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文檔簡介

閉卷局部康普頓效應(yīng)中,散射光子的波長大于入射光子的波長。〔○〕晶粒較粗大的材料,在肯定的射線透照打件下,射線底片上可能〔○〕承受鉛箔增感時,不能依據(jù)曝光因子公式修正透照參數(shù)?!波w〕K的主要目的是保證底片內(nèi)的黑度在規(guī)定范圍內(nèi)〔╳〕在射線檢測之前,對接接頭的外表應(yīng)經(jīng)外觀檢測并合格。外表的不規(guī)章狀態(tài)在底片上的影像不得掩蓋干擾缺陷影像,否則就對外表〔○〕高速運動的電子在與靶金屬的原子核外電場作用時X〔○〕常用金屬增感屏是鉛,它的粒度細(xì),增感系數(shù)小,所得底片的清楚〔○〕X射線和r〔○〕當(dāng)X射線通過四個半價層后,其能量權(quán)為初始值的十六分之一。〔╳〕射線透照時,選擇XW〔○〕康普頓效應(yīng)中,散射光子的波長大于入射光子的波長〔○〕縱向?qū)雍缚p接頭雙壁單影透照時,搭接標(biāo)記應(yīng)貼在膠片側(cè)的工〔╳〕X〔╳〕14.連續(xù)X〔╳〕15.X〔○〕增大底片寬容度通常的方法是降低管電壓〔╳〕放射性同位素的能量削減到原來的一半所需要的時間稱為半衰〔╳〕顯影液是堿性,定影液是酸性〔○〕衰變常數(shù)λ越大,放射性同位素越不穩(wěn)定,衰變得越快〔○〕射線能量的選擇原則是在保證穿透工件的前提下應(yīng)選擇較低的射〔○〕即使管電壓一樣,不同X射線機所產(chǎn)生的X射線的線質(zhì)也是不同〔○〕連續(xù)X射線的能量與管電流有關(guān),與管電壓無關(guān)〔╳〕曝光曲線是由曝光量與透照厚度及管電壓組成的一組曲線〔○〕底片上缺陷影像的尺寸一事實上都大于缺陷的實際尺寸〔╳〕當(dāng)X〔╳〕rr〔╳〕x、r〔○〕50mSv〔○〕底片評定的寬度一般為焊疑本射及焊疑兩側(cè)熱影響區(qū)的范圍。〔○〕K定義為一次透照長度范圍內(nèi)射線束穿過母材的最大〔○〕原子的質(zhì)量數(shù)就是原子的質(zhì)量〔╳〕對于曝光缺乏的膠片進(jìn)展暗室處理時,可承受提高顯影溫度或延長顯影時間的措施,以提高底片黑度〔╳〕X射線檢測時,AB級射線檢測技術(shù)曝光量的推舉值應(yīng)不小于15mA.min〔╳〕衰變常數(shù)λ越大,放射性同位素越不穩(wěn)定,衰變得越快〔○〕射線能量的選擇原則是在保證穿透工件的前提下應(yīng)選擇較低的射〔○〕為檢查底片的靈敏度,每張底片上都必需有像質(zhì)計〔╳〕連續(xù)X射線的能量與管電流有關(guān),與管電壓無關(guān)〔╳〕源置于曲率中心對環(huán)向?qū)雍附咏宇^進(jìn)展周向曝光時,搭接標(biāo)記〔○〕按GB/T151-2023《熱交換器〔GB151-2023〕規(guī)定:DN≤2600mm〔○〕JB/T4730。2-2023標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,在可實施的條件狀況下應(yīng)選用單壁透〔○〕X射線管有抗震性強,管電流和焦點穩(wěn)定性好,體積小的優(yōu)點,而且真空度優(yōu)于玻璃X〔○〕像質(zhì)計靈敏度2.0%,是指大于2.0%透照厚度的缺陷均可被檢出。〔╳〕產(chǎn)生光電效應(yīng)特征之一是射線與物質(zhì)作用產(chǎn)生反沖電子〔○〕X〔○〕連續(xù)X〔╳〕從膠片放入定影液開頭到乳劑層中未曝光的AbBr〔╳〕XX〔○〕選用低的管電壓可以提高底片比照度,從而提高射線檢驗靈敏度。