標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 6462-1986 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度的顯微鏡測量方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于通過顯微鏡觀察并測量金屬基體上鍍覆或形成的覆蓋層,如電鍍層、化學(xué)轉(zhuǎn)化膜等的厚度。其主要內(nèi)容包括:

  • 術(shù)語定義:明確了與本標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)的術(shù)語及其定義,例如“覆蓋層”、“橫斷面”等,確保在理解和應(yīng)用過程中對關(guān)鍵概念有一致的認(rèn)識。
  • 樣品制備:詳細(xì)描述了如何準(zhǔn)備待測樣品,包括切割、鑲嵌(如果需要的話)、拋光以及腐蝕處理等步驟。目的是使覆蓋層與基材之間的界面清晰可見,便于后續(xù)的顯微觀測。
  • 顯微鏡設(shè)置:介紹了使用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行測量時(shí)所需的儀器配置要求,比如放大倍數(shù)的選擇、照明方式等,以保證獲得清晰準(zhǔn)確的圖像。
  • 測量過程:說明了從選取合適視野到讀取數(shù)據(jù)的具體操作流程。強(qiáng)調(diào)應(yīng)選擇多個(gè)代表性區(qū)域進(jìn)行多次測量,并記錄下所有相關(guān)參數(shù)。
  • 結(jié)果計(jì)算:給出了根據(jù)所獲得的數(shù)據(jù)計(jì)算平均值及不確定度的方法。此外還提到了如何評估單次測量結(jié)果的有效性以及不同位置間差異性的考量。
  • 報(bào)告編寫:提供了撰寫實(shí)驗(yàn)報(bào)告的基本框架,包括但不限于實(shí)驗(yàn)條件、采用的標(biāo)準(zhǔn)、主要發(fā)現(xiàn)等內(nèi)容。

此標(biāo)準(zhǔn)為實(shí)驗(yàn)室工作人員提供了一套系統(tǒng)化的方法來精確測定金屬表面處理后形成的各種類型覆蓋層的厚度,對于質(zhì)量控制、科學(xué)研究等領(lǐng)域具有重要意義。


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  • 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 6462-2005
  • 1986-06-11 頒布
  • 1987-05-01 實(shí)施
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GB/T 6462-1986金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法_第1頁
GB/T 6462-1986金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法_第2頁
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UDC669.058:531.717.1中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB6462-86金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法Metallicandoxide:coatings一MeasurementofcoatingthicknessMicroscopicalmethod1986-06-11發(fā)布1987-05-01實(shí)施家標(biāo)準(zhǔn)局批準(zhǔn)

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)金屬和氧化物覆蓋層GB6662-86橫斷面厚度顯微鏡測量方法Metallicandoxidecoatings-Measurementofcoatingthickness-Microscopicalmethod本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)說明了運(yùn)用金相顯微鏡對金屬鍍層、氧化物覆蓋層的局部厚度作橫斷面顯微測量的方法本標(biāo)準(zhǔn)還可以測量箱瓷或糖瓷覆蓋層的局部厚度及測量薄的厚度,用金相顯微鏡進(jìn)行測量,其絕對精度可達(dá)到0.8Hm。本方法可作為金屬鏡層、氧化層厚度測量的仲裁方法。本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO1463一1982《金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法》生:局部厚度:在試樣上指定的部位內(nèi),作規(guī)定次數(shù)的調(diào)量。其嘆度取平均值、方法概述從待測件上指定的位置切割一塊試樣,鑲嵌后,對橫斷面進(jìn)行適當(dāng)?shù)难心?、拋光和浸蝕。用校正過的標(biāo)尺測量覆蓋層橫斷面的厚度。!影響測量精度的因素2.1表面粗糙度若覆蓋層或覆蓋層的基體表面是粗糙的,則與漫蓋層橫斷面接觸的一條或兩條界面線也是不規(guī)則的,以致不能精確測量(見附錄A(補(bǔ)充件)中A·4】。2.2橫斷面的斜度橫斷面必須蠶直于待測覆蓋層,著有偏茶,則測得的厚度將大于真實(shí)厚度。如垂直度偏差10.則測量值比真實(shí)厚度大1.5"。2.3覆基層變形嵌試樣和制備橫斷面的過程中,過高的溫度和兒力將使軟的或低培點(diǎn)的覆蓋層產(chǎn)生變形,在制備脆性材料橫斷面時(shí),過度的打磨也同樣會(huì)產(chǎn)生變形2.4覆蓋層邊緣倒角制備試樣時(shí),不正確的鑲嵌、研磨、拋光和浸蝕都會(huì)引起覆蓋層橫斷面的邊緣倒角.或者不平整,采用顯微鏡測量則得不到真實(shí)厚度,因此在鑲嵌之前,試樣常要附加鍍層,這樣可使邊緣倒角減至最?。ㄒ夾.1)。2.5附加鍍層在制備橫斷面時(shí)為了保護(hù)覆蓋層的邊緣,以避免測量誤茶,常應(yīng)在試樣上附加鍍層。附加鍍層前、應(yīng)注意不要損壞待測量的鍍層并避免因除油、酸洗或形成合金而使鍍層減薄。2.6漫蝕適當(dāng)?shù)穆g能在兩種金屬的界面線上產(chǎn)生暗細(xì)而清晰的界面線:過度的沒蝕會(huì)使界面

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