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  • 2009-10-30 頒布
  • 2010-06-01 實(shí)施
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文檔簡介

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犎80

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅/犜24582—2009

酸浸取電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定

多晶硅表面金屬雜質(zhì)

犜犲狊狋犿犲狋犺狅犱犳狅狉犿犲犪狊狌狉犻狀犵狊狌狉犳犪犮犲犿犲狋犪犾犮狅狀狋犪犿犻狀犪狋犻狅狀狅犳狆狅犾狔犮狉狔狊狋犪犾犾犻狀犲狊犻犾犻犮狅狀

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20091030發(fā)布20100601實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

中華人民共和國

國家標(biāo)準(zhǔn)

酸浸取電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定

多晶硅表面金屬雜質(zhì)

GB/T24582—2009

中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行

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中國標(biāo)準(zhǔn)出版社秦皇島印刷廠印刷

各地新華書店經(jīng)銷

開本880×12301/16印張0.5字?jǐn)?shù)9千字

2009年12月第一版2009年12月第一次印刷

書號(hào):155066·139583

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犌犅/犜24582—2009

前言

本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC203)提出并歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:新光硅業(yè)科技責(zé)任有限公司。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:王波、過惠芬、吳道榮、梁洪、敖細(xì)平。

犌犅/犜24582—2009

酸浸取電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定

多晶硅表面金屬雜質(zhì)

1范圍

1.1本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質(zhì),并用電感耦合等離子質(zhì)譜儀定量檢測多晶硅表

面上的金屬雜質(zhì)痕量分析方法。

1.2本標(biāo)準(zhǔn)適用于堿金屬、堿土金屬和第一系列過渡元素如鈉、鉀、鈣、鐵、鎳、銅、鋅以及其他元素如鋁

的檢測。

1.3本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種棒、塊、粒、片狀多晶表面金屬污染物的檢測。由于塊、片或粒形狀不規(guī)則,面積

很難準(zhǔn)確測定,故根據(jù)樣品重量計(jì)算結(jié)果,使用的樣品重量為50g~300g,檢測限為0.01ng/mL。

1.4酸的濃度、組成、溫度和浸取時(shí)間決定著表面腐蝕深度和表面污染物的浸取效率。在這個(gè)實(shí)驗(yàn)方

法中腐蝕掉的樣品重量小于樣品重量的1%。

1.5本標(biāo)準(zhǔn)適用于重量為25g~5000g的樣品的測定,為了達(dá)到仲裁的目的,該實(shí)驗(yàn)方法規(guī)定樣品的

重量為約300g。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有

的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ISO146441潔凈室和相應(yīng)的受控環(huán)境第1部分:空氣中的懸浮粒子的分類

SEMIC28氫氟酸的詳細(xì)說明和指導(dǎo)

SEMIC30過氧化氫的詳細(xì)說明和指導(dǎo)

SEMIC35硝酸的詳細(xì)說明和指導(dǎo)

ASTMD5127電子和半導(dǎo)體工業(yè)中用超純水指南

3術(shù)語、定義和縮略語

3.1術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

3.1.1

酸空白犪犮犻犱犫犾犪狀犽

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