〔○〕吸取一樣劑量,不管射線的種類和性質(zhì)所產(chǎn)生的生物效應(yīng)完全一樣〔╳〕對于管電壓和管電流都不變的某一曝光量,當(dāng)焦距從1200毫米削減800103分鐘?!波w〕二、選擇題1. 〔B〕A光電效應(yīng)B康普頓效應(yīng)C電子對效應(yīng)D瑞利散射2.下面哪種射源的穿透力量最強?〔C〕A60C0 B220KVP C15MeVX射線 D192Ir4.與低能射線透照相比,高能射線透照具有以下特點〔A〕A底片寬容度大B比照度較高 C感光速度快 D散射線影響大5.標(biāo)準(zhǔn)中所講靈敏度都是像質(zhì)計靈敏度,像質(zhì)計靈敏度是指〔B〕A用像質(zhì)計可識別金屬絲比照自然缺陷來評功價影像質(zhì)量的靈敏度B在一事實上透照厚度范圍內(nèi)用像質(zhì)計可識別金屬絲的絲號來評價影像質(zhì)量的靈敏度C用像質(zhì)計可識別金屬絲來評價影像黑度質(zhì)量的靈敏D用像質(zhì)計可識別金屬絲來評功價檢出最小缺陷的靈敏度6.以下尺寸一樣的缺陷,簡潔檢出的位置是〔C〕A近外表〔源側(cè)〕B中心部位 C近底面〔膠片側(cè)〕D近側(cè)面與低能射線透照相比,高能射線透照具有以下特點〔A〕A寬容度大 B比照度較高 C感光速度快 D散射線影響大射線照相膠片上影像生成的主要部位在〔C〕A片基 B結(jié)合層 C感光乳劑層 D保護(hù)層A缺陷自身的高度 B缺陷寬度 C缺陷與射線束的角度 D以下都是顯影液中溴化鉀的作用〔D〕A顯影 B保護(hù) C促進(jìn) D抑制14R/h,20毫米的鋼板10毫米,為了獲得適當(dāng)?shù)牡?.2R,則每次拍片曝光時間應(yīng)為多少分鐘〔B〕A12B24C36X射線的線質(zhì)有何變化?強度有何變化?波長有何變化?〔A〕A線質(zhì)變硬強度增加波長變短 B線質(zhì)不變,強度增加波長不變C線質(zhì)變軟強度降低波長變長 D線質(zhì)不變,強度降低波長變長13.透照板厚肯定且有余高的焊縫,散射比隨有效能量的提高而〔B〕A增大B減小C不變D不肯定按幅射防護(hù)規(guī)定,從事放射性工作的人員年齡必需年滿〔B〕A16周歲 B18周歲 C20 D22對小徑管雙壁雙影透照時適合的曝光參數(shù)〔B〕A較高電壓較短時間 B較高電壓較長時間 C較低電壓較短時間D較低電壓較長時間,管電流、曝光時間和焦距三者之間的關(guān)系是〔B〕A管電流不變時,時間與焦距的平方成反比B管電流不變時,時間與焦距的平方成正比C焦距不變,管電流與曝光時間成正比 D曝光時間不變,管電流與焦距成正比在工件的〔B〕A射線源側(cè) B膠片側(cè) C兩側(cè)均可 D未明確規(guī)定18.透照肯定厚度工件時,曝光曲線的作用是〔D〕A確定管電壓B確定曝光量 C確定顯影條件 D以上都是19.電離輻射常用輻射量包括〔D〕A照耀量 B比釋動能 C吸取劑量 D以上都是20.射線檢測時,使用像質(zhì)計的目的是〔D〕A測量缺陷大小 B測量幾何不清楚度C測量底片黑度 D檢查和定量評價透照底片的影像質(zhì)量21.使用鉛增感屏的目的是〔B〕A保護(hù)膠片不被劃傷 B削減散射線縮短曝光時間C增加曝光時間 D改善透照條件22〔D〕A增大 B減小C不變 D先減小后不變23.一般來說,為覺察工件中羅小的缺陷,應(yīng)承受〔A〕A感光速度慢膠片 B感光速度快的膠片 C粒度大的膠片 D以上均可單壁透照的透照厚度W等于雙壁單影的透照厚度W等〔A〕A2T B2T+h C T D金屬陶瓷X射線管與玻璃殼X射線管相比優(yōu)點是〔D〕A抗震性強,不易裂開,金屬殼不存在電擊穿和外表放電問題B管內(nèi)真空度高,各項電性能好C體積小重量輕,壽命長,簡潔裝焊鈹或鉬窗口 是25.