電鍍培訓教材及操作手冊

1of35塑膠及鋅、銅合金電鍍培訓教材及操作手冊POPandMetalPlatingTrainingCourseandProcessOperatingManualPresentedMacDermidGreaterChina臺灣麥特化學工業(yè)(股)公司麥德美(番禺)精細化工電鍍技術培訓及標準操作手冊目 錄前處理、素材、塑膠與應力電鍍的目的與原理腐蝕機構及防蝕掛具搬運與儲存通風與排氣攪拌水洗，水質，純水過濾大宗物料藥液補充，自動加藥機提純，弱電解，移槽，活性碳處理加熱，冷卻，溫控哈氏槽(HullCell)試驗前處理槽液日常維護治理及添加劑補充各電鍍槽液日常維護治理及添加劑補充各種金屬陽極陽極袋，濾袋，濾心，過濾材的漂洗與使用匯流排及導電不良品的判定與排解故障排解的原則

Pretreatment,substratesandstressofplasticsPlatingtheoryandpurposeCorrosionmechanismandpreventionRackTransportandstorageVentilationandexhaustAgitationRinse,DIwaterandwaterqualityFiltrationBulkreplenishingandA/HdosingPurification,dummyandcarbontreatmentHeating,coolingandtemp,controlHullcelltestDailymaintenanceofpretreatmentDailymaintenanceofplatingbathAnodesAnodebag,filtercartridgeBusbarandConductivityIdentifyandjudgementofrejectpartsTroubleshooting(三(三)油污及素材的檢測(Soilandsubstrateaudit)1. 首先需完全了解工件上之油污有哪些,一般大多為:車間油污,垢,油漬,金屬屑,抽伸油,沖壓和研磨油2.3.一但分析工件油污後,即選擇一適當脫脂劑,確定適用後,任何其他油污即要避開在工件上出現(xiàn).油污可分為有機與無機類:˙有機類:油,臘,銹抑制劑,milloil,潤滑劑,延長化合物屬之,此時需用鹼性脫脂劑.˙無機類:銹,黑垢,熱處理殘渣,車間塵埃,這些皆可以酸脫脂劑去除.(一)脫脂劑的作用.濕潤(Wetting):所含之外表活性劑能將油污與工件之鍵結(soil-surfacebond), 濕潤(wet-out)及.1鬆弛(loosens).乳化(Emulsification):將不相溶之油水乳化,影響乳化效果因素有(一)油污的種類及所含外表活性劑的種類(二)pH,溫度,濃度.皂化(Saponification):將脂肪酸油污於酸中,中和變成水溶性的皂,此油污有植物油,動物油及礦物油.溶解(Solubilization):相像者互溶(Likedissolveslike),由於外表活性劑之存在使得油污得以被乳化,溶解.置換(Displacement):油污經(jīng)鬆弛後被選擇性外表活性劑取代,油污則可經(jīng)由油污分離器去除.機械作用(Mechanicalaction):如空氣,超音波,電解,槽液脈動,工作件攪動….等可以促進脫脂效果.隔離(Sequestration):為達到有效的脫脂及水洗效果,水質必需經(jīng)軟化處理,硬水中含有二價的(二)如何決定工件外表清潔度(Determiningcleansurface)1.2.3.4.破水試驗(Water(二)如何決定工件外表清潔度(Determiningcleansurface)1.2.3.4.破水試驗(Waterbreak-freesurface)白毛巾試驗(Whitetoweltest)膠帶試驗(Tapepulltest):Scotch膠帶在工件上膠合後撕起再黏在乾淨的面紙上.紫外線偵測(UVdetection):於紫外線光下進行,清潔度是經(jīng)由光電折射(photoelectronemission)原理偵測,越高的折射度即越清潔.(四)素材(ABS)應力(Stress)工件肉身厚者，易致産生非均質化之冷卻應力，縮收變異，變形。工件肉身厚者，易致産生非均質化之冷卻應力，縮收變異，變形。應力皆來自於射出時冷卻速度太快所致。3．分子排列(Orientation)會降低耐剝離性(Peeling)。15-30%應力。6-7個指數(shù)，40℃時，鍍層會致龜裂，起泡，剝離之危險。塑膠與射出鍍之品質。射出模必須打光至鏡面，無針孔。2065%RH0.2%70-802小時用必Silicones。應力測試11．冰醋酸浸泡(ASTM-D1039-62T)30秒，水洗，乾燥然後檢查如有白色者即有應力，冰醋酸中不行含有水份。3分然後水洗，吹乾，如有應力即變成白色。3．Methanol甲醇)Methanol35℃/35分然後取出吹乾，變白色區(qū)即爲應力區(qū)。二、電鍍的目的與原理(一)電鍍的目的1.賦予美觀鍍金、K金、銀、Rh、Cr、黃銅、塑膠電鍍……2.防銹Zn,Cd,Zn/Ni,Zn/Fe合金,Ni,Cr……3.耐磨耗Cr,ENi,氮化鈦真空鍍……4.提高製品導電度,Pd/Ni…….5.提高製品潤滑性銀、錫、鉛6.提高製品強度塑膠製品7.提高製品耐熱,耐候性鋁上鍍金8.浸炭防止,氮化防止鍍銅9.防電磁波干擾NB,手機、數(shù)位相機……10.供給線路及導電TAB,PCB,LeadFrame……(二)電鍍皮膜的必要條件1.密著性鍍層間,塑膠金屬化,鋁材與鍍層間,鋅合金……2.切一電著性厚度分佈性,均勻性應力厚度延展性連續(xù)性耐蝕性平坦性光澤,無針孔密緻,美觀

內應力大時,鍍層會龜裂,剝離,變形等…,主要為電析結H2或雜質的共析、吸著、吸藏等所引起.足夠厚度以達電鍍目的無龜裂,無針孔使鍍層平坦、光滑提高耐蝕及外觀優(yōu)美化及價值提升(三)影響電鍍品質的諸條件電流密度液溫攪拌整流器、電流波形陽極pH槽液濃度過濾?Θ面積比?Θ極間距離添加劑外表張力不純物

