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文檔簡介
12010.03.31,西安
晶體硅電池技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀與趨勢
2提綱1、引言2、太陽電池的基本原理及分類3、晶硅電池的技術(shù)發(fā)展4、晶硅電池的發(fā)展趨勢5、結(jié)語
31、引言自1954年有使用意義的6%單晶硅電池誕生以來,晶體硅電池在技術(shù)、產(chǎn)業(yè)和市場發(fā)展中一直占據(jù)著主導(dǎo)地位,而且在今后相當(dāng)長的時(shí)間內(nèi)仍將繼續(xù)發(fā)揮其主導(dǎo)地位。因此了解晶體硅電池技術(shù)的發(fā)展把握今后光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢有重要意義。5硅中摻磷形成n
型半導(dǎo)體硅中摻硼形成P
型半導(dǎo)體p-n結(jié)的形成66光生載流子的產(chǎn)生光生電壓的產(chǎn)生7在陽光照射下太陽電池輸出電能99
電池光電化學(xué)電池其他新概念電池(第三代電池?)染料敏化電池(如有機(jī)電池等)多結(jié)電池(太陽光譜多級利用)光子的分離(下轉(zhuǎn)換)和合并(上轉(zhuǎn)換)中間帶或雜質(zhì)帶電池%115~632~3結(jié)概念證明階段電池晶硅電池薄膜電池(第二代電池?)太陽級硅硅基化合物Wafer(切片)Ribbon(帶硅)多晶a-Si,c-SiPECVD多晶基RTCVD等CdTeCIGSGaAs迭層
單晶多晶%%24.716-2020.313-161713-1613-158-10>1516.5~1019.510-12~3925-28產(chǎn)業(yè)化產(chǎn)業(yè)化部分產(chǎn)業(yè)化實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)業(yè)化產(chǎn)業(yè)化聚光示范3)晶硅電池發(fā)展簡史◆1954年貝爾實(shí)驗(yàn)室G.Pearson和D.Charpin研制成功6%的第一個有實(shí)用價(jià)值的單晶硅太陽電池。這一突破性的成果為
“最終導(dǎo)致使無限陽光為人類文明服務(wù)的新時(shí)代的開始”,是劃時(shí)代的里程碑,為現(xiàn)代太陽電池的先驅(qū)。1954年美國貝爾實(shí)驗(yàn)室11◆
1958年晶硅電池首次在空間應(yīng)用(美國先鋒I號);◆
1959年美國HoffmanElectronics的晶硅電池效率突破10%;◆60年代初西門子法制備多晶硅金屬實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,為太陽電池的地面大量應(yīng)用奠定了材料基礎(chǔ);◆
70年代初在地面得到應(yīng)用,70年代末地面太陽電池產(chǎn)量已遠(yuǎn)超過空間電池?!?/p>
1985年澳大利亞新南威爾士大學(xué)的硅太陽電池效率突破20%,1998年達(dá)到24.7%(25%);◆2004年德國實(shí)施修正的《上網(wǎng)電價(jià)法》,拉動世界光伏產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展。13晶硅電池的技術(shù)發(fā)展自上世紀(jì)60年代以來,在晶硅電池的發(fā)展過程中解決了許多關(guān)鍵科學(xué)和技術(shù)問題,使晶硅電池效率不斷提高,實(shí)驗(yàn)室最好效率達(dá)到理論效率的85%,產(chǎn)業(yè)化電池效率達(dá)到理論效率的50%~70%,對降低光伏發(fā)電成本起到關(guān)鍵作用。
14各種太陽電池效率記錄的發(fā)展其中藍(lán)色為晶硅電池15晶硅電池效率記錄的發(fā)展17(1)減少光學(xué)損失以提高電池效率
陷光理論及技術(shù)
裸硅表面反射率~36%,減少光的反射損失是提高電池效率的最重要的措施之一。
最佳減反射的表面織構(gòu)化技術(shù);
最佳前表面減反射涂層技術(shù);
最佳后表面反射涂層;
最小的柵線遮擋。18
(2)減少電學(xué)損失以提高電池效率
最完美的晶體結(jié)構(gòu)(高純度,零缺陷);理想p-n結(jié)技術(shù):最佳擴(kuò)散-SE技術(shù)
理想鈍化技術(shù):鈍化理論:使器件表面或體內(nèi)晶界的光生載流子復(fù)合中心失去復(fù)合活性鈍化技術(shù):SiO2,SiNX,SiC,a-Si,H等;
最小接觸電阻、最大并聯(lián)電阻;
最佳前場和背場。
192)在提高效率方面的努力和案例
(1)高效單晶硅電池
◆背接觸電池:Sunpower(Stamford)
傳統(tǒng)SunPower電池采用光刻工藝,
=23%。
采用絲網(wǎng)印刷工藝代替光刻的降低成本,電池效率達(dá)到20%.
