合金靶材行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢

合金靶材行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢平面顯示行業(yè)概述自20世紀20年代CRT技術(shù)作為第一代顯示技術(shù)商業(yè)化應(yīng)用后，平面顯示技術(shù)經(jīng)歷了多輪迭代，形成了目前常見的LCD和OLED技術(shù)。LCD技術(shù)與OLED技術(shù)的主要區(qū)別在于發(fā)光原理不同，LCD是一種依賴于背光的顯示技術(shù)，LED模組作為背光源產(chǎn)生光，再通過液晶面板上信號與電壓的改變來控制液晶分子的轉(zhuǎn)動方向，從而控制每個像素點偏振光射出與否并實現(xiàn)顯示；OLED面板則具有自身發(fā)光的特點，通過控制OLED子像素的亮度即可發(fā)出不同顏色的光，無需單獨外加背光源。目前，LCD顯示屏占據(jù)著消費電子、工業(yè)、汽車等絕大部分應(yīng)用市場，而OLED顯示屏作為第三代顯示技術(shù)，具有輕薄、無污點、可視角范圍廣、柔性強等優(yōu)勢，在未來全面屏、柔性顯示等趨勢下具有廣泛的應(yīng)用。（一）平面顯示行業(yè)發(fā)展歷程由于平面顯示技術(shù)、全球經(jīng)濟形勢、電子產(chǎn)品市場多方面因素變化的影響，全球平面顯示產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)了多次國際性產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移。顯示技術(shù)從歐美向日本轉(zhuǎn)移，并在日本實現(xiàn)了大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化，1995年左右日本占有全球顯示面板超過90%的市場份額。平面顯示產(chǎn)業(yè)從日本向韓國、中國臺灣轉(zhuǎn)移。韓國、中國臺灣的面板產(chǎn)業(yè)均在政府的大力支持下得到了快速成長。第二次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移后，全球平面顯示行業(yè)形成了日、韓、中國臺灣三分天下的局面。中國加入世貿(mào)組織后，全球顯示產(chǎn)業(yè)開始從日、韓和中國臺灣等地逐漸向中國大陸轉(zhuǎn)移，并呈現(xiàn)加速態(tài)勢。受益于我國政府十二五、十三五國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃的政策支持，我國平面顯示產(chǎn)業(yè)在此期間得到了飛速發(fā)展，中國大陸地區(qū)產(chǎn)能于2019年登頂全球首位。經(jīng)過以上國際產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移后，目前全球平面顯示產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)基地主要集中在日、韓、中國臺灣和中國大陸。其中，日、韓和中國臺灣的平面顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展比較成熟，形成了以夏普、LG、三星、群創(chuàng)、友達為代表的多家知名企業(yè)。中國大陸近十年來快速追趕，逐漸成為全球平面顯示產(chǎn)業(yè)布局的中心，京東方、華星光電、惠科集團等國內(nèi)頭部企業(yè)已在全球競爭中擁有相當?shù)氖袌鲇绊懥?。伴隨國內(nèi)企業(yè)在全球市場逐步掌握話語權(quán)，其對平面顯示產(chǎn)業(yè)鏈上游供應(yīng)鏈的穩(wěn)定性需求相應(yīng)提升，尤其近年來國際貿(mào)易環(huán)境發(fā)生變化的背景下，平面顯示產(chǎn)業(yè)對關(guān)鍵原材料自主可控的國產(chǎn)化需求日益迫切。（二）平面顯示行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢顯示面板是手機、電視、平板電腦、筆記本電腦、安防監(jiān)控設(shè)備、車載顯示屏等設(shè)備必不可少的組成部件，是平面顯示行業(yè)的主要構(gòu)成。隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展與市場需求的持續(xù)增加，全球平面顯示市場呈現(xiàn)出了良好的發(fā)展態(tài)勢，帶動了平面顯示行業(yè)的持續(xù)發(fā)展。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，全球顯示面板出貨面積從2012年的1．