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文檔簡介

IntroductionofICAssemblyProcess

IC封裝工藝簡介FOL–BackGrinding背面減薄Taping粘膠帶BackGrinding磨片De-Taping去膠帶將從晶圓廠出來的Wafer進(jìn)行背面研磨,來減薄晶圓達(dá)到

封裝需要的厚度(8mils~10mils);磨片時,需要在正面(ActiveArea)貼膠帶保護電路區(qū)域

同時研磨背面。研磨之后,去除膠帶,測量厚度;FOL–WaferSaw晶圓切割WaferMount晶圓安裝WaferSaw晶圓切割WaferWash清洗將晶圓粘貼在藍(lán)膜(Mylar)上,使得即使被切割開后,不會散落;通過SawBlade將整片Wafer切割成一個個獨立的Dice,方便后面的

DieAttach等工序;WaferWash主要清洗Saw時候產(chǎn)生的各種粉塵,清潔Wafer;FOL–2ndOpticalInspection二光檢查主要是針對WaferSaw之后在顯微鏡下進(jìn)行Wafer的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品。ChippingDie

崩邊FOL–DieAttach芯片粘接WriteEpoxy點銀漿DieAttach芯片粘接EpoxyCure銀漿固化EpoxyStorage:

零下50度存放;EpoxyAging:

使用之前回溫,除去氣泡;EpoxyWriting:

點銀漿于L/F的Pad上,Pattern可選;FOL–DieAttach芯片粘接芯片拾取過程:

1、EjectorPin從wafer下方的Mylar頂起芯片,使之便于

脫離藍(lán)膜;

2、Collect/Pickuphead從上方吸起芯片,完成從Wafer

到L/F的運輸過程;

3、Collect以一定的力將芯片Bond在點有銀漿的L/F

的Pad上,具體位置可控;

4、BondHeadResolution:

X-0.2um;Y-0.5um;Z-1.25um;

5、BondHeadSpeed:1.3m/s;FOL–EpoxyCure銀漿固化銀漿固化:175°C,1個小時;

N2環(huán)境,防止氧化:DieAttach質(zhì)量檢查:DieShear(芯片剪切力)FOL–WireBonding引線焊接利用高純度的金線(Au)、銅線(Cu)或鋁線(Al)把Pad

和Lead通過焊接的方法連接起來。Pad是芯片上電路的外接

點,Lead是LeadFrame上的連接點。

W/B是封裝工藝中最為關(guān)鍵的一部工藝。FOL–WireBonding引線焊接KeyWords:Capillary:陶瓷劈刀。W/B工藝中最核心的一個BondingTool,內(nèi)部為空心,中間穿上金線,并分別在芯片的Pad和LeadFrame的Lead上形成第一和第二焊點;EFO:打火桿。用于在形成第一焊點時的燒球。打火桿打火形成高溫,將外露于Capillary前端的金線高溫熔化成球形,以便在Pad上形成第一焊點(BondBall);BondBall:第一焊點。指金線在Cap的作用下,在Pad上形成的焊接點,一般為一個球形;Wedge:第二焊點。指金線在Cap的作用下,在LeadFrame上形成的焊接點,一般為月牙形(或者魚尾形);W/B四要素:壓力(Force)、超聲(USGPower)、時間(Time)、溫度(Temperature);FOL–WireBonding引線焊接利用高純度的金線(Au)、銅線(Cu)或鋁線(Al)把Pad

和Lead通過焊接的方法連接起來。Pad是芯片上電路的外接

點,Lead是LeadFrame上的連接點。

W/B是封裝工藝中最為關(guān)鍵的一部工藝。FOL–WireBonding引線焊接EFO打火桿在磁嘴前燒球Cap下降到芯片的Pad上,加Force和Power形成第一焊點Cap牽引金線上升Cap運動軌跡形成良好的WireLoopCap下降到LeadFrame形成焊接Cap側(cè)向劃開,將金線切斷,形成魚尾Cap上提,完成一次動作FOL–WireBonding引線焊接WireBond的質(zhì)量控制:WirePull、StitchPull(金線頸部和尾部拉力)BallShear(金球推力)WireLoop(金線弧高)BallThickness(金球厚度)CraterTest(彈坑測試)Intermetallic(金屬間化合物測試)SizeThicknessEOL–EndofLine后段工藝Molding注塑EOLLaserMark激光打字PMC高溫固化De-flash/Plating去溢料/電鍍Trim/Form切筋/成型4thOptical第四道光檢Annealing電鍍退火Note:JustForTSSOP/SOIC/QFPpackageEOL–Molding(注塑)為了防止外部環(huán)境的沖擊,利用EMC

把WireBonding完成后的產(chǎn)品封裝起

來的過程,并需要加熱硬化。BeforeMoldingAfterMoldingEOL–Molding(注塑)MoldingTool(模具)EMC(塑封料)為黑色塊狀,低溫存儲,使用前需先回溫。其特

性為:在高溫下先處于熔融狀態(tài),然后會逐漸硬化,最終成型。Molding參數(shù):

MoldingTemp:175~185°C;ClampPressure:3000~4000N;

TransferPressure:1000~1500Psi;TransferTime:5~15s;