過大致燒焦,過小電鍍速度慢,不均一増大電鍍速度,鍍層特性最優(yōu)化提高均一電著性,減低應力三相全波較為適用減少污染,增進厚度分布性,鍍層特性確保,,故浴中緩衝要足.影響浴導電鍍,厚度分佈H2發(fā)生量關係浴潔淨度,粗糙維持浴中金屬濃度平衡,使鍍件品質最優(yōu)化.厚度分佈均一,使鍍件品質最優(yōu)化.附著於陰極,使金屬吸出的極化增大,使其結晶極細化,平滑化,光澤,均一電著性良好,故應維持於標準值內.根本上越小越好40dyne/cm,可在陰極外表濕潤性良,H2附著而產(chǎn)生針孔.致密著不良,粗操,共析產(chǎn)生條痕和脆化.(四)電鍍的原理將金屬鍍在工件上透過不同槽液,經(jīng)整流器,協(xié)作掛具,過濾,?Θ屬氧化成金屬離子溶於槽液中再經(jīng)陰極之還原該金屬離子於工件外表上而達到電鍍目的.M→M+n +ne- ─陽極M+n ne-M ─陰極10of35四、掛具與工件導電之接點可用鈦，但不建議使用因導電性太差，於高電流操作時恐會過熱。與工件導電之接點必需是圓柱狀之邊角或似針狀之接點才能滿足導性良好要求。5-10Solvent即被氧化。不得使用強酸剝離掛具，因會破損及減短掛具壽命。掛具如有破損，開花，因會吸附藥液而污染其他槽故需制止使用。與工件接點必須於中高電流處，每距離20公分需有一接點。,155A/cm2。五、搬運與儲存很難去除造成粗糙，鍍品不良。適當包裝並遠離陽光。遠離化學藥品或化學氣體。(Plasticisers)migrateABS塑件中。避開碰撞、刮傷、重壓、重疊。電鍍前必須品檢剔除。六、通風與排氣排放標準槽槽液物質粗化CrO3H2SO4最大可容許值0.1mg/m31.0mg/m3中和HCl7mg/m3酸銅鍍鎳鍍鉻NiMistNiAerosolH2SO4MistNiMistNiAerosolCrO3HCNMist0.5mg/m31.0mg/m30.5mg/m30.1mg/m30.1mg/m3HydrogenCyanidegas。毛狀汙質且很難排解。槽液霧氣(Mists)和氣體(Gases)爲同時含有水氣及槽液成分之0.5~50μm水滴。水蒸汽則只含有水份子<0.01μm水滴。每週一次排放風管排放口之水氣，以避開回流至處理槽或污染。七、藥液攪拌1.1.2.3.4.5.6.7.必需確保攪拌空氣的品質，不得有油汙，塵埃，或其他任何藥液氣體。每週清潔2次機房及鼓風機，每2天更換濾心、濾布。每週2次檢測出風口之空氣品質，以1μm棉質濾材置於出風口三通處，將濾布封住風口5分鍾後檢查白色濾布有無油汙、塵埃、黑灰雜質等。如不潔必需即刻停頓使用直至確保乾淨空氣方可使用。3/32~1/8in，孔徑太小易被堵塞，太大致空氣攪拌不均勻。1-2(fm)45°角錯開向下鑽孔。於槽液之上約1英吋處鑽一小孔，以防虹吸(Siphon)。八、水洗水質、純水(一)水質1.1.2.3.4.Ca，Mg，此爲硬水，除去此即爲軟水。Silica(SiO2)，因加熱後會形成與Ca，Mg一樣之水垢且很難去除。電鍍液需嚴防有機物污染及菌類於儲槽中生長。300cc300cc及原水HullCell試驗如兩試片皆一樣則無品質問題，此水即合格。工序項目水洗水純水(工序項目水洗水純水1PH6.5-8.06.5-8.02TDS總固形物<20ppm<3ppm3有機物〔依氧之消耗量〕2ppm0.5ppm4Cl-氯離子<5ppm<1ppm5導電度<30μs/cm<5μs/cm6比電阻〔SpecificResistance〕0.12-0.03MΩ2MΩ7硬度〔asCaCO3〕<30ppm<5ppm8鐵<0.3ppm<0.1ppm(三)因水質汙染而致之電鍍不良槽液槽液粗糙針孔黴霧脆性大澤陽極極化燒焦灰暗darkness拋覆力差酸銅懸浮物有機物Cl-O、Fe有機物Cl-有機物O、FeOO鎳槽Ca、Mg Si、Mg、Zn、O、Zn、Cu、Na有機物有機物、Si O、Ca Fe Al鉻槽FeCl-Na九、過濾(一)操作與治理1.1.2.3.4.5.6.7.8.※9.過濾機入口宜避開吸入空氣攪拌氣體否則會産生格外微細氣泡，除不易消泡外尚造成針孔麻點。CelluloseSilica類者可以使用，但需事先做過測試方可用。8oz活性碳顆粒/10in16oz/20in長者400L2支活性碳濾心連續(xù)循環(huán)過濾。(見下表)2.5×10in濾心外層披覆(Precoat)過濾0.5-0.67ft2過濾助劑之使用必須先確定過濾機不會將助劑滲入至鍍槽。循環(huán)過濾狀態(tài)，直至鍍液清亮(Lab用過濾試紙測試)無助劑滲入方可開始鍍槽過濾。層，15-30μm6-8oz雜質，10μm3oz。越小μm濾心越能過濾細小雜質，但壓力上昇很快是故流量降低(ReduceFlow)，故當壓力時過濾機壓力已上昇至界限尚未更換時，此時之流量(FlowRate)下降，Turnover不夠，且雜質是跟隨工件進入鍍槽，因此經(jīng)常會遇到時有時無之粗糙麻點不良。(二)過濾規(guī)格槽液過濾機材質濾心材質循環(huán)量/hr活性碳濾心過濾助劑濾心μm更脫脂PVC、PP、PEPP，PE3To無需無需20μm每月粗化PVDFPVDF玻纖2To無需無需20μm每月中和PP，PEPP3To無需無需1μm每月活化鈀PP，PEPP2To無需無需1μm每月水洗PP，PEPP3To無需無需1μm每月加速PP，PEPP2To無需無需1μm每月水洗PP，PEPP3To無需無需1μm每月化學鎳PP，PEPP3To無需無需1μm每月水洗PP，PEPP3To無需無需1μm每月酸活化PP，PEPP3To無需無需1μm每月預浸銅PP，PEPP3To無需無需5μm每月打底銅PP，PEPP4To時無需5μm每月硫酸銅PP，PEPP4To時無需5μm每月酸浸PP，PEPP3To無需無需5μm每月半光PP，PEPP4To6支/週可用，視需要5μm每月全光PP，PEPP4To6支/週要5μm每月高硫PP，PEPP4To6支/週要5μm每月鍍鉻1-2To掛具剝離PP，PEPP2To無需無需20μm壓力大於時氰化銅PP，PEPP3To時不需5μm每月焦磷酸銅PP，PEPP2To時可用，視需要5μm每月十、大宗物料補充，自動加藥機((一)大宗物料補充留意事項1234必需於工作終了時〔未電鍍〕補充。補充時需二人一組相互支援以策安全。補充時需做好全套防護措施，如手套，防護眼鏡，防護衣，口罩等。(二)各槽補充槽別脫脂