21
◆
LFC-PERC電池(激光打點(diǎn)接觸-發(fā)射區(qū)與背面鈍化電池(UNSW)-Fraunhofer研究所
=23%=21.6%
光刻工藝激光打點(diǎn)工藝22◆新南威爾士大學(xué)
PERL電池
=24.7%◆北京太陽能研究所高效電池=19.8%23◆一種n-型襯底高效電池結(jié)構(gòu)25◆Sanyo’HITsolarcell(a-Si/nc-Si)(HeterojunctionwithIntrinsicThin-layer)a-Si層卓越鈍化性能+n型襯底優(yōu)越性實(shí)驗(yàn)室最好效率:=21.5%
商業(yè)化電池效率;=19.5%ntypec-Si(textured)p/ia-Sii/na-Si00.20.40.60.801234Current(A)5Output(W)1.0012345AM-1.5,100mW/cm2,25℃Cellsize:100.3cm2MeasurementinAIST712mV3.837AEff.
FF78.7%Isc21.5%Voc26Time7911131517RelativeOutputTemperature(oC)1.00.530507040608.8%UPCellTemp.HITP/NdiffusionHIT(-0.33%/oC)P/Ndiffusion(-0.45%/oC)NormalizedEfficiency0.80.70.60.91.030406080Temperature(oC)Smallertemperaturecoefficient29(2)多晶硅高效電池◆多晶硅材料制造成本低于單晶硅CZ材料,◆能直接制備出適于規(guī)?;a(chǎn)的大尺寸方型硅錠,240kg,400kg,800kg◆制造過程簡單、省電、節(jié)約硅材料,因此具有更大降低成本的潛力。但是多晶硅材料質(zhì)量比單晶硅差,有許多晶界存在,電池效率比單晶硅低;晶向不一致,表面織構(gòu)化困難。30◆喬治亞(Geogia)工大-采用磷吸雜和雙層減反射膜技術(shù),使電池的效率達(dá)到18.6%;
◆新南威爾士大學(xué)-采用類似PERL電池技術(shù),使電池的效率19.8%◆
Fraunhofer研究所20.3%-世界記錄◆Kysera公司采用了PECVD/SiN+表面織構(gòu)化使1515cm2大面積多晶硅電池效率達(dá)17.7%.31多晶硅高效電池Fraunhofer-=
20.3%32Emitterresistance:90ohm/sqCellthickness:260μmCell
size:15
cm×15.5
cm
Kyocera商業(yè)化大面積多晶硅電池,
=17.7%“d.Blue”cell1.RIEtexturedsurface2.SiNprocess3.Shallowemitter4.Griddesign5.Contactmetallization
關(guān)鍵技術(shù)33(3)向薄片化方向發(fā)展1)硅片減薄硅片是晶硅電池成本構(gòu)成中的主要部分。硅是間接半導(dǎo)體,理論上100m可以吸收大部分太陽光。通過陷光措施,30
m可以吸收幾乎全部太陽光。10年內(nèi)可實(shí)現(xiàn)單晶硅120m,多晶硅150m
。未來可能更簿。
降低硅片厚度是降低成本的重要技術(shù)之一。
34
電池硅片厚度的發(fā)展:70年代-450~500m,80年代-400~450m。
90年代-320~400m。
目前-180m。2010年-150~180m。2020年-80~120m。