4億平方米增長至2019年的2．3億平方米，年均復(fù)合增長率達到7．7%。未來，全球顯示面板市場將由高速發(fā)展狀態(tài)逐步向穩(wěn)健增長狀態(tài)轉(zhuǎn)變，至2024年出貨面積達到2．7億平方米，年均復(fù)合增長率為3．3%。1、LCD顯示面板市場的現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢TFT-LCD顯示面板依靠其具有的工作電壓低、功耗小、分辨率高、抗干擾性好、應(yīng)用范圍廣等一系列優(yōu)點，占據(jù)了全球顯示面板的主要市場份額，廣泛應(yīng)于筆記本電腦、桌面顯示器、電視、通信設(shè)備等大屏幕顯示領(lǐng)域，持續(xù)推動LCD顯示面板市場的增長。全球市場方面，2019年全球LCD顯示面板產(chǎn)量為2．2億平方米，較2018年增長4．8%。根據(jù)Frost&Sullivan預(yù)測，至2024年全球產(chǎn)量預(yù)計將穩(wěn)步上升至2．5億平方米，自2020年的年均復(fù)合增長率為1．9%。國內(nèi)市場方面，受國際產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移帶動，2012年-2019年我國已逐步成為全球LCD顯示面板的主要生產(chǎn)基地。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，我國LCD面板產(chǎn)量自2012年的1，110萬平方米增長至2019年的8，350萬平方米，占全球市場產(chǎn)量的比重由8．1%增加至37．2%，年均復(fù)合增長率達到33．4%。未來，我國LCD面板生產(chǎn)能力還將穩(wěn)步提升，預(yù)計至2024年在全球市場的產(chǎn)量占比將達到44．2%。因此，LCD顯示面板產(chǎn)量規(guī)模有望在未來幾年繼續(xù)保持增長趨勢，從而為整體平面顯示行業(yè)的持續(xù)增長打下基礎(chǔ)。2、OLED顯示面板市場的現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢隨著顯示技術(shù)的發(fā)展與用戶需求的提升，OLED顯示技術(shù)在可穿戴設(shè)備、曲面屏手機、VR設(shè)備等新興電子消費品的商業(yè)化程度不斷提高，為平面顯示行業(yè)注入了新的發(fā)展動力。全球市場方面，根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，全球OLED顯示面板產(chǎn)量從2012年的140．0萬平方米快速增長至2019年的850．0萬平方米，年均復(fù)合增長率達到29．4%。未來新興電子設(shè)備的商業(yè)化發(fā)展將持續(xù)驅(qū)動OLED顯示技術(shù)的滲透，預(yù)計全球OLED顯示面板產(chǎn)量將從2020年的1，070．0萬平方米增長至2024年的2，190．0萬平方米，年均復(fù)合增長率為19．6%。國內(nèi)市場方面，我國在OLED領(lǐng)域的起步較晚，受制于行業(yè)較高的技術(shù)壁壘，早期在OLED領(lǐng)域的發(fā)展較為緩慢。然而，近年來，隨著我國在顯示與集成電路領(lǐng)域的投入不斷加大，我國OLED產(chǎn)能已呈現(xiàn)出快速增長的態(tài)勢。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，2019年我國OLED面板產(chǎn)量為81．0萬平方米，占全球產(chǎn)量的9．5%，預(yù)計至2024年，產(chǎn)量將增加至520．0萬平方米，占全球市場的比重將上升至23．7%，年均復(fù)合增長率達到45．0%。濺射靶材行業(yè)的技術(shù)水平和發(fā)展趨勢（一）濺射靶材行業(yè)的技術(shù)水平濺射靶材是各類薄膜材料的關(guān)鍵材料，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，種類繁多，其純度、密度、品質(zhì)等對最終的電子器件的質(zhì)量和性能起著至關(guān)重要的作用。目前高端濺射靶材產(chǎn)品純度一般在99．99%-99．9999%（即4N-6N），其質(zhì)量對膜層性能有很大的影響，同時會影響到鍍膜的生產(chǎn)效率和成本。濺射靶材的研發(fā)涉及到電性、磁性、熱性、反射率及顏色外觀等多個技術(shù)特性。