語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

４ＳＥＭ儀器術(shù)語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!５

５ＳＥＭ成像和圖像處理術(shù)語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１０

６ＳＥＭ圖像詮釋和分析術(shù)語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１４

７ＳＥＭ圖像放大倍率和分辨率校正及測(cè)量術(shù)語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１６

參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１８

中文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１９

英文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２２

書(shū)

犌犅／犜２３４１４—２００９／犐犛犗２２４９３：２００８

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ＩＳＯ２２４９３：２００８《微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語(yǔ)》（英文版）。

為了便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：

———“本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)”一詞改為“本標(biāo)準(zhǔn)”；

———?jiǎng)h除國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的前言。

———“掃描電子顯微鏡”簡(jiǎn)稱“掃描電鏡”。

———增加了中文索引。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：李香庭、曾毅。

Ⅰ

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引言

ＳＥＭ技術(shù)通常用于觀察和表征金屬、合金、陶瓷、玻璃、礦物、聚合物和粉體等固體材料在微米納

米范圍內(nèi)的形貌和組織。另外，應(yīng)用聚焦離子束與掃描電鏡分析技術(shù)能產(chǎn)生３維結(jié)構(gòu)。ＳＥＭ技術(shù)的物

理基礎(chǔ)是電子光學(xué)、電子散射和二次電子發(fā)射的機(jī)理。

ＳＥＭ技術(shù)是微束分析（ＭＢＡ）的一個(gè)主要分支，已廣泛應(yīng)用于高技術(shù)工業(yè)、基礎(chǔ)工業(yè)、冶金和地質(zhì)、

生物和醫(yī)藥、環(huán)境保護(hù)和商貿(mào)等領(lǐng)域。各技術(shù)領(lǐng)域的術(shù)語(yǔ)標(biāo)準(zhǔn)化是該領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展的先決條件之一。

本標(biāo)準(zhǔn)是有關(guān)ＳＥＭ的術(shù)語(yǔ)，它包含掃描電鏡在科學(xué)和工程領(lǐng)域?qū)嵺`中共同應(yīng)用的術(shù)語(yǔ)定義。本

標(biāo)準(zhǔn)是ＩＳＯ／ＴＣ２０２微束分析技術(shù)委員會(huì)，ＳＣ１術(shù)語(yǔ)分技術(shù)委員會(huì)為完成微束分析（ＭＢＡ）領(lǐng)域中電子

探針顯微分析（ＥＰＭＡ）、掃描電子顯微術(shù)（ＳＥＭ）、分析電子顯微術(shù)（ＡＥＭ）、能譜法（ＥＤＸ）等系列標(biāo)準(zhǔn)中

的第二個(gè)標(biāo)準(zhǔn)，主要內(nèi)容包括：

ＳＥＭ物理基礎(chǔ)術(shù)語(yǔ)；

ＳＥＭ儀器術(shù)語(yǔ)；

ＳＥＭ成像和圖像處理術(shù)語(yǔ)；

ＳＥＭ圖像詮釋和分析術(shù)語(yǔ)；

ＳＥＭ圖像放大倍率和分辯率校正及測(cè)量術(shù)語(yǔ)。

Ⅱ

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微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語(yǔ)

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)定義了掃描電子顯微術(shù)（ＳＥＭ）實(shí)踐中使用的術(shù)語(yǔ)。包括一般術(shù)語(yǔ)和按技術(shù)分類的具體概

念的術(shù)語(yǔ)，也包括已經(jīng)在ＩＳＯ２３８３３中定義的術(shù)語(yǔ)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于所有有關(guān)ＳＥＭ實(shí)踐的標(biāo)準(zhǔn)化文件。另外，本標(biāo)準(zhǔn)的某些術(shù)語(yǔ)定義，也適用于相關(guān)領(lǐng)

域的文件〔例如：電子探針顯微分析（ＥＰＭＡ）、分析電子顯微術(shù)（ＡＥＭ）、能譜法（ＥＤＸ）等〕。

２縮略語(yǔ)

ＡＥＭａｎａｌｙｔｉｃａｌｅｌｅｃｔｒｏｎｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ／ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ分析電子顯微術(shù)／分析電子顯微鏡

ＢＳＥ（ＢＥ）ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｅｄｅｌｅｃｔｒｏｎ背散射電子

ＣＰＳＥＭｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄｐｒｅｓｓｕｒｅｓｃａｎｎｉｎｇｅｌｅｃｔｒｏｎｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ可控氣壓掃描電鏡

ＣＲＴｃａｔｈｏｄｅｒａｙｔｕｂｅ陰極射線管

ＥＢＩＣｅｌｅｃｔｒｏｎｂｅａｍｉｎｄｕｃｅｄｃｕｒｒｅｎｔ電子束感生電流

ＥＢＳＤｅｌｅｃｔｒｏｎｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒ／ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ電子背散射衍射

ＥＤＳｅｎｅｒｇｙｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅＸｒａｙｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ／ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ能譜儀／能譜法

ＥＤＸｅｎｅｒｇｙｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅＸｒａｙｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ能譜法

ＥＰＭＡｅｌｅｃｔｒｏｎｐｒｏｂｅｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｉｓ／ａｎａｌｙｚｅｒ電子探針顯微分析／電子探針儀

ＥＳＥＭｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌｓｃａｎｎｉｎｇｅｌｅｃｔｒｏｎｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ／ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ環(huán)境掃描電鏡／環(huán)境掃描電子顯

微術(shù)

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