鍍膜員工試題庫(kù)填空題

本文格式為Word版，下載可任意編輯——鍍膜員工試題庫(kù)填空題鍍膜員工試題庫(kù)填空題:

1.關(guān)機(jī)時(shí),關(guān)掉擴(kuò)散泵加熱，需要冷卻60分種以上時(shí)間才可以關(guān)掉總電源2.我們正常鍍膜過(guò)程中鏡片需要鍍膜的一面應(yīng)當(dāng)向下放置。3、寫(xiě)出+XP的意思向正方向調(diào)X方向位置

4.新科隆機(jī)SID1100中生產(chǎn)IRCUT濾色片,每層開(kāi)鍍時(shí),TiO2材料的起始光控曲線方向向上,SiO2材料的光控曲線方向向下。

5.新科隆機(jī)SID1100中的離子源,有3片柵極,從上到下依次為T(mén)OP,MID,BOT;柵極間總共有12片陶瓷片絕緣.

6.現(xiàn)在我們使用的鍍膜機(jī)光學(xué)控制方式有反射式和透射式兩種,昭和機(jī)屬于透射式新科隆機(jī)屬于反射式，光馳機(jī)屬于反射式。

7.一致蒸發(fā)條件下，餅料的SIO2，和顆粒狀的SIO2，餅料的SiO2所需的蒸發(fā)功率要高。

8.比較以下膜料正常蒸發(fā)功率，由大到小排列：MgF2H4SiO2H4>SiO2>MgF29.選擇以下光學(xué)原理：a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干擾原理d、光的投射原理（1）看到水中筷子是彎曲的,利用光的b（2）看到鏡子里自已像，利用光的a（3）光學(xué)薄膜利用光的c

1０.真空可以大致分為四段，分別為初真空、低真空、高真空、超高真空

1１.在真空的定義范圍內(nèi)，高真空度范圍是10-1-10-6Pa

1２.電子槍分為180°槍和270°槍，而目前韓一機(jī)器的電子槍180度，光馳機(jī)器的電子槍180度，昭和機(jī)器的電子槍270度，新柯隆機(jī)器的電子槍180度，

1３.鏡片放到鍍膜機(jī)后，關(guān)門(mén)加熱抽真空，等到真空度和溫度到達(dá)，兩者都滿足設(shè)定要求后，機(jī)器才能開(kāi)始鍍膜。

1４．目前我們鍍膜機(jī)有兩種厚度控制方法：晶振控制和光控控制、1５．昭和機(jī)器在沒(méi)有放光控監(jiān)控片下鍍膜時(shí)，光控曲線直線形狀16、報(bào)警程序中PFC報(bào)警，其中PFC含義：POLYCOLD

17、當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈閃爍時(shí)說(shuō)明擴(kuò)散泵還在加熱中，還不能開(kāi)啟高閥。

18、當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈不閃爍時(shí)說(shuō)明擴(kuò)散泵已加熱完成，可以正常工作。19、寫(xiě)出-YS的意思減少Y方向電子槍光斑大小

20、目前我們鍍膜機(jī)抽真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵組成21、鍍膜機(jī)中,膜層厚度的記錄單位是:埃（A）,與米(m)的換算關(guān)系是:10-10,速率的單位是:A/S.

22、保持鍍膜機(jī)開(kāi)門(mén)時(shí)間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護(hù)板吸附空氣中的水汽，使鍍膜機(jī)的抽速變慢，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。

23、薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝離子輔助、反應(yīng)離子鍍、濺射

24光學(xué)鍍膜機(jī)真空排氣系統(tǒng)中，機(jī)械泵排氣原理：機(jī)械壓縮排除氣體擴(kuò)散泵排氣原理：靠蒸汽射流攜帶排除氣體

25、POLYCOLD工作原理：利用低溫表面對(duì)氣體進(jìn)行物理吸附排氣

26、寫(xiě)出以下薄膜種類符號(hào)：（1）減反膜（2）、分束膜（3）內(nèi)反射（4）偏振膜

27、寫(xiě)出以下真空度轉(zhuǎn)換關(guān)系：1Pa=10-2Mbar=0.75E-2Torr1Torr=133Pa=1.33Mbar

28、鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm，晶振厚度是1000A，而現(xiàn)在需要鍍550nm，那么輸入晶振厚度約為1100A

29、該層晶振厚度是800A，現(xiàn)已鍍了150A，由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是650A

30、寫(xiě)出鍍膜機(jī)各控制閥門(mén)的中文名稱：MV高閥DP擴(kuò)散泵RV粗抽閥SLV細(xì)充氣閥FV輔助閥

31、光學(xué)玻璃BK7折射率為1.517,則該玻璃表面單面反射率是4.219%。32、真空規(guī)管測(cè)量原理通過(guò)氣體放電方式產(chǎn)生電子，通過(guò)磁場(chǎng)使電子獲得能量將氣體分子電離

33、石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。

34、長(zhǎng)波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/(0.5HL0.5H)^p/G短波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/(0.5LH0.5L)^p/G

35、現(xiàn)配有2把電子槍，面向機(jī)器左邊為EB1,右邊為EB2.36、正常新晶振的頻率為6MHz左右.