此外，濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)必須針對客戶的各種需求，針對不同靶材應(yīng)用不同的工藝及材質(zhì)，譬如金屬靶材需使用塑性加工、熱處理等技術(shù)；陶瓷靶材需要使用到粉體處理、燒結(jié)等技術(shù)；部分特殊合金由于成份均勻性的要求更須使用到復(fù)合粉體制備技術(shù)，其目的即在控制材料微結(jié)構(gòu)，譬如晶粒尺寸、密度、結(jié)構(gòu)的控制等，以達到客戶的產(chǎn)品要求。（二）濺射靶材行業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢濺射靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。濺射靶材行業(yè)的技術(shù)發(fā)展主要取決于先進薄膜材料、先進的薄膜沉積制備技術(shù)和薄膜結(jié)構(gòu)的控制以及對薄膜物理、化學(xué)行為相關(guān)的表面科學(xué)技術(shù)的深入研究。目前，對薄膜材料的制備技術(shù)的研究正向多種類、高性能、新工藝、新裝備等方面發(fā)展；薄膜材料的研究正在向分子層次、原子層次、納米尺度、介觀結(jié)構(gòu)等方向深入；對濺射靶材的研究朝著多元化、高純度、大型化、高濺射速率、高利用率等方向進行。濺射靶材行業(yè)概述濺射工藝是物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，而濺射靶材正是該工藝的關(guān)鍵原材料。以晶圓制造為例，需要反復(fù)重復(fù)薄膜沉積工藝，用于導(dǎo)電層、阻擋層、接觸層、介電層等的制備，薄膜沉積工藝通常分為物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)，其中PVD常用來生長鋁、銅、鈦、鉭等金屬薄膜，CVD常用來制備氧化硅等絕緣薄膜。除鎢接觸層和銅互連層外的絕大多數(shù)金屬薄膜都是用PVD技術(shù)生成，而濺射則是目前最主流的PVD技術(shù)。濺射是利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能得離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。類似地，除晶圓制造外，顯示面板、薄膜太陽能電池等的制造過程中也都會用到濺射工藝以制備薄膜材料。高性能靶材主要指應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、太陽能電池等領(lǐng)域的金屬純度為99．95%以上的濺射靶材。靶材制備位于產(chǎn)業(yè)鏈的中游，從產(chǎn)業(yè)鏈來看，靶材上游原材料材質(zhì)主要包括純金屬、合金以及陶瓷化合物三類。下游應(yīng)用市場則較為廣泛，但整體來看主要集中在平板顯示、信息存儲、太陽能電池、半導(dǎo)體四個領(lǐng)域。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中國濺射靶材上游為各種原材料，包括金屬、合金、陶瓷化合物；中游主要為靶材制造、濺射鍍膜；下游廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、平面顯示、信息存儲、太陽能電池、智能玻璃等。中國濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等，合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。下游集成電路企業(yè)包括中芯國際、長電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等，太陽能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。記錄媒體靶材應(yīng)用場景數(shù)據(jù)存儲可分為光存儲、磁存儲與半導(dǎo)體存儲，近年來半導(dǎo)體存儲發(fā)展迅速。從數(shù)據(jù)存儲量來看，目前磁記錄仍然占據(jù)主導(dǎo)記錄。按記錄媒體的機械形狀和驅(qū)動方式的不同，磁記錄可分為磁鼓、磁帶（錄音機、錄像機、數(shù)據(jù)記錄）、磁盤（硬盤、軟盤）、磁卡等，其中，高密度硬盤領(lǐng)域的磁性薄膜幾乎都是以濺射法制作的，這些磁記錄薄膜材料有很高的記錄密度。因此也要求濺射靶材具有高純度、低氣體含量、細晶微結(jié)構(gòu)、均勻的金相、高磁穿透和使用率、優(yōu)異的電性與機械特性等特點。磁記錄靶材常用材料為鈷（3N）/鎳/鐵合金/鉻/碲、硒（4N）/稀土-遷移金屬（3N）等，主要包括鉻靶、鎳靶、鈷靶。