補充方法於線外攪拌槽〔桶〕溶解後補充之。1．於線外攪拌槽〔桶〕溶解後補充之。超音波脫脂1．於線外攪拌槽〔桶〕溶解後補充之。粗化中和加速化學鎳打底銅半光全光高硫微孔鎳鍍鉻

〔桶〕CrO3溶解後補充之。H2SO4，補充時需開啓排氣於液攪拌下緩緩參加。於槽液攪動下緩緩參加9339。HCl。1D-34,HCl時需開啟排氣。1．於線外攪拌槽〔桶〕9369。J-61，J-64缺乏量。Activity>90%以上。10%以內逐次添加。補充時需打開過濾機以均勻循環(huán)藥液。補充時需打開排氣。補充氨水時需戴口罩，呼吸道需至少遠離氨水50公分遠。1．於線外攪拌槽〔桶〕M-689後經(jīng)過濾補充至鍍槽於線外攪拌槽〔桶〕CuSO4後經(jīng)過濾補充至鍍槽H2SO4，打開過濾機。於線外攪拌槽〔桶〕CuSO4後經(jīng)過濾補充至鍍槽H2SO4，打開過濾機。H2SO420公分。同上1．於線外攪拌槽〔桶〕M-3107後經(jīng)過濾補充至鍍槽〔桶〕NiSO4，NiCl2，H3BO3後經(jīng)過濾機補充至鍍槽。6只活性碳濾芯。補充完後隨即作弱電解過夜。20%H2SO4調整PH20公分?！餐啊矯rO3後參加。補充後需以空氣攪拌攪動槽液使之均勻或打開過濾機循環(huán)。槽別氰化銅

補充方法於線外攪拌槽〔桶〕溶解CN，CuCN後經(jīng)過濾補充至鍍槽於槽液攪動下補充稀釋後之添加劑，打開過濾機。於線外攪拌槽〔桶〕溶解焦鉀，焦銅後經(jīng)過濾補充至鍍槽於槽液攪動下補充稀釋後之添加劑，打開過濾機補充氨水時需戴口罩，呼吸道需至少遠離氨水50公分遠。(三)自動加藥機NiMacS.FDuct.延展劑(18159)80ml/1000A.HNiMacChallengerplus光澤劑(78180)250ml/1000A.HNiMac#33柔軟劑(18133)80ml/1000A.HNiMacHyporeXLDispersant分散劑(78139)125ml/1000A.HMetexSS-10B(13618)350ml/1000A.HMetexSS-10C(13619)1,500ml/1000A.HMetexS-1半光澤劑(16501)504ml/1000A.HMetexS-3全光澤劑(16561)126ml/1000A.H打底銅CuMac9200PartB酸銅 CuMac打底銅CuMac9200PartB酸銅 CuMac9200A LevelerCuMac9200B 半光鎳NiMacS.FLevellerNiMacS.FMaint.光澤劑補充劑(P2023)(P2023)(P2023)(18144)(18192)200ml/1000A.H80ml/1000A.H80ml/1000A.H150ml/1000A.H170ml/1000A.H全光鎳微孔鎳掛具剝離氰化銅光澤劑焦磷酸銅PyroMacBrightenerAmmonia(IP86695)170-250ml/1000A.H0.06ml/1hr平坦劑 (IP86694)注：用於打底時S-3通常不加，只加S-1即可。1.1.2.3.4.5.每週需校正乙次。校正時以量筒測試準確度，有誤差時調整之並詳實記錄。20公分以上，加藥桶內藥液有無>1/3液位，加藥管內有無空氣或結晶物質堵塞。每日檢測並記錄安培小時計之耗電量與所加之藥液量是否全都或正確。每週至少清潔加藥機系統(tǒng)、管線、桶槽1次。十一、提純，弱電解，移槽，活性碳處理(一)定義提純移槽活性碳處理

無機之處理。有機雜質，此爲最安康、極有效之物理提純，也是日常保養(yǎng)之一。(參下節(jié))。保養(yǎng)各嚴重汙染時之有效處理方法。(二)不純物之種類1.1.2.3.4.5.6.(Insoluble)。溶解性大多爲無機物(通常爲金屬)及有機物，無機雜質多爲Fe,Zn,Cu,Cr,Pb,Al,CaP之鹽類。CaSO4FePH5.0變成Ferric。AlPPH>5時沈澱濾除。Sodiumbisulfite，SodiumthiosulfateH2O2將之還原成較無害之Cr+3，此Cr+3會FePH4，5沈澱濾除之。劑或因整流器不良或溫度過高或電流過大所致添加劑分解。氰化銅浴須定期活性碳處理有機污染.焦銅浴須定期弱電解去除金屬污染.(三)提純方式1.1.2.3.4.簡單過濾(SimpleFiltration)，濾心，濾袋之簡單過濾。循環(huán)過濾。(RaisingPH，OxidationandFiltration)於極弱小電流下以電化學方式將雜質去除。(四)藥液添加1.1.2.在上述任何一種提純後皆需確認光劑、柔軟劑、平坦劑、建浴劑、濕潤劑等之含量並調整之。大宗物料如硫酸銅、硫酸鎳、硼酸，焦銅，焦鉀，硫酸等需於提純之前即添加。(二)提純方法與程式次序 方式 處理時機 方法 適用槽液可與活性碳及助劑並用。於濾心後再參加活性碳使其披連續(xù)循每日，日常保 覆於助劑層之上。環(huán)過濾養(yǎng)維護 3.約0.12g活性碳/L/週過濾量依槽液不同而簡 1.將槽液泵至已清潔之預備槽。單 2.清潔陰、陽極匯流排。過 3.檢查陽極袋，破損者替換之。濾 定期保養(yǎng)，異4.以水管沖洗陽極。