37、一般狀況下,真空達(dá)到7.0Pa以上,高閥才會(huì)自動(dòng)開(kāi)啟,5E-3Pa時(shí),可以預(yù)熔膜料.

38、開(kāi)機(jī)時(shí),擴(kuò)散泵中的油溫需加熱到250℃左右,擴(kuò)散泵才能抽真空39、氧氣瓶中氧氣的壓力須大于3KG.

40、若一個(gè)膜系40層,每個(gè)光控片控制2層膜,再備2片余量,總共需要放22片光控片.

41、鍍膜機(jī)開(kāi)機(jī)前必需檢查冷卻水,壓縮空氣,電是否正常,是否穩(wěn)定供應(yīng).42、晶振冷卻水的進(jìn)水溫度要求是：18~25℃

43、寫(xiě)出以下膜料分子式：二氧化硅SiO2氟化鎂MgF2二氧化鈦TiO2氧化鋁AL2O3

44、寫(xiě)出以下膜料分子式的名稱：Ta2O5五氧化二鉭Nb2O5五氧化二釹SiO一氧化硅MgO氧化鎂

45、韓一鍍膜機(jī)有2個(gè)晶振頭，外邊為1號(hào)，里邊為2號(hào)。46、在點(diǎn)檢機(jī)械泵、羅茨泵部件，必需查看油位是否滿足標(biāo)準(zhǔn)要求47、開(kāi)啟鍍膜機(jī)時(shí)，必需給擴(kuò)散泵預(yù)加熱60分鐘后才能用擴(kuò)散泵抽真空48、清冼電子槍、規(guī)管或離子源等部件，必需戴手套進(jìn)行操作

49、利用光控控制鍍膜機(jī)，一般在每爐擺放監(jiān)控片數(shù)量必需多于程序中設(shè)定數(shù)量2片才可以關(guān)門(mén)。

50、在取放昭和機(jī)器光控片時(shí)，每個(gè)光控套筒里擺放1片清白、無(wú)傷痕監(jiān)控片。51、鍍膜人員在機(jī)器罩子上取放鏡片時(shí)，一定要戴口罩。

52、晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在枯燥器中的目的是：防止在空氣中受潮。53、有2塊修正板的鍍膜機(jī)，面向機(jī)器左邊為MASK1,右邊為MASK2。54、寫(xiě)出以下中、英名稱：晶振crystalCoating鍍膜真空vacuumOptical光學(xué)

55、開(kāi)鍍膜機(jī)之前，先需檢查壓縮空氣壓力在_5-8____公斤56、開(kāi)啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓電壓值應(yīng)為_(kāi)__380___V左右。57、開(kāi)鍍膜機(jī)之前，檢查水壓3-5公斤.

58、光控控制的鍍膜機(jī)蒸鍍過(guò)程中光控曲線方向?yàn)椋悍瓷涫娇刂频母哒凵渎什牧险翦兎较蛳蛏希?/p>

59、機(jī)器大清洗后應(yīng)進(jìn)行抽真空和加熱處理，才能正常生產(chǎn)。60、我們現(xiàn)在的鍍膜方式屬于熱蒸發(fā)方式。

二、選擇題(不定項(xiàng)選擇題)

1.在鍍膜過(guò)程中,石英晶振可以顯示以下哪些因素?(AD)A、蒸發(fā)速率B、蒸發(fā)溫度C、真空度D、膜層厚度

2．材料蒸發(fā)時(shí)，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、補(bǔ)充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時(shí)，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定D、使控制更確切。

3．鍍膜機(jī)罩子或放扇形板的轉(zhuǎn)動(dòng)架須高速轉(zhuǎn)動(dòng)的目的是（ABCD）A、使同圈的膜層厚度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚度分布均勻C、使同圈溫度分布均勻D、使內(nèi)外排溫度分布均勻

