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文檔簡介

半導體二極管及其應用1§1半導體的基本知識§1.1PN結(jié)導電能力介于導體和絕緣體之間的物質(zhì)稱為半導體,半導體器件中用的最多的是硅和鍺。半導體的特點:當受外界熱和光的作用時,它的導電能力明顯變化。往純凈的半導體中摻入某些雜質(zhì),會使它的導電能力明顯改變。2§1.1.1本征半導體一、本征半導體的結(jié)構(gòu)特點GeSi通過一定的工藝過程,可以將半導體制成晶體?,F(xiàn)代電子學中,用的最多的半導體是硅和鍺,它們的最外層電子(價電子)都是四個。3硅和鍺的共價鍵結(jié)構(gòu)共價鍵共用電子對+4+4+4+4+4表示除去價電子后的原子5共價鍵中的兩個電子被緊緊束縛在共價鍵中,稱為束縛電子,常溫下束縛電子很難脫離共價鍵成為自由電子,因此本征半導體中的自由電子很少,所以本征半導體的導電能力很弱。形成共價鍵后,每個原子的最外層電子是八個,構(gòu)成穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。共價鍵有很強的結(jié)合力,使原子規(guī)則排列,形成晶體。+4+4+4+46二、本征半導體的導電機理在絕對0度(T=0K)和沒有外界激發(fā)時,價電子完全被共價鍵束縛著,本征半導體中沒有可以運動的帶電粒子(即載流子),它的導電能力為0,相當于絕緣體。在常溫下,使一些價電子獲得足夠的能量而脫離共價鍵的束縛,成為自由電子,同時共價鍵上留下一個空位,稱為空穴。1.載流子、自由電子和空穴這一現(xiàn)象稱為本征激發(fā),也稱熱激發(fā)。72.本征半導體的導電機理+4+4+4+4在其它力的作用下,空穴吸引附近的電子來填補,這樣的結(jié)果相當于空穴的遷移,而空穴的遷移相當于正電荷的移動,因此可以認為空穴是載流子。本征半導體中存在數(shù)量相等的兩種載流子,即自由電子和空穴。9溫度越高,載流子的濃度越高。因此本征半導體的導電能力越強,溫度是影響半導體性能的一個重要的外部因素,這是半導體的一大特點。本征半導體的導電能力取決于載流子的濃度。本征半導體中電流由兩部分組成:

1.自由電子移動產(chǎn)生的電流。2.空穴移動產(chǎn)生的電流。10§

1.1.2雜質(zhì)半導體在本征半導體中摻入某些微量的雜質(zhì),就會使半導體的導電性能發(fā)生顯著變化。其原因是摻雜半導體的某種載流子濃度大大增加。P型半導體:空穴濃度大大增加的雜質(zhì)半導體,也稱為(空穴半導體)。N型半導體:自由電子濃度大大增加的雜質(zhì)半導體,也稱為(電子半導體)。11+4+4+5+4多余電子磷原子N型半導體中的載流子是什么?1、由施主原子提供的電子,濃度與施主原子相同。2、本征半導體中成對產(chǎn)生的電子和空穴。摻雜濃度遠大于本征半導體中載流子濃度,所以,自由電子濃度遠大于空穴濃度。自由電子稱為多數(shù)載流子(多子),空穴稱為少數(shù)載流子(少子)。13二、P型半導體在硅或鍺晶體中摻入少量的三價元素,如硼(或銦),晶體點陣中的某些半導體原子被雜質(zhì)取代,硼原子的最外層有三個價電子,與相鄰的半導體原子形成共價鍵時,產(chǎn)生一個空穴。這個空穴可能吸引束縛電子來填補,使得硼原子成為不能移動的帶負電的離子。由于硼原子接受電子,所以稱為受主原子。+4+4+3+4空穴硼原子P型半導體中空穴是多子,電子是少子。14三、雜質(zhì)半導體的示意表示法------------------------P型半導體++++++++++++++++++++++++N型半導體雜質(zhì)型半導體多子和少子的移動都能形成電流。但由于數(shù)量的關(guān)系,起導電作用的主要是多子。近似認為多子與雜質(zhì)濃度相等。15P型半導體------------------------N型半導體++++++++++++++++++++++++擴散運動內(nèi)電場E漂移運動擴散的結(jié)果是使空間電荷區(qū)逐漸加寬,空間電荷區(qū)越寬。內(nèi)電場越強,就使漂移運動越強,而漂移使空間電荷區(qū)變薄??臻g電荷區(qū),也稱耗盡層。17漂移運動P型半導體------------------------N型半導體++++++++++++++++++++++++擴散運動內(nèi)電場E所以擴散和漂移這一對相反的運動最終達到平衡,相當于兩個區(qū)之間沒有電荷運動,空間電荷區(qū)的厚度固定不變。18------------------------++++++++++++++++++++++++空間電荷區(qū)N型區(qū)P型區(qū)電位VV019二、PN結(jié)的單向?qū)щ娦?/p>

PN結(jié)加上正向電壓、正向偏置的意思都是:P區(qū)加正、N區(qū)加負電壓。PN結(jié)加上反向電壓、反向偏置的意思都是:

P區(qū)加負、N區(qū)加正電壓。21----++++RE1、PN結(jié)正向偏置內(nèi)電場外電場變薄PN+_內(nèi)電場被削弱,多子的擴散加強能夠形成較大的擴散電流。222、PN結(jié)反向偏置----++++內(nèi)電場外電場變厚NP+_內(nèi)電場被被加強,多子的擴散受抑制。少子漂移加強,但少子數(shù)量有限,只能形成較小的反向電流。RE233PN結(jié)方程其中PN結(jié)的伏安特性IS——反向飽和電流VT——溫度的電壓當量且在常溫下(T=300K)25

三、

PN結(jié)的反向擊穿當PN結(jié)的反向電壓增加到一定數(shù)值時,反向電流突然快速增加,此現(xiàn)象稱為PN結(jié)的反向擊穿。熱擊穿——不可逆雪崩擊穿——高反壓,碰撞電離齊納擊穿——較低反壓,場致激發(fā)電擊穿——可逆26四、PN結(jié)的電容效應

PN結(jié)具有一定的電容效應(結(jié)電容),它由兩方面的因素決定。

一是勢壘電容CB,

二是擴散電容CD。27

擴散電容是由多子擴散后,在PN結(jié)的另一側(cè)面積累而形成的。因PN結(jié)正偏時,由N區(qū)擴散到P區(qū)的電子,與外電源提供的空穴相復合,形成正向電流。剛擴散過來的電子就堆積在P區(qū)內(nèi)緊靠PN結(jié)的附近,形成一定的多子濃度梯度分布曲線。2擴散電容CD反之,由P區(qū)擴散到N區(qū)的空穴,在N區(qū)內(nèi)也形成類似的濃度梯度分布曲線。擴散電容的示意圖如下頁所示。29擴散電容示意圖當外加正向電壓不同時,擴散電流即外電路電流的大小也就不同。所以PN結(jié)兩側(cè)堆積的多子的濃度梯度分布也不同,這就相當電容的充放電過程。勢壘電容和擴散電容均是非線性電容。都很小。正偏時擴散電容為主;反偏時勢壘電容為主。30

§2半導體二極管PN結(jié)加上管殼和引線,就成為半導體二極管。引線外殼線觸絲線基片點接觸型PN結(jié)面接觸型PN二極管的電路符號高頻,小電流低頻,大電流31半導體二極管的型號國家標準對半導體器件型號的命名舉例如下:32半導體二極管圖片3334

§2.1伏安特性UI死區(qū)電壓硅管0.5V,鍺管0.1V。導通壓降:硅管0.6~0.8V,鍺管0.1~0.3V。反向擊穿電壓UBR35

§2.2二極管的等效電路1.理想模型3.折線模型2.恒壓降模型364.小信號模型二極管工作在正向特性的某一小范圍內(nèi)時,其正向特性可以等效成一個微變電阻。即根據(jù)得Q點處的微變電導則常溫下(T=300K)Q??37疊加?。?8§2.3主要參數(shù)1.最大整流電流

IOM二極管長期使用時,允許流過二極管的最大正向平均電流。2.反向擊穿電壓UBR二極管反向擊穿時的電壓值。擊穿時反向電流劇增,二極管的單向?qū)щ娦员黄茐?,甚至過熱而燒壞。手冊上給出的最高反向工作電壓UWRM一般是UBR的一半。393.反向電流

IR指二極管加反向峰值工作電壓時的反向電流。反向電流大,說明管子的單向?qū)щ娦圆?,因此反向電流越小越好。反向電流受溫度的影響,溫度越高反向電流越大。硅管的反向電流較小,鍺管的反向電流要比硅管大幾十到幾百倍。以上均是二極管的直流參數(shù),二極管的應用是主要利用它的單向?qū)щ娦?,主要應用于整流、限幅、保護等等。下面介紹兩個交流參數(shù)。404.微變電阻rDiDuDIDUDQiDuDrD是二極管特性曲線上工作點Q附近電壓的變化與電流的變化之比:顯然,rD是對Q附近的微小變化區(qū)域內(nèi)的電阻。41二極管:死區(qū)電壓=0.5V,正向壓降0.7V(硅二極管)理想二極管:死區(qū)電壓=0,正向壓降=0RLuiuouiuott二極管的應用舉例二極管半波整流42§2.4穩(wěn)壓二極管UIIZIZmaxUZIZ穩(wěn)壓誤差曲線越陡,電壓越穩(wěn)定。+-UZ動態(tài)電阻:rz越小,穩(wěn)壓性能越好43(4)穩(wěn)定電流IZ、最大、最小穩(wěn)定電流Izmax、Izmin。(5)最大允許功耗穩(wěn)壓二極管的參數(shù):(1)穩(wěn)定電壓

UZ(2)電壓溫度系數(shù)U(%/℃)穩(wěn)壓值受溫度變化影響的的系數(shù)。(3)動態(tài)電阻44穩(wěn)壓二極管的應用舉例uoiZDZRiLiuiRL穩(wěn)壓管的技術(shù)參數(shù):負載電阻。要求當輸入電壓由正常值發(fā)生20%波動時,負載電壓基本不變。解:令輸入電壓達到上限時,流過穩(wěn)壓管的電流為Izmax。求:電阻R和輸入電壓ui的正常值?!匠?45令輸入電壓降到下限時,流過穩(wěn)壓管的電流為Izmin?!匠?uoiZDZRiLiuiRL聯(lián)立方

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