預浸銅半光鎳全光鎳高硫鎳氰化銅酸銅

常較大量顆粒5.不行於槽內沖洗陽極泥。

半光鎳過濾 雜質污染

清洗槽體、管路。

全光鎳2 4再以

高硫鎳5%NaoH活性碳過濾至更乾淨之鍍槽。備槽。參加活性碳2.5-5g/L活性碳並攪拌3hrs。活性碳移槽異常、日常、3.2.5g/L過濾助劑，攪拌之。過濾 定期保養(yǎng) 4.使之沈澱>4hrs。2，3，4，5，6。過濾至已清潔之鍍槽。調整溫度，PH，確認浴組成添加劑量。

氰化銅酸銅焦磷酸銅昇PH至>4.8，溫度60-66℃。 半光鎳需並用分批式處理。 全光鎳氧化處理需用H2O2或KMmO4，它會將Fe自Ferrous氧化 高硫鎳Ferric。 打底鎳 對有機物之破壞力>H2O2但也易破壞其他有效的添 氰化銅加劑，故事先於Lab中行燒杯試驗。 銅60-66℃並泵至清潔預備槽。於攪拌下參加30%H2O23ml/L並攪拌至少溫，氧化過 30分。濾H2O2

季年2.5g/L。度保4.2.5-5g/L1hr.養(yǎng)，5.2.5g/L30分鍾。

半光鎳處理

打底鎳時處理

H2O2。

氰化銅焦磷酸銅泵至已清潔之鍍槽。8.調整組成、PH、添加劑，並以HullCell確認無誤後即可電鍍。次序 方式 處理時機 方法 適用槽液60-66℃並泵至清潔預備槽。KMmO4緩緩參加並，昇溫，氧化過O4處

季年 攪拌30分。g/L並攪拌至少養(yǎng)， 3hr。

半光鎳異常4.異常4.2.5g/L30分鍾。打底鎳時處5.2~4小時。氰化銅理6.泵至已清潔之鍍槽。焦磷酸銅7.調整組成、PHHullCell確認無誤後即可電鍍。Cu,Zn,Pb,Fe,Sn,Al以增大陰極面積此板使用前需脫脂、水洗、酸浸水洗後方可置入鍍槽弱電解 之所需電，並經(jīng)時取出查看，確認有無雜質析出。弱電解時需施以輕微攪拌或開啓循環(huán)泵。

適用於全部金屬鍍槽十二、加熱，冷卻，溫控加熱加熱嚴防局部過熱，空氣攪拌，過濾機槽液脈動必需能攪拌到加熱器定期檢測是否漏電。需協(xié)作良好的攪拌,以確保液溫均勻全都定期檢測冷卻水管有無破損,以免污染鍍液經(jīng)常發(fā)現(xiàn)實際槽溫和溫度表顯示不符致誤導甚至影響電鍍品質每日至少一次溫度校正槽槽鹹脫脂粗化中和活化鈀 加速化學鎳酸銅鍍鎳鉻熱水洗材料加熱冷卻石英不鏽鋼PVDF鉛管鈦管TeflonTeflonTeflon Teflon石英Teflon鈦石英鈦PVDFTeflon鈦 石英 石英鉛槽槽材料氰化銅浴焦磷酸銅浴不鏽鋼石英鈦管十三、哈氏槽(HullCell)試驗(一)制程操作條件及鍍層表觀槽液組成溫度電流(ASD)電壓(V)

厚度分佈性屬性，強韌度鍍層晶格大小(GrainSize)(二)各種試槽之功能112陰極片折彎(BentCathodeCells)哈氏槽(HullCell)3Slot(SlotCell)4哈林槽(Haring-BlumCell)觀察拋覆力和低電流區(qū)電鍍品質電流分佈及鍍層外觀遮擋時之依據(jù)和參攷拋覆率測試(三)哈氏片之清潔整，槽液汙染情形，操作條件之調適等，故試片之前處理極爲重要。1 熱脫脂

3分，60℃，試片攪動S-170280g/L ;ColecKW 80g/L;T-10380g/L2水洗×23電解脫脂EN-175170g/LE-34570g/L60℃,1分4水洗×25活化M-62960g/L，室溫，30秒6水洗×27 電鍍

HullCell槽中。Cell中。調整槽液溫度，PH，攪拌。置入已清潔之陰極試片，確保導電良好。於所需時間，電流下電鍍。如必需要可重複此試驗以調校添加劑或組成。(四)電鍍條件鉻氰化銅焦磷酸銅