濺射靶材行業(yè)競爭格局及市場化程度（一）濺射靶材行業(yè)競爭格局及市場化程度全球范圍內(nèi)，高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布，金字塔尖高純金屬供給及高性能濺射靶材制造環(huán)節(jié)產(chǎn)業(yè)集中度高、技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少，以霍尼韋爾（美國）、JX金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，并在掌握先進技術(shù)以后實施壟斷和封鎖，主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展。2017年，JX金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，合計壟斷了全球約80%的市場份額。另外，三井礦業(yè)、住友化學(xué)、愛發(fā)科、世泰科、攀時等資金實力雄厚、技術(shù)水平領(lǐng)先、產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗豐富的企業(yè)在各自的優(yōu)勢靶材領(lǐng)域占據(jù)了較強勢的市場地位。從國內(nèi)市場來看，我國雖有豐富的上游原材料，但高性能濺射靶材行業(yè)起步較晚。受到技術(shù)、資金和人才的限制，國內(nèi)高性能濺射靶材市場尚處于發(fā)展初期，具有規(guī)?；a(chǎn)能力和較強研發(fā)能力的廠商數(shù)量仍然偏少，多數(shù)國內(nèi)廠商還處于企業(yè)規(guī)模較小、技術(shù)水平偏低的狀態(tài)，國際廠商仍在國內(nèi)濺射靶材市場占有較高份額。但伴隨全球分工及產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，國內(nèi)廠商正處于對國際廠商的加速替代過程中，已有如江豐電子、阿石創(chuàng)、有研新材、隆華科技、先導(dǎo)薄膜、歐萊新材以及映日科技等企業(yè)掌握了高性能濺射靶材研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)節(jié)的相關(guān)技術(shù)并可以進行批量生產(chǎn)，成功進入國內(nèi)外知名平面顯示、半導(dǎo)體等下游制造企業(yè)的供應(yīng)鏈環(huán)節(jié)，以上廠商上升勢頭較快，對國際廠商在國內(nèi)的市場份額形成了一定的進口替代，保障了國內(nèi)重點行業(yè)上游關(guān)鍵原材料的自主可控及供應(yīng)安全。（二）平面顯示行業(yè)用濺射靶材的市場競爭格局平面顯示行業(yè)用濺射靶材主要有ITO靶材、鉬靶材、鋁靶材、銅靶材等。其中ITO靶材為平面顯示用靶材中價值最高的。從國內(nèi)行業(yè)競爭情況看，我國目前仍對進口的依賴程度較高，日韓企業(yè)占據(jù)了國內(nèi)市場的主導(dǎo)地位。其中，在ITO靶材方面，前期三井礦業(yè)、JX金屬、三星康寧等占據(jù)了較大的國內(nèi)市場份額。目前，國內(nèi)企業(yè)隆華科技、先導(dǎo)薄膜以及映日科技等技術(shù)優(yōu)勢企業(yè)正逐步占據(jù)了部分國內(nèi)的市場份額，形成了進口替代。2020年上半年由于新冠肺炎在全球范圍內(nèi)蔓延，疊加全球貿(mào)易摩擦持續(xù)發(fā)生，促使國內(nèi)平面顯示行業(yè)開始從戰(zhàn)略上重新考量采購和供應(yīng)渠道。根據(jù)預(yù)測，2020年，中電熊貓與天馬微電子國產(chǎn)化率均有望從30%左右提升至50%，京東方有望從25%提升至30%，TCL華星光電有望從35%提升至45%。在此背景下，我國主要靶材供應(yīng)商江豐電子、阿石創(chuàng)、隆華科技、先導(dǎo)薄膜、歐萊新材以及映日科技等均已成為京東方、華星光電等主要本土面板制造商的供應(yīng)商。隨著我國靶材生產(chǎn)廠商技術(shù)的不斷革新與進步以及國家對于面板制造商靶材國產(chǎn)化率不斷提出新要求，我國平面顯示用高性能濺射靶材的進口依賴會逐步降低。ITO靶材整體市場情況分析（一）ITO靶材市場概況ITO靶材有中低端和高端之分：中低端ITO靶材有建筑玻璃鍍膜靶材、發(fā)熱膜和熱反射膜靶材，應(yīng)用包括部分傳統(tǒng)的汽車顯示屏、部分儀器儀表的顯示；高端ITO靶材主要用于平面顯示、集成電路半導(dǎo)體、太陽能光伏以及磁記錄和光記錄等領(lǐng)域，尤其用于大面積、大規(guī)格的TFT-LCD、OLED等領(lǐng)域，具備高密度、高純度、高均勻性等特點。平面顯示面板生產(chǎn)是ITO靶材當前的主要需求領(lǐng)域。在平面顯示面板的生產(chǎn)工藝中，玻璃基板要經(jīng)過多次濺射鍍膜形成ITO玻璃，加工組裝用于生產(chǎn)LCD面板、OLED面板等。