35(2)帶硅技術(shù)
直接拉制硅片-免去切片損失(內(nèi)園切割,刀鋒損失300~400m。
線鋸切割,刀縫損失140~160m)。過去幾十年里開發(fā)過多種生長帶硅或片狀硅技術(shù)36
EFG帶硅技術(shù)
采用石墨模具-電池效率13%-15%。該技術(shù)于90年代初實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化生產(chǎn),目前屬于RWE(ASE)公司所有。37EDG帶硅技術(shù)。在表面張力的作用下,插在熔硅中的兩條枝蔓晶的中間長出一層如蹼狀的薄片。切去兩邊的枝晶,用中間的片狀晶制作太陽電池。EDG帶硅是硅帶中質(zhì)量最好的一種,但其生長速度相對較慢。以Evergreen和EBARA為代表。38利用剝離技術(shù)制薄硅片或者薄電池39在襯底上生長帶硅Astropower的多晶帶硅制造技術(shù)。襯底為可以重復(fù)使用的廉價(jià)陶瓷。實(shí)驗(yàn)室太陽電池效率達(dá)到15.6%,該技術(shù)曾經(jīng)實(shí)現(xiàn)了中試生產(chǎn)。40402.5幾種新型晶硅電池1)細(xì)裂片(SLIVER)單晶硅電池
從1~2mm厚的硅片上利用激光等技術(shù)切成~50m×100mm×(1~2)mm細(xì)硅裂片:兩側(cè)邊制作p-n結(jié);電池效率:>19%,組件效率:=13-18%組件反射鏡pn電池41410.1mm2mm100mmIllumination~1,000completedsolarcells,Cuts4242PressureSchematicoffabricationofsphericalSiCrucibleMoltenSiSphericalSi滴漏法制造硅球2)球型硅太陽電池反射鏡和n-電極硅球電池
n層P型絕緣層p電極1mm反射鏡和n-電極這種電池是在鋁箔上形成連續(xù)排列的硅球所組成的,硅球的平均直徑為1.2mm,每個小球均有p-n結(jié),小球在鋁箔上形成并聯(lián)結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)室效率達(dá)到10%。43典型的商業(yè)化晶硅太陽電池結(jié)構(gòu)示意圖(4)常規(guī)商業(yè)化晶硅太陽電池技術(shù)
◆減少光學(xué)損失:表面織構(gòu)化,減反射涂層
細(xì)刪線,。。
◆減少電學(xué)損失:最佳擴(kuò)散,鈍化,SE,最佳接觸,
,
。。。444444◆工業(yè)化單晶硅電池效率路線圖與關(guān)鍵技術(shù)4545晶硅電池組件成本下降路線圖與關(guān)鍵技術(shù)(組件效率從14.5%開始)464、晶硅電池的發(fā)展趨勢(1)晶硅電池的技術(shù)優(yōu)勢◆硅是地球上豐度第二大元素(25.8%);資源豐富(以石英砂形式存在);◆環(huán)境友好;◆電池效率高,性能穩(wěn)定;◆技術(shù)基礎(chǔ)雄厚(光伏硅材料和硅器件技術(shù)基礎(chǔ),半導(dǎo)體硅材料及硅器件的技術(shù)背景,),工藝相對成熟。
47
◆電池效率隨結(jié)晶完美程度的降低而降低;◆材料缺陷所帶來的效率損失要通過復(fù)雜工藝彌補(bǔ)。2002-2009世界太陽電池產(chǎn)量的增加情況2009年為估計(jì)值(2)晶硅
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