22-24℃，空氣攪拌，1A/5分22-24℃，空氣攪拌，2A/10分55℃，2A/10分，空氣攪拌，PH3.6-3.855℃，2A/10分，空氣攪拌，PH4.3-4.555℃，2A/10分，空氣攪拌，PH2.2-3.055℃，2A/10分，空氣攪拌，PH4.0-4.238-40℃，5A/3分，無空氣攪拌60-70oC2A/5分50-60oC，空氣攪拌，2A/5分十四、前處理各槽日常治理和補充112脫脂34去除油汙、塵埃、手指痕、射出之脫膜劑、研磨土.S-1702(10192)60g/L，55-60℃，3-5分EN-1751(10351)60g/L，55-60℃，3-5分3個月/更槽將塑膠外表自疏水性(Hydrophobic)轉換成親水性(Hydrophilic)。産生微小腐蝕孔供給了與金屬層鍵結功能(BondingFunctions)。Cr+310-15g/LABS過度咬蝕。其後水洗必需徹底能自深凹孔處水洗乾淨，否則粗化液溢出即産生跳鍍。Cr+3會因粗化之進行而逐漸昇高，Cr+3太高會減弱粗化力量，故需行電解再生。Stardusting不良。故需安裝過濾機，水洗加裝2道噴水洗。粗化 8 粗化液中之CrO3將Butadiene自ABSMatrix中之雙鍵氧化而腐蝕出此時Nitrile則被水解。9 密著會因粗化咬蝕太強太久而衰減變差。Stress)應力區(qū)則可得較均勻之咬蝕。1μm/年。被洗去之膜會沈積於ABS工件外表而致未咬蝕之亮點，或鍍後粗糙。之鈦材(PdStabilisedTi)。還原粗化後殘留之六價鉻為三價鉻,還原粗化後殘留之六價鉻為三價鉻,以使水洗更完全並避開六價鉻危害後續(xù)流程。19339補充濃度,37%鹽酸補充酸度。Macuplex9339(19339)酸度3%0.3-0.4N38-42℃，0.5-2分當活化槽中二價錫異常降低時可能為六價鉻帶入所致,必須馬上分析中和濃度。連續(xù)操作時槽浴必須每兩週至四週淘汰並重建浴1415粗化1617則會被熱槽壁。的補充。(StrayCurrent)否則會破壞鈍化膜。安裝陽極保護可永久防止此一不良(AnodicProtection)。但應避開破損，否則會稀釋粗化液和鉻酸汙染加熱系統(tǒng)?？諝鈹嚢韫苄栌免仧o縫管，並鑽1-3mm直徑攪拌孔。攪拌要能使槽液於加熱器面足夠流動以確保均溫並防止局部過熱。18ABS試片)外表張力：<40達因/平方公分均勻爲中度空氣攪拌槽溫：68±1℃12中和345112使經(jīng)過粗化的塑膠外表吸附上Pd膠體,以利下一程序之化學沉積。1次,以D34C補充Pd濃度,以L-78補充二價錫濃度,37%鹽酸補充酸度。D34C(19349)L-78(19378)活化 酸度0.4-0.8%3.0-3.5g/L3.0-3.5N22-26℃，2.5-4分34::100ppm,:5ppm,:100ppm:主要來自於不純之鹽酸,會導致解膠,鉻離子:主要來自於中和不完全,會導致漏鍍及二價錫異常消耗5無雜質污染時,不需淘汰,可持續(xù)使用,但有鍍件掉落時,必須馬上撈起或移槽取出112去除塑膠外表吸附上Pd膠體外圍之錫,使Pd金屬直接暴露。19369補充濃度。加速MACUPLEXULTRACEL9369(19369)60-75g/L40-54℃，0.5-5分34:76ppm,70ppm,100ppm,1000ppm(上列雜質會導致漏鍍)連續(xù)操作時槽浴必須每兩週至四週淘汰並重建浴MACUPLEXJ64(19309)(鎳離子)4.1-4.9% 22-28℃，8-9分MACUPLEXJ64(19346)(次磷酸鈉)2.7-3.3%3PH值8.8-9.0沉積速率10-30μinchs/9分鐘阻抗30Ω/2.5公分11利用金屬電位之不同而於化學鎳上置換一均勻的銅層,增力導電性,以利後續(xù)電鍍198%硫酸補充濃度。預浸銅23硫酸硫酸銅1.5-2.5%3-7g/L20-32℃，0.5-1分4 連續(xù)操作時槽浴必須每兩週至四週淘汰並重建浴十五、各電鍍槽日常治理和補充打底銅

沉積銅層,增加工件低電流區(qū)域鍍層厚度及導電性。1次，以硫酸銅、硫酸(98%)及鹽酸(37%,試藥級)補充主鹽濃度。每日打哈氏片2次,以CuMac9200Makeup及CuMac9200B調整鍍層至不燒焦即可硫酸銅 105-120g/L 24-26C, 3-5分鐘硫酸(98%) 105-120g/L氯離子 可上升1ppm氯離子)CuMac9200Makeup(P2023) 2-2.5ml/LCuMac9200B (P2023)0.4-0.6ml/L陰極電流密度 平方公寸)電壓 2-3V電鍍速率 分鐘(1ASD)添加劑消耗量 CuMAC9200B 200ml/1000安培小時CuMac9200Makeup 帶出消耗,視工件之形狀而有所不同補充主鹽須於生產(chǎn)線外以純水溶解,經(jīng)由過濾機泵入鍍槽調整添加劑須在空槽時稀釋5倍均勻參加每三個月更換全陽極濾袋,並檢查是否結晶5μm濾心2天更換鼓風機濾棉(內外層均需更換)12於Pd12於Pd金屬外表沉積一連續(xù)且導電性足夠之鎳層,以利後續(xù)電氣電鍍。1J64J61補充濃度?；?5連續(xù)操作時槽浴必須每週移槽一次,1/51/5槽:Pd5ppm,5ppm,25ppm(上列雜質鉻離子及硝酸根會導致漏鍍Pd金屬會導致崩槽)1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻澤銅