4、現(xiàn)在我們生產(chǎn)Ir-cut平板濾色片，從反射看平板的顏色是（A）A、紅色B、綠色C、藍(lán)色D、沒(méi)有規(guī)律

5、油擴(kuò)散泵上面加冷阱,其作用是(AD).A.防止擴(kuò)散油分子回流到真空室B.加快排氣速度.C.防止雜物掉入擴(kuò)散泵.D、提高膜層附著力

6、為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基板時(shí)基本不和剩余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真空度要到達(dá)10-3Pa以下,以滿足(B)條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分子平均自由程遠(yuǎn)大于蒸發(fā)距離C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D、氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。

7、對(duì)鍍膜材料進(jìn)行預(yù)熔的目的是（AC）A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì)B、改變材料的表面形狀C、減少材料的放氣D、提高材料的溫度

8、真空鍍膜時(shí)真空度范圍應(yīng)在（C）A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空

9、電子槍“FIL〞燈變紅，故障原因是（C）A、電子槍高壓線路故障B、真空室底下門(mén)沒(méi)有關(guān)好C、電子槍燈絲有問(wèn)題D、電子槍電流回路故障。10、提高膜層聚集密度工藝有（AD）A、提高離子源功率B、降低溫度C、降低真空度D、提高溫度

11、黃色互補(bǔ)色是（B）A、綠色B、藍(lán)色C、紅色D、紫紅色

12、加強(qiáng)膜層和鏡片附著強(qiáng)度，以下那些因素有關(guān)（ABCD）A、鏡片表面清潔度B、鏡片表面溫度C、真空室內(nèi)清潔度D、膜層材料

13、鍍650±10IR-CUT濾色片，請(qǐng)問(wèn)鍍出在哪個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)合格（B）A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm

14、在可見(jiàn)光光譜中，綠色波長(zhǎng)范圍是（D）A、600-570B、500-450C、630-600D、570-500

15、SID1100的離子源中和器正常工作時(shí),需要以下哪些氣體?(AC)冷卻時(shí)需要什么氣體?(C)A、氧氣(O2)B、氮?dú)?N2)C、氬氣(Ar)D、氦氣(He)16、鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時(shí)沒(méi)熔透，鍍膜時(shí)有飛濺C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時(shí)有膜料殘?jiān)暨M(jìn)坩堝

17、鍍膜機(jī)抽速慢，以下哪些可能會(huì)引起？（ABCD）A、各類泵油使用時(shí)間太長(zhǎng)，已變質(zhì)B、POLYCOLD有問(wèn)題C、真空室的清潔不到位D、機(jī)器有漏氣18、真空室內(nèi)部清掃不清白，可能會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、機(jī)器抽速慢B、零件表面灰塵C、機(jī)器效率降低D、分光特性不重復(fù)

19、以下哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性?(ABD)A、電子槍光斑的位置B、電子槍光斑的形狀、大小C、真空度不穩(wěn)定D、修正板的形狀和上升高度.20、正常狀況下,真空室內(nèi)部清洗清白后,機(jī)器的抽氣速度將(B)A、變慢B、變快C、不變D、無(wú)法判斷。

21、電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻C、分光特性不良D、產(chǎn)生雜質(zhì)

23、在一致光斑大小和蒸發(fā)速率的狀況下，AL2O3電子槍功率（A）SiO2電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道

24、以下屬于鍍膜機(jī)粗抽閥門(mén)符號(hào)是（C）A、LVB、SLVC、RVD、SRV

三、簡(jiǎn)答題。

1．簡(jiǎn)述在鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對(duì)策？

答：原因?qū)Σ?.電子槍周邊沒(méi)有清潔清白用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件2坩鍋沒(méi)有清冼清白坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼清白3鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必需把電子槍光斑打到中間而不能打偏4預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹5預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6.電子槍檔板不清白每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼清白7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料

2．從操作角度來(lái)看，如何操作和保養(yǎng)才能讓一臺(tái)鍍膜機(jī)的膜系穩(wěn)定？答：此題是員工自由發(fā)揮題目，沒(méi)有明確答案，可以從以下三個(gè)方面考慮：1、如何依照作業(yè)指導(dǎo)書(shū)進(jìn)行操作？2、如何維護(hù)設(shè)備日常保養(yǎng)？3、在鍍膜時(shí)出現(xiàn)問(wèn)題時(shí)，怎樣去解決這些問(wèn)題？3．簡(jiǎn)述一下鍍金屬膜本卷須知？答：高的真空度、低基板溫度、快蒸4、在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意那些事項(xiàng)？