散射線主要是射線與物質(zhì)相互作用時,是以下哪種效應(yīng)的產(chǎn)物〔B〕A光電效應(yīng) B康普頓效應(yīng) C電子對效應(yīng) D瑞利散射26.對連續(xù)X射線的總強度I與靶材的原子序數(shù)Z的關(guān)系表達(dá)正確的選項是〔A〕A I與Z成正比 B I與Z的平成正比 CI與Z成反比 I與Z的平方成反比將X所產(chǎn)生標(biāo)識X射線的〔C〕A能量與波長都一樣 B能量不同,波長一樣C能量與波長都不一樣 C能量一樣,波長不同2個半價層時,則膠片接愛以的照耀量削減〔B〕A30% B75% C100% D50%29.連續(xù)X射線透照工件時,以下表達(dá)正確的選項是〔C〕A其次半價小于第一半價層 B其次半價層等于第一半價層C其次半價層大于第一半價層 D實際半價層小于計算值30.使用像質(zhì)計的局限性是〔C〕A不能供給底片靈敏度的永久證據(jù)B不能驗證透照工藝的適當(dāng)性C不能供給檢出缺陷尺寸的度量指示 D不能比較兩種透照技術(shù)的質(zhì)量凹凸JB/T4730。2-2023標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,對使用中的曝光曲線,每〔A〕至曲線進(jìn)展校驗或重制作。A年 B季 C月 D周〔C〕類或更高類別的膠片。A T1 B T2 C T3 D T4JB/T4730。2-2023標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,小徑管環(huán)縫透照布置時,必需同時滿足下述條件〔D〕方可雙壁雙影透照橢圓成像。AT〔壁厚〕≤8mm B g(焊縫寬度)≤D/40C影像開口寬度在1倍焊縫寬度左右 34.底片比照度取決于〔B〕A焦點尺寸和底片黑度 比照度和膠片比照度C清楚度和增感方式 D顯像條件和清楚度35JB/T4730。2-2023心周向曝光至少在圓周的內(nèi)壁上等間隔地放置〔B〕個像質(zhì)計。A4 B3 C6 D2AB的最小距離f〔B〕Af≥15db2/3 Bf≥10db2/3 Cf≥1/10db1/3 Df≥10db1/3按標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,應(yīng)依據(jù)工件的特點和技術(shù)條件的要求選擇適應(yīng)的透照方式,在可以實施的狀況下應(yīng)選用〔A〕A單壁 B雙壁雙影 C雙壁單影 D以上都是38.表示工件厚度,千伏和曝光量之間關(guān)系的曲線稱為〔C〕A膠片特征曲線B衰減曲線 C曝光曲線 D以上都不對中易產(chǎn)生散射的軟射線的影響,可承受〔A〕A在射線機窗口安裝濾波板 將不必曝光的區(qū)域用鉛板遮擋C用熒光增感 D以上都不行40.與低管電壓透照的底片相比,高管電壓透照的底片〔A〕A寬容度大,B比照度高 C清楚度高 D以上都不對當(dāng)Xr劑層中產(chǎn)生眼晴看不到的影像,稱之為〔C〕A底片黑度 B特性曲線 C潛影 42顯影液中的顯影劑通常承受〔B〕A亞硫酸鈉B米吐爾,菲尼酮對苯二酚 都是43.射線檢測工藝條件是指〔D〕A設(shè)備器材條件B透照幾何條件和工藝參數(shù)條件C工藝措施條件D三、問答題簡述射線檢測的原理?工件質(zhì)量。影響射線照相質(zhì)量的三要素是:比照度,不清楚度,顆粒度。