沉積光亮、平坦之金屬銅層,以增加鍍件表層之美觀、與柔軟度。1次，以硫酸銅、硫酸(98%)及鹽酸(37%,試藥級)補充主鹽濃度。upCuMac9200ACuMac9200B調整鍍層至不燒焦、無麻點、無白霧、無顆粒、平坦全光亮即可硫酸銅 200-220g/L 22-26C, 15-30分鐘(視厚度之要求而定)硫酸(98%) 65-75g/L氯離子 0.0026ml/L可上升1ppm氯離子)CuMac9200Makeup(P2023) 4ml/LCuMac9200A (P2023) 4 CuMac9200B (P2023) 陰極電流密度 2-5ASD(平方公寸)電壓 2-3V電鍍速率 分鐘(3ASD)添加劑消耗量 CuMAC9200A 80ml/1000安培小時CuMAC9200B 80ml/1000安培小時CuMac9200Makeup 帶出消耗,視工件之形狀而有所不同補充主鹽須於生產(chǎn)線外以純水溶解,並經(jīng)由過濾機泵入鍍槽調整添加劑須在空槽時稀釋5倍均勻參加每三個月更換全陽極濾袋,並檢查是否結晶5μm濾心2天更換鼓風機濾棉(內外層均需更換)每日補充陽極磷銅球,並留意是否有裸空現(xiàn)象1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣123沉積銅層123沉積銅層,增加工件低電流區(qū)域鍍層厚度及導電性。,2次,MetexS-1調整鍍層光澤度氰化銅4MetexS-1(1651)10ml/LRocheltex(16561)60ml/L陰極電流密度電壓電鍍速率添加劑消耗量2-4ASD(平方公寸)2-6V0.7-1μm/分鐘(1ASD)MetexS-1MetexS-3504ml/1000安培小時126ml/1000安培小時補充主鹽須於生產(chǎn)線外以純水溶解,經(jīng)由過濾機泵入鍍槽調整添加劑須在空槽時稀釋5倍均勻參加游離氰化物7.5-15g/L60-71oC,5-10分鐘銅金屬30-37.5g/L氫氧化納15-34g/L氰化銅氰化銅78910115μm濾心(內外層均需更換)每三日補充陽極,並留意是否有裸空現(xiàn)象每日檢查過濾機壓力是否小於1Kg/c㎡,並每2小時釋放內部殘留空氣每2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻沉積銅層,增加工件低電流區(qū)域鍍層厚度及導電性。每日分析1次，以焦銅,焦鉀補充主鹽濃度。0.06ml/l的氨水。鍍層光澤度和平坦性無水焦磷酸鉀230-270g/L 50-60oC, 依客戶需求三水焦磷酸銅65-75g/L氨水(0.880sp.gr.)3-5ml/lPyroMac建浴劑(IP86694) 2-3ml/LPyroMac光澤劑(IP86695) 0.2-0.4ml/L5 P比 6.4:1-7.5:1陰極電流密度 3-6ASD(平方公寸)電鍍速率 分鐘(1ASD)焦磷 添加劑消耗量 PyroMac光澤劑 170-250ml/1000安培小時酸銅 PyroMac建浴劑提純和帶出消耗,視工件之形狀而不同補充主鹽須於生產(chǎn)線外以純水溶解,經(jīng)由過濾機泵入鍍槽調整添加劑須在空槽時稀釋5倍均勻參加每小時需補充氨水(0.880sp.gr.)0.06ml/l每三個月更換全陽極濾袋5μm濾心(內外層均需更換)每三日補充陽極,並留意是否有裸空現(xiàn)象1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻銅活化銅活化1234去除光澤銅外表之氧化膜,以利其後之半光鎳電鍍。每日分析1次，以3107提升濃度,(工作終了時槽外溶解後再補充)。Metex3107(13007)45-60g/L,20-30C,0.5-1分鐘連續(xù)操作時槽浴必須每兩週至四週淘汰並重建浴沉積半光鎳鍍層,以供給平坦柱狀鍍層,並作為三重鎳製程之第一步驟。,20%PH值。及NiMACS.F.補充劑(Maintenance)調整鍍層中電流區(qū)域以上白朦而細緻,中電流區(qū)域以下半光亮即可硫酸鎳 280~320g/L 55-60C, 15-20分鐘(視總鎳厚度之要求而定)氯化鎳35~40g/L5:3硼酸45~50g/LNiMacS.F.平坦劑〔18144〕1.25-2ml/LNiMacS.F.延展劑〔18159〕8-12ml/LNiMacS.F.安定劑〔18192〕0.25-0.5ml/LNiMac32-C濕潤劑〔18143〕1-3ml/L4PH值3.6-3.8半光鎳

外表張力<40達因/平方公分陰極電流密度3-8ASD(平方公寸)電壓 6-8V電鍍速率0.5-0.6μm/分鐘(3ASD)添加劑消耗量NiMacS.F.平坦劑150ml/1000安培小時NiMacS.F.延展劑80ml/1000安培小時NiMacS.F.安定劑170ml/1000安培小時逐次調整並檢查應力,假設電位差仍舊缺乏,則必須做活性碳提純應避開全光鎳或高硫鎳藥水污染半光鎳補充主鹽須於生產(chǎn)線外以純水溶解,並經(jīng)由過濾機泵入鍍槽)每三個月更換全陽極濾袋每週更換全活性碳濾心6支及每月更換全5μmPP濾心2天更換鼓風機濾棉(內外層均需更換)每日補充陽極鎳餅,並留意是否有裸空現(xiàn)象1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻沉積全光鎳鍍層,以供給平坦光亮層狀鍍層,並作為三重鎳製程之其次步驟。,10%PH值。每日打哈氏片1次,以NiMac33NiMac14低電流光澤劑及NiMacPlus光澤劑調整鍍層至無麻點、無白霧、無顆粒、平坦全光亮即可硫酸鎳 280~320g/L 55-60C, 10-15分鐘(視總鎳厚度之要求而定)全光鎳

外表張力<40達因/平方公分氯化鎳60~65g/L5:3硼酸氯化鎳60~65g/L5:3硼酸NiMac3345~50g/L〔18133〕45 ml/LNiMac14〔18114〕6-7 ml/LNiMacChallengerPlus〔78180〕1-1.5ml/LNiMac32-C濕潤劑〔18143〕1-2ml/LPH值 4.3-4.5電壓 6-8V電鍍速率 分鐘(3ASD)添加劑消耗量NiMac33 帶出消耗,視工件之形狀而有所不同,可以分析監(jiān)控30~40ml/1000安培小時)NiMac14 可以分析監(jiān)控NiMacChallengerPlus 250ml/1000安培小時調整添加劑須在空槽時稀釋5倍均勻參加每三個月更換全陽極濾袋每週更換全活性碳濾心6支及每月更換全5μmPP濾心2天更換鼓風機濾棉(內外層均需更換)每日補充陽極鎳餅,並留意是否有裸空現(xiàn)象1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻沉積光亮平坦包含微孔粉的金屬鎳層,為三重鎳製程的第三步驟。,20%PH值。每日打哈氏片1次,以NiMac33NiMac14低電流光澤劑及NiMacChallengerPlusNiMACHYPOREXLNiMACHYPOREXL分散劑調整鍍層至無麻點、無白霧、無顆粒、平坦全光亮即可硫酸鎳 280~320g/L 55-60C, 3-5分鐘氯化鎳60~70g/L硼酸45~50g/LNiMAC33〔18133〕13ml/LNiMAC14〔18114〕10ml/LNiMACClarion〔78168〕1ml/LNiMACHYPOREXL1ml/LNiMACHYPOREXL分散劑1ml/L微孔鎳