觸控屏（TP）的生產(chǎn)，則還需將ITO玻璃進行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極，再與防護屏等部件組裝加工而成。一般而言，ITO靶材在顯示面板全部靶材成本中的占比接近50%。太陽能光伏電池是ITO靶材未來需求的增長點。目前市場主要需求在異質(zhì)結(jié)電池。異質(zhì)結(jié)電池（HIT）在制備透明導(dǎo)電膜階段需要應(yīng)用ITO靶材，其生產(chǎn)成本低、轉(zhuǎn)化效率高，有助于進一步提升對ITO的市場需求。與濺射靶材整體的情況類似，前期ITO靶材制備幾乎由日、韓壟斷，代表企業(yè)有JX金屬、三井礦業(yè)、東曹、韓國三星等，其中日礦和三井兩家?guī)缀跽紦?jù)了高端TFT-LCD市場用ITO靶材的絕大部分份額和大部分的觸控屏面板份額，中國ITO靶材供應(yīng)超一半左右依賴進口。本土廠商生產(chǎn)的ITO靶材主要供應(yīng)中低端市場，約占國內(nèi)30%的市場份額；而高端TFT-LCD、觸控屏用ITO靶材主要依賴日、韓進口，進口比例約占國內(nèi)70%的市場份額。與此同時，國內(nèi)ITO濺射靶材領(lǐng)域內(nèi)部分優(yōu)勢企業(yè)正逐漸突破ITO濺射靶材的關(guān)鍵技術(shù)，已進入到國內(nèi)下游知名企業(yè)的供應(yīng)鏈體系，從試樣、小批量生產(chǎn)到批量生產(chǎn)供應(yīng)，在ITO靶材的關(guān)鍵技術(shù)上已逐步接近或達到國外廠商的技術(shù)水平，正逐漸改變國內(nèi)高端平面顯示用ITO靶材產(chǎn)品長期依賴進口的局面。（二）ITO靶材市場容量分析根據(jù)全球知名企業(yè)美銦企業(yè)專家會議演講中認為，2017-2019年全球銦靶材需求量年均復(fù)合增長率會保持在5．5%，從1，356噸增長到1，680噸。中國已成為世界上最大的銦靶材需求國。根據(jù)中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會出具的情況說明，2019年至2021年國內(nèi)ITO靶材市場容量從639噸增長到1，002噸，年復(fù)合增長率為25．22%。根據(jù)其預(yù)測，未來2-3年內(nèi)，雖然國內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽能光伏電池的增量需求，國內(nèi)ITO靶材市場容量仍將保持一定幅度的增長。（三）ITO靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢1、ITO靶材尺寸大型化隨著電視、PC等面板面積加速向大尺寸化邁進，相應(yīng)的ITO玻璃基板也出現(xiàn)了明顯的大型化的趨勢，這使得對ITO靶材尺寸的要求越來越大。為滿足大面積鍍膜工藝要求，往往需使用多片或多節(jié)小尺寸靶材拼焊成大尺寸靶材，但焊縫的存在會導(dǎo)致靶材鍍膜質(zhì)量的下降。因此，研發(fā)大尺寸單片（單節(jié)）靶材，減少焊縫數(shù)量成為ITO靶材技術(shù)發(fā)展趨勢。2、ITO靶材高密度化提高靶材的密度有助于減少毒化現(xiàn)象，并降低電阻率，提高靶材的使用壽命。毒化是指濺射過程中ITO靶材表面出現(xiàn)凸起物的結(jié)瘤現(xiàn)象，毒化會導(dǎo)致靶材濺射速率降低，弧光放電頻率增加，所制備的薄膜電阻增加，透光率降低且均勻性變差，此時必須停止濺射，清理靶材表面或更換靶材。高密度ITO靶材具有較好的熱傳導(dǎo)性和較小的界面電阻，不易在濺射過程中發(fā)生熱量蓄積，可減少毒化概率。因此，高密度化成為ITO靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢。3、ITO靶材提高利用率提高靶材利用率一直是靶材制備行業(yè)研究的熱點和難點。在濺射過程中，ITO平面靶材表面會形成環(huán)形磁場，并在環(huán)形表面進行刻蝕，這使得環(huán)形區(qū)域的中心部分無法被濺射，導(dǎo)致平面靶材的利用率較低，目前ITO平面靶材的靶坯利用率一般不超過40%。ITO旋轉(zhuǎn)靶材相較平面靶材在利用率上有較大提升，旋轉(zhuǎn)靶材圍繞固定的條狀磁鐵組件進行旋轉(zhuǎn)，使得整個靶面都可以被均勻刻蝕，提高了靶材的利用率，目前ITO旋轉(zhuǎn)靶材的靶坯利用率可達70%以上。提高ITO靶材利用率有助于提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本，因此成為ITO靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢。濺射靶材整體行業(yè)概況靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physi