答1、冷卻水不足，必需關(guān)閉擴(kuò)散泵，否則輕則會(huì)造成返油，重則會(huì)使擴(kuò)散泵過(guò)熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。（機(jī)器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)中止擴(kuò)散泵加熱，并報(bào)警）2、擴(kuò)散泵必需在低真空閥關(guān)閉，預(yù)抽閥開(kāi)啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時(shí)才能開(kāi)啟，否則會(huì)造成真空室返油

5、光控控制的機(jī)器在鍍TIO2，光控程序設(shè)定為START90PERK1STOP10,而現(xiàn)在的光控曲線鍍到80時(shí)突然報(bào)警，而必需退出程序重新加鍍，請(qǐng)問(wèn)如何設(shè)置程序進(jìn)行加鍍？

答：首先把START值從90改到80，然后重新加鍍這一層，讀出極值點(diǎn)數(shù)值，這時(shí)過(guò)振量應(yīng)當(dāng)這樣計(jì)算STOP值=（終止值-PERK值）/（90-PERK值）*1006、為什么要在高真空下鍍膜？

答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就簡(jiǎn)單到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長(zhǎng)。膜料簡(jiǎn)單沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化

學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。

7、晶振水堵塞后你怎么進(jìn)行疏通?

答：把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開(kāi)，并把閥門(mén)關(guān)上，用壓縮空氣氣槍從進(jìn)口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？

8、鍍膜機(jī)在自動(dòng)鍍膜時(shí)發(fā)生報(bào)警，而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報(bào)警？答：首先按報(bào)警暫停按紐，查看報(bào)警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導(dǎo)書(shū)是否有，如沒(méi)有向線長(zhǎng)匯報(bào)，由線長(zhǎng)再向技術(shù)人員詢問(wèn)如何解決，直到報(bào)警內(nèi)容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。

9、利用光控控制，上一罩鍍出IR-CUT，測(cè)試曲線波長(zhǎng)最長(zhǎng)672nm、最短是666nm,而現(xiàn)在要鍍650±10IR-CUT濾色片，請(qǐng)問(wèn)如何更改參數(shù)？答：=所有光控控制波長(zhǎng)×650/67210．根據(jù)你的工作經(jīng)驗(yàn)，從外表看，如何區(qū)分AL2O3和MGF2材料？答：從形狀來(lái)看：AL2O3顆料比較有梭角，MGF2膜料更碎；從顏色來(lái)看：AL2O3的顏色要暗一些，MGF2的顏色要亮一些。

11．作為一名交班者，你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)當(dāng)讓接班者明白哪些事情,同時(shí)作為一個(gè)接班者你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)當(dāng)從前一班中明白哪些事情？

答：此題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個(gè)方面答題1、本班在上班時(shí)，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以及用的什么膜系來(lái)鍍膜的？2、在本班期間出現(xiàn)了那些問(wèn)題，用什么方法來(lái)解決的？以及要注意那些問(wèn)題，這些都要交給下個(gè)班，也需要下個(gè)班來(lái)詢問(wèn)這些問(wèn)題。3、上個(gè)班有那些試制需要下個(gè)班來(lái)完成，把被交待狀況詳細(xì)交給下過(guò)班。

12．簡(jiǎn)述一下鍍膜機(jī)的開(kāi)機(jī)及關(guān)機(jī)過(guò)程。

答：開(kāi)機(jī)冷卻水和壓縮空氣檢查開(kāi)穩(wěn)壓電源開(kāi)機(jī)器總電源加熱擴(kuò)散泵開(kāi)電子槍電源開(kāi)啟光控電源開(kāi)記錄儀開(kāi)關(guān)開(kāi)晶振開(kāi)關(guān)開(kāi)啟電腦關(guān)機(jī)：清潔機(jī)器抽真空關(guān)擴(kuò)散泵關(guān)電子槍電源關(guān)光控電源關(guān)記錄儀開(kāi)關(guān)關(guān)晶振開(kāi)關(guān)關(guān)電腦關(guān)總電源

13．在鍍膜之前為什么要預(yù)熔材料？

答：在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進(jìn)行放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。14、在鍍膜上傘鏡片之前，我們應(yīng)注意和確認(rèn)那些項(xiàng)目？

答：1票物相符2可否同罩3是否是被鍍膜面4膜料與程序里的坩堝號(hào)是否對(duì)應(yīng)5檔板的平穩(wěn)，有無(wú)松動(dòng)6晶片的壽命及活性值。7電子槍壽命及有無(wú)異物8光控片是否夠用