微孔粉 0.2~0.4g/L微孔數(shù) 10000顆/平方公分以上4 PH值 3.8-4.2陰極電流密度 2-5ASD(平方公寸)電壓 6-8V電鍍速率 分鐘(3ASD)添加劑消耗量NiMac33 帶出消耗,視工件之形狀而有所不同,可以分析監(jiān)控30-40ml/1000安培小時)NiMac14 可以分析監(jiān)控NiMACHYPOREXL以分析值監(jiān)控NiMACHYPOREXL分散劑 125ml/1000安培小時NiMacClarion 補充NiMACHYPOREXL時,要充分搖晃均勻方可參加槽中NiMACHYPOREXL分散劑0.1ml/L逐次調整,假設電位差仍舊缺乏,則必須做活性碳提純?yōu)楸荛_微孔粉沉降槽底,於停頓生產(chǎn)時仍應持續(xù)鼓風攪拌每三個月更換全陽極濾袋2天更換鼓風機濾棉(內外層均需更換)每日補充陽極鎳餅,並留意是否有裸空現(xiàn)象1Kg/c㎡,2小時釋放內部殘留空氣2小時檢查液位、液溫及空氣攪拌是否均勻11活化鎳鍍層,以利其後之鉻電鍍,同時防止鉻鍍槽受到?jīng)@染。2預浸鉻3鉻酸3g/L20-30C,2-4分鐘4硫酸0.3~04g/L連續(xù)操作時槽浴必須每週淘汰並重建浴,以避開有機物累積沉積光亮裝飾鉻鍍層,並使其具耐磨損及抗蝕特性。420D建浴劑及MacChrome423D催化劑補充主鹽及硫酸根與氟離子濃度。420D建浴劑及MacChrome423D催化劑調整65%(6.5公分)裝飾鉻

4鉻酸SO4=250~270g/L1.0~1.3g/L鉻酸SO4=250~270g/L1.0~1.3g/L2-3分鐘(視鉻厚度之要求而定)MacChrome420D建浴劑(IP74420)25ml/LF-三價鉻300ppm<6g/L鉻酸與硫酸比值200~250:1電壓 大鍍件可調整至10V)0.13μm/分鐘(15ASD,12%計算)添加劑消耗量MacChrome423D505公升20ml/L1.0g/L(依硫酸分析量補充)因鉻酸腐蝕性強,槽體必須使用鉛內襯,加熱器須使用鈦包覆0.8-1A/公分,10分鐘,以產(chǎn)生導電性佳之褐色氧化鉛膜,形成導電性差之黃色鉻酸鉛膜,必須於再度操作前以強電解活化陽極鍍鉻時,陰極所產(chǎn)生之熱量將導致槽液溫度逐漸上升,因此必須加裝冷卻設備,(2g/L1g/L硫酸根),但須沉降至1小時後,才可鍍鉻每日清洗陽極桿(bar)陽極需使用有銅蕊或鐵蕊才能確保導電及優(yōu)良之鍍鉻拋覆力每6個月取出陽極檢查外表有無異常腐蝕孔,腐蝕孔大於直徑0.5公分或陽極被電1/2時即需更換以電化學方式剝除316材質掛鉤上之銅鎳鍍層同時鉻鍍層掉落至槽底形成污泥。21SS-10BSS-10C補充濃度。MetexSS-10A(13617)20% 30μm/4分鐘MetexSS-10B(13618)5%Activator(活化劑)10-12unitMaintenance(穩(wěn)定劑) 8-12unitMakeup(建浴劑)16-19unitPH值 6.0-7.0陰極面積/陽極面積4:1陽極電流密度 平方公寸)電壓 6-12V剝離速率 分鐘(50ASD)添加劑消耗量 MetexSS-10B 提升活化劑與電解 穩(wěn)定劑1unit)剝離 安培小時,(每2%提升活化劑與穩(wěn)定劑1unit)陰極板必須使用不銹鋼316材質,掛鉤使用銅材,以確保建浴劑(SS10A)量充分,維持槽液之導電效果SS10C過量(建浴劑>20units)將導致剝離效果變差,缺乏(建浴劑<10units)則導電6果差,電流無法達到要求SS10B缺乏(活化劑<10units)亦導致剝離效果變差,過多(活化劑>30units)則腐蝕掛鉤(當污泥已堆疊至碰觸掛鉤時即須移槽更浴Bar需加蓋,每週定期清洗以確保良好之導電十六、各種金屬陽極1鍍銅 23

打底銅:軋延銅球,0.03-0.06%,pp,12盎司/平方碼,64×38棉緞交織材質,1/3處為雙層,每三個月更酸性光澤銅:軋延銅球,0.03-0.06%,pp,12盎司/平方碼,64×38棉鍛交織材質,1/3處為雙層,每三個月更陽極必須置於陽極鈦籃內再套上陽極袋以避開污泥進入槽液112鍍鎳34半光鎳:S鎳,使用單陽極袋pp,12盎司/平方碼,64×38交織,1/3處為雙層每三個月更:S鎳,使用單陽極袋pp,12盎司/平方碼,64×38交織,1/3處為雙層每三個月更60g/L，以幫助陽極溶解:S鎳,鎳使用單陽極袋pp,12盎司/平方碼,64×38交織,1/3處為雙層,每三個月更60g/L，以幫助陽極溶解陽極必須置於陽極鈦籃內再套上陽極袋以避開污泥進入槽液11不溶性錫鉛陽極,Sn/Pb=7%/93%4%/96%2為加強導電性可以銅為芯材再包覆錫鉛合金31/2時必須更鍍鉻4陽極面積必須大於陰極面積(2:1),以避開產(chǎn)生過多之三價鉻560.8-1A/公分,10安培,以產(chǎn)生導電性佳之褐色氧化鉛膜停頓操作時,陽極形成導電性差之黃色鉻酸鉛膜,必須於操作前以強電解活化陽極,或取出陽極以鋼絲刷除鉻酸鉛膜十七、陽極袋、濾袋、濾心,過濾材的漂洗與使用硫酸銅打底,硫酸銅,硫酸預浸銅J-60,化學鎳中和,活化鈀,加速及其水洗槽氰化銅、焦磷酸銅