CureTime:60~120s;CavityL/FL/FEOL–LaserMark(激光打字)在產(chǎn)品(Package)的正面或者背面激光刻字。內(nèi)容有:產(chǎn)品名稱,生產(chǎn)日期,生產(chǎn)批次等;BeforeAfterEOL–PostMoldCure(模后固化)用于Molding后塑封料的固化,保護IC內(nèi)部結(jié)構(gòu),消除內(nèi)部應(yīng)力。

CureTemp:175+/-5°C;CureTime:8HrsESPECOven4hrsEOL–De-flash(去溢料)BeforeAfter目的:De-flash的目的在于去除Molding后在管體周圍Lead之間

多余的溢料;

方法:弱酸浸泡,高壓水沖洗;EOL–PostAnnealingBake(電鍍退火)目的:讓無鉛電鍍后的產(chǎn)品在高溫下烘烤一段時間,目的在于

消除電鍍層潛在的晶須生長(WhiskerGrowth)的問題;

條件:150+/-5C;2Hrs;晶須晶須,又叫Whisker,是指錫在長時間的潮濕環(huán)境和溫度變化環(huán)境下生長出的一種須狀晶體,可能導(dǎo)致產(chǎn)品引腳的短路。EOL–Trim&Form(切筋成型)

Trim:將一條片的LeadFrame切割成單獨的Unit(IC)的過程;

Form:對Trim后的IC產(chǎn)品進(jìn)行引腳成型,達(dá)到工藝需要求的形狀,

并放置進(jìn)Tube或者Tray盤中;EOL–Trim&Form(切筋成型)CuttingTool&FormingPunchCuttingDieStripperPadFormingDie1234ICProcessFlowCustomer客戶ICDesignIC設(shè)計WaferFab晶圓制造WaferProbe晶圓測試Assembly&TestIC封裝測試SMTIC組裝ICPackage(IC的封裝形式)Package--封裝體:指芯片(Die)和不同類型的框架(L/F)和塑封料(EMC)形成的不同外形的封裝體。ICPackage種類很多,可以按以下標(biāo)準(zhǔn)分類:按封裝材料劃分為:金屬封裝、陶瓷封裝、塑料封裝按照和PCB板連接方式分為:

PTH封裝和SMT封裝按照封裝外型可分為:

SOT、SOIC、TSSOP、QFN、QFP、BGA、CSP等;ICPackage(IC的封裝形式)

按封裝材料劃分為:

金屬封裝陶瓷封裝

塑料封裝金屬封裝主要用于軍工或航天技術(shù),無商業(yè)化產(chǎn)品;陶瓷封裝優(yōu)于金屬封裝,也用于軍事產(chǎn)品,占少量商業(yè)化市場;塑料封裝用于消費電子,因為其成本低,工藝簡單,可靠性高而占有絕大部分的市場份額;ICPackage(IC的封裝形式)

按與PCB板的連接方式劃分為:

PTHSMTPTH-PinThroughHole,通孔式;SMT-SurfaceMountTechnology,表面貼裝式。目前市面上大部分IC均采為SMT式的SMTICPackage(IC的封裝形式)

按封裝外型可分為:

SOT、QFN

、SOIC、TSSOP、QFP、BGA、CSP等;決定封裝形式的兩個關(guān)鍵因素:

封裝效率。芯片面積/封裝面積,盡量接近1:1;引腳數(shù)。引腳數(shù)越多,越高級,但是工藝難度也相應(yīng)增加;其中,CSP由于采用了FlipChip技術(shù)和裸片封裝,達(dá)到了

芯片面積/封裝面積=1:1,為目前最高級的技術(shù);封裝形式和工藝逐步高級和復(fù)雜ICPackage(IC的封裝形式)QFN—QuadFlatNo-leadPackage四方無引腳扁平封裝

SOIC—SmallOutlineIC小外形IC封裝

TSSOP—ThinSmallShrinkOutlinePackage薄小外形封裝

QFP—QuadFlatPackage四方引腳扁平式封裝

BGA—BallGridArrayPackage球柵陣列式封裝

CSP—ChipScalePackage芯片尺寸級封裝ICPackageStructure(IC結(jié)構(gòu)圖)TOPVIEWSIDEVIEWLeadFrame

引線框架GoldWire

金線DiePad

芯片焊盤Epoxy

銀漿MoldCompound環(huán)氧樹脂RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【W(wǎng)afer】晶圓……RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【LeadFrame】引線框架提供電路連接和Die的固定作用;主要材料為銅,會在上面進(jìn)行鍍銀、

NiPdAu等材料;L/F的制程有Etch和Stamp兩種;易氧化,存放于氮氣柜中,濕度小于40%RH;除了BGA和CSP外,其他Package都會采用LeadFrame,

BGA采用的是Substrate;RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【GoldWire】焊接金線實現(xiàn)芯片和外部引線框架的電性和物

理連接;金線采用的是99.99%的高純度金;同時,出于成本考慮,目前有采用銅

線和鋁線工藝的。優(yōu)點是成本降低,

同時工藝難度加大,良率降低;線徑?jīng)Q定可傳導(dǎo)的電流;0.8mil,

1.0mil,1.3mils,1.5mils和2.0mils;RawMaterialinAssembly(封裝原材料)【MoldCompoun

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