答:影響射線照相質(zhì)量的三要素是:比照度,不清楚度,顆粒度。底片上影像輪廓邊緣黑度的寬度。顆粒度:射線底片上疊加在工件影像上的黑度隨機漲落,即影像黑度的不均勻程度。X答:1。首先要依據(jù)試件的材質(zhì),厚度確定適用的射線能量范圍,23。對截面厚度差較大的工伯,為了獲得較大的底片寬容度,可適當(dāng)提高XJB/T4730。2-2023編制射線檢測工藝的目的。答:射線檢測工藝是指為到達(dá)預(yù)期的檢測目的,對檢測活動的方法、程序、技術(shù)參數(shù)和技術(shù)措施等作出的書面規(guī)定,或稱書面文件。射線檢測工藝包括通用工藝和專用工藝。選擇透照方式要考慮哪些因素?答:原則上在可以實施的狀況下應(yīng)選用單壁透照方式,在單壁透照不能實施時才允許承受雙壁透方式。具體講:1。照相靈敏度:2。缺陷檢出特點:針對檢出缺陷的特點3。透照厚度和橫向裂紋檢出角:選擇的透照方式盡可能獲得較小的透照厚度差和橫向裂紋檢出角,有利于提高底4。一次透照長度:選擇一次透照長度大的5。檢測環(huán)境、工件及探6操作。解釋射線與物質(zhì)的光電效應(yīng)現(xiàn)象,光電效應(yīng)的產(chǎn)物都有哪些?答:當(dāng)光子與物質(zhì)原子的內(nèi)層束縛的電子作用時,光子與原子中的軌道電子發(fā)生彈性碰撞,光子的全部能量傳遞給軌道電子,使這個電子脫離軌道放射出去,而光子本身消逝,這一過程稱為光子效應(yīng)。光電效應(yīng)的產(chǎn)物有標(biāo)識X常用的散射線掌握方法有哪些?選擇適宜的射線能量;2.使用鉛箔增感屏3.特地借施:包括使用背離護(hù)鉛板,使用鉛罩和光柵,承受厚度補償物,使用濾板,使用遮擋物,修磨試件等。8.表達(dá)射線防護(hù)三個根本方法的原理答:1。射線防護(hù)三個根本方法是:時間防護(hù)、距離防護(hù)、屏蔽防護(hù)。A時間防護(hù)原理:在幅射場內(nèi)的人員所受照耀的累積劑量與時間與正比,因此,在照耀率不變的狀況下,縮短照耀時間便可削減所承受的劑量,從面這到防護(hù)目的。B距離防護(hù)原理:在源幅射強度肯定的狀況下,劑量率或照耀率與離源的距離平方成反比,增大距離便可削減劑量率或照耀率,從而到達(dá)防護(hù)目的。C屏蔽防護(hù)原理:射線穿透物質(zhì)時強度會減弱,在人與輻射之間設(shè)置足夠厚的屏蔽物,便可降低輻射水平,從而到達(dá)防護(hù)目的。四、計算題600mm200KVP,5Ma310mA2.5〔lgED1.5=2.1lgED1.5=2.4〕承受雙壁雙影法透照Ф57mmX3mmX2mmX2mm700mm,求雙壁焊縫余高ΔT=2mm〕是否滿足JB/T4730。2-2023ABX18mm1/8。求鋼板對該射線的半價層和線衰減系數(shù)是多少?1600mm26mm,其環(huán)向焊接接頭叵承受X射線外透法透照,焦點至工件外表距離f為700mm,依據(jù)JB/T4730。2-2023AB100%N和一次透照長度L3開卷局部三、簡答9.JB/T4730。4-2023r源的透照厚度范圍有何規(guī)定?許放寬r1/2;承受其他透照192A級和AB級技術(shù)的r源的最小透照厚度可降至710mm源的最小透照厚度可降至10.JB/T4730。4+2023計無法放置在源側(cè),允許放置在膠片側(cè);3。單壁透照中像質(zhì)計放置透照的底片靈敏度符合要求。4。當(dāng)像質(zhì)計

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