1%H2SO4+0.5%32-C8hrs後淨水沖洗,即可使用1%H2SO4,浸泡>8hrs後淨水沖洗,即可使用45~50℃溫水浸泡>4hrs後淨水沖洗,即可使用2%HCL浸泡>8hrs後淨水沖洗,即可使用1%H2SO44hrs1%NaoH4hrs後淨水沖洗,即可使用十八、匯流排及導電11一般使用銅材,導電效果較佳2陰陽極不行靠太近,並需做好絕緣以免短路3Bar需加蓋並定期清洗(水中陽極除外)4匯流排的截面積必須足夠負載最大鍍件所需的電流51.55A/mm2十九、不良的判定與排解pop(塑膠電鍍)粗化的故障排解不良與問題 起因 改正對策增加蝕刻時間,或操作溫度無電鍍鎳後,鍍層晶亮但密著

蝕刻缺乏,Cr+3含量過高

檢查藥液組成性差 檢查再生系統(tǒng)是否正常增加陶瓷罐無電鍍鎳後,鍍層晦暗,幾乎深

蝕刻過度

減少蝕刻槽的時間與溫度,黑,外觀不良 檢查藥液組成鍍層粗糙或星狀麻點

沉積在蝕刻液中

,粗化槽安裝過濾機藥液無誤,但鍍件未能行良好,無電鍍鎳後,鍍

Fe污染,塑件成型不良,脫模劑殘留於塑件上

Fe污染時,應廢棄部份粗化液,並配.以冰醋酸檢層晶亮 查塑件是否有應力鍍件不平,變形

,掛具負荷過重,或掛具不適當

降低溫度,使用不同掛具添加的鉻酸不能融解 硫酸太高致Cr03沉殿 檢查藥液並平衡之良,ok

射出口區(qū)有應力

增加蝕刻時間,或溫度增加銅層厚度改善排風設備點狀跳鍍 鉻酸霧氣污染

檢查門窗是否確實關閉良好排氣中和劑的故障排解不良與問題不良與問題起因改善對策掛具上鍍中和過鍍降低溫度及時間,濃度跳鍍鉻酸殘留或自鍍件盲孔流出或增加中和溫度,時間,濃度,增加空氣掛具破損攪拌,修補破損掛具活化劑的故障排解不良與問題掛具上鍍跳鍍密著不良

起因二價錫太低加速劑的故障排解

改善對策槽液移槽過濾3.0-3.5g/l,增加噴水洗降低溫度或濃度,時間,時間增加濃度,溫度不良與問題 起因 改善對策鍍件邊緣漏鍍化學鎳後無鍍層

槽液金屬污染致反應過快化學鎳的故障排解

降低溫度或濃度增加空氣攪拌,假設無法改善則需更槽不良與問題跳鍍

PH太低溫度過低

起因 改善對策J-61並補充至3%上升溫度,重金屬污染槽液中有雜質粗糙或麻點 異常,擔憂定化學鎳後水洗不良

重建浴並將槽體清洗乾淨1μm濾心分析還原劑含量是否過高度增加水洗溢流量酸活化的故障排解不良與問題不良與問題起因改善對策酸活化缺乏增加濃度及時間鎳與銅之間密著不良槽液老化麻點槽液中有雜質更槽1μm濾心,3TO,關閉空氣攪拌預浸銅的故障排解不良與問題不良與問題起因改善對策化學鎳層活性缺乏增加化學鎳PH及溫度預浸銅反應不佳顏色不均鍍浴交換不佳增加空氣攪拌鍍浴濃度缺乏分析補充硫酸銅的故障排解不良與問題 起因鍍件形狀太尖銳燒焦 光澤劑太少溫度太低空氣攪拌太弱針孔(凹陷) 太低有機污染平坦劑過量橘皮,波浪紋 低高電流區(qū)燒焦異物過濾不良掛鉤未剝離乾淨

改善對策降低電流密度改善上掛方式或增加遮敝板22-26℃200-220g/l加強空氣攪拌65-75g/l活性碳處理停頓添加平坦劑CuMac9200Make-up0.5ml/l更換陽極袋同燒焦部份之改善對策更換5um濾心,循還量>4To上掛人員應確認掛鉤剝離乾淨不良與問題不良與問題起因改善對策酸預浸槽濃度缺乏銅鎳剝離光澤劑過量鍍液有懸浮物麻點水洗不良空氣攪拌粉塵帶入過濾機pump吸入空氣平坦劑缺乏增加酸預浸濃度,停頓添加光澤劑移槽過濾,更換5μm濾心,循環(huán)量>4TO檢查水質,增加溢流量更換鼓風機濾心,濾袋,排放空氣,檢查管路有否滲漏添加CuMac9200PartA0.1ml/l氯離子缺乏-鍍層白濛無鏡面效果溫度太高22~26℃有機污染活性碳處理氰化銅的故障排解不良與問題不良與問題起因漏鍍鉻污染起泡鉻污染低電流區(qū)灰暗鉻污染針孔粗造有機污染前處理不良金屬雜質溫度過低改善對策可添加Macdermid產(chǎn)品M-623去除之可添加Macdermid產(chǎn)品M-623去除之可添加Macdermid產(chǎn)品M-623去除之使用活性炭處理分析並調整之弱電解處理之檢查溫控裝置,並降低溫度焦磷酸銅的故障排解不良與問題 起因光澤劑缺乏

改善對