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半導體物理

SemiconductorPhysics雷天民leitianmin@163.com2例1、銻化銦介電常數(shù)ε=17,電子有效質量mn=0.014m,試計算:1)淺施主的電離能和基態(tài)軌道半徑;2)相鄰施主上的基態(tài)電子軌道開始交疊時的施主濃度。當超過這個濃度時,將出現(xiàn)什么效應?

(已知氫的基態(tài)電離能E0=13.6eV,玻爾半徑a0=0.53?)[解]1)利用類氫模型,基態(tài)電離能和基態(tài)軌道半徑分別為(?)32)設想施主雜質均勻地排列成一個立方格子,那么Nd-1/3即表示相鄰雜質小心的距離。所以

當施主濃度越過這個數(shù)值時,相鄰施主上的基態(tài)電子軌道將發(fā)生交疊,這時雜質能級將擴展成一個雜質能帶。即束縛于雜質上的電子,可以在不同雜質原子之間轉移,雜質帶表現(xiàn)出一定的導電性。

與晶體能帶中的電子相比,雜質帶中的電子運動要困難得多。只是在低溫下,當能帶中的載流子對電導的貢獻變得很小時,雜質帶的導電性才可以表現(xiàn)出來。42023/2/6雷天民5例3:如果n型半導體導帶極值在[110]軸上及相應對稱方向上,回旋共振實驗結果應如何?[解]由解析幾何定理得,B與k的夾角余弦cosθ為:

思路:確定可取的cosθ,即可確定吸收蜂個數(shù)。

據(jù)立方對稱性,有12個方向上的旋轉橢球面2023/2/6雷天民6對不同方向的旋轉橢球面取不同的一組(k1,k2,k3)。(1)若B沿[111]方向則cosθ可以取兩組數(shù):

可知當B沿[111]方向時應有兩個共振吸收峰;可知當B沿[110]方向時應有三個共振吸收峰;(4)若B沿任意方向,則cosθ可取六個不同值,所以應有六個共振吸收峰。(2)若B沿[110]方向則cosθ可以取三組數(shù):(3)若B沿[100]方向則cosθ可以取兩組數(shù):2023/2/6雷天民7例4、若鍺中雜質電離能△ED=0.01eV,施主雜質濃度分別為ND=1014cm-3及1017cm-3,計算:(1)99%電離;(2)90%電離;(3)50%電離時溫度各為多少?[解]思路:區(qū)分電離程度,選擇適用條件。

對于強電離,未電離雜質占的百分比為:2023/2/6雷天民8

ND=1014cm-3,99%電離,即D-=1-99%=0.01

若ND=1017cm-3,99%電離,即D-=1-99%=0.012023/2/6雷天民9(2)ND=1014cm-3,90%電離,即D-=1-90%=0.1

若ND=1017cm-3,90%電離,D-=0.12023/2/6雷天民10(3)50%電離不屬于強電離,不能再用上式即取對數(shù)后得整理得2023/2/6雷天民11

若ND=1014cm-3,有

若ND=1017cm-3,有2023/2/6雷天民12上述對數(shù)方程可用圖解法或迭代法解出!圖解法:分別令作y1和y2曲線,并由兩條曲線相交求得對應溫度T。2023/2/6雷天民13迭代法:以ND=1014cm-3,99%電離為例,有TnlnTnTn+13005.7018.618.62.9255.755.74.0440.640.63.7035.735.73.5837.837.83.6336.936.93.6137.1

給T一個初始值,代入方程右邊,可得出一個新的T值。再將所得的T值代回方程右邊進行計算,如此反復循環(huán)。直至代進去的T值與計算出來的T值相等(或非常接近)為止。這時所得的T值即為所求。2023/2/6雷天民14例5、設二維正方格子的晶格常數(shù)為a,若電子能量可表示為試求狀態(tài)密度。[解]能量為

E的等能面方程式可以寫成:顯然,是一個半徑為R的圓,其面積為2023/2/6雷天民15乘以k空間狀態(tài)密度2S(晶體的面積)即可得圓內所包含的狀態(tài)數(shù)為:取微分,有單位能量間隔內的狀態(tài)數(shù),即狀態(tài)密度為2023/2/6雷天民16例6、有一硅樣品,施主濃度為ND=2×1014cm-3,受主濃度為NA=1014cm-3,已知施主電離能ED為0.05eV,試求99%的施主雜質電離時的溫度。[解]令ND+表示電離施主的濃度,則電中性方程為:略去價帶空穴的貢獻,則得:(受主雜質全部電離)式中對硅材料由題意,有2023/2/6雷天民17

當有99%的施主電離時,說明有1%的施主有電子占據(jù),即f(ED)=0.01。2023/2/6雷天民18例7、在一摻硼的非簡并p型硅中,含有一定濃度的銦,室溫下測出空穴濃度p0=1.1×1016/cm3。已知摻硼濃度NA1=1016/cm3,其電離能EA1=EA1-Ev=0.045eV,銦的電離能EA2=EA1-Ev=0.16eV,試求這種半導體中含銦的濃度。室溫下硅的Nv=1.04×1019/cm3。[解]對非簡并p型硅,有代入數(shù)據(jù),計算得2023/2/6雷天民19由題意,有價帶空穴p0是由兩種雜質電離后提供的,即所以代入數(shù)據(jù),計算得2023/2/6雷天民20例8、計算含有施主雜質濃度ND=9×1015cm-3及受主雜質濃度為1.

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