磁控濺射操作規(guī)程

磁控濺射設(shè)備操作規(guī)程開(kāi)機(jī)過(guò)程開(kāi)電柜A水閥（注意有兩水路，閥門上標(biāo)簽為電柜左(A)，電柜右(B)）.開(kāi)電柜A總控制電源.開(kāi)機(jī)械泵，打開(kāi)旁抽角閥V1,開(kāi)低真空計(jì)電源，用機(jī)械泵抽至機(jī)械泵抽壓極限(或5Pa以下).開(kāi)閘板閥G，開(kāi)電磁閥（DF1），關(guān)閉旁抽角閥V1.觀察低壓真空計(jì)示數(shù)是否穩(wěn)定(穩(wěn)定時(shí)即為系統(tǒng)不漏氣)，待穩(wěn)定后開(kāi)分子泵(KYKY)總電源.觀察分子泵顯示窗口為閃動(dòng)的600Hz時(shí)，按下分子泵啟動(dòng)按鈕，分子泵加速.當(dāng)分子泵轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，窗口顯示為600Hz后，按下高真空計(jì)DL-7電源按鈕，觀察真空室真空度，等待達(dá)到濺射所需的本底真空度(一般為10-4Pa).濺射過(guò)程關(guān)閉高真空計(jì)DL-7(!進(jìn)氣之前一定要關(guān)閉，否則高真空計(jì)會(huì)被損壞)，然后打開(kāi)V2，再打開(kāi)V5.開(kāi)氬氣瓶總閥，開(kāi)減壓閥，觀察其指示小于1.5格(三個(gè)大氣壓)即可.開(kāi)質(zhì)量流量計(jì)電源，將MFC1打到閥控位關(guān)小閘板閥G，此調(diào)節(jié)過(guò)程配合旋動(dòng)旋鈕調(diào)節(jié)氣體流量，使低壓真空計(jì)示數(shù)（直流濺射一般為2~5Pa之間，射頻一般在5-8Pa之間）.開(kāi)電柜B水閥，開(kāi)電柜B總控制電源.(1).直流濺射：開(kāi)電柜B中相對(duì)應(yīng)靶位直流濺射電源，調(diào)節(jié)功率使使靶上方氬氣電離啟輝.旋轉(zhuǎn)功率調(diào)節(jié)旋鈕，使濺射功率達(dá)到所需要的數(shù)值.待板壓和板流穩(wěn)定后，轉(zhuǎn)動(dòng)擋板和轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)動(dòng)擋板和轉(zhuǎn)盤到相應(yīng)的靶上，開(kāi)始濺射并計(jì)時(shí).濺射完畢后，將功率調(diào)節(jié)旋鈕逆時(shí)針調(diào)到最小，按下停止按鈕.然后關(guān)閉電柜B的總控制電源.(2).射頻濺射：按下電柜B中射頻功率源的Uf按鈕，電子管預(yù)熱5-10分鐘.按下Ua的開(kāi)始按鈕，通過(guò)Ua粗調(diào)和細(xì)調(diào)增大板壓，使靶上方氬氣電離啟輝.調(diào)節(jié)SP-II型射頻匹配器的C1,C2(調(diào)節(jié)一個(gè)時(shí)，另一個(gè)不動(dòng))，使反射功率最小，駐波比小于1.5.增大Ua,調(diào)節(jié)匹配器的電容使反射功率始終最小，如此反復(fù)調(diào)節(jié)使濺射功率達(dá)到所需要的數(shù)值.預(yù)濺射幾分鐘后，轉(zhuǎn)動(dòng)擋板和轉(zhuǎn)盤到相應(yīng)的靶上，即可開(kāi)始濺射.(3).濺射完畢后，將Ua調(diào)到最小，按下Ua的停止按鈕.等待幾分鐘后按下Uf按鈕.然后關(guān)閉電柜B的總控制電源.（如果需要給襯底加熱，方法同退火過(guò)程的5，6步驟）.靶擋板和轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)：可通過(guò)電腦上的控制軟件或手動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng).注意轉(zhuǎn)盤和樣品擋板同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)前一定要檢查定位插銷，不能使轉(zhuǎn)盤被卡??；只對(duì)樣品進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)操作前，需要將樣品擋板卡住；為了不使加熱電纜纏繞，不能大角度轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤.濺射完畢后，關(guān)閉氬氣的過(guò)程：先關(guān)氣瓶總閥，后關(guān)減壓閥，再將MFC1打到關(guān)閉，待流量計(jì)顯示為0后關(guān)閉流量計(jì)電源.先關(guān)V5后關(guān)V2，開(kāi)大閘板閥G，讓分子泵將真空室抽至高真空.退火過(guò)程開(kāi)加熱控溫電源，調(diào)節(jié)設(shè)定退火溫度，加熱電流初始調(diào)至2A，過(guò)2分鐘左右依次調(diào)至4A,6A,8A，注意不要使電流太大.溫度顯示為設(shè)定溫度時(shí)開(kāi)始計(jì)時(shí)(退火時(shí)間).關(guān)機(jī)過(guò)程待真空室抽到高真空（10-4帕），關(guān)閉閘板閥G.按下分子泵停止按鈕，分子泵減速，當(dāng)頻率顯示低于50Hz時(shí)，關(guān)閉電磁閥.按機(jī)械泵按鈕，停止機(jī)械泵.當(dāng)分子泵停止頻率顯示為閃動(dòng)的600Hz時(shí),關(guān)閉分子泵總電源.分子泵顯示窗口顯示P.OFF后關(guān)閉總控制電源.關(guān)閉水閥，放回排氣管，關(guān)嚴(yán)窗戶.更換樣品過(guò)程打開(kāi)放氣閥(V4)，使真空室和外界壓強(qiáng)相等后，關(guān)閉V4.打開(kāi)電柜A水閥及電柜A總控制電源，確保拔出定位插銷后，按下升按鈕，升起真空室蓋到適當(dāng)高度..取下樣品托，更換樣品.將真空室頂蓋小心推至真空室正上方，按下“降”按鈕.小心緩慢的將真空室頂蓋降下，真空室頂蓋降到不能自動(dòng)再降電動(dòng)機(jī)會(huì)自動(dòng)停止.更換靶材過(guò)程（起始過(guò)程同上述1.2.）1．用螺絲刀擰開(kāi)固定靶擋板的四個(gè)螺絲，將靶擋板小心取出.旋起靶罩并將其取出，后用內(nèi)六角螺絲刀將靶蓋的固定螺絲擰松，取出靶罩和靶材.將新的靶材放在銅靶托上，蓋上靶蓋，擰上螺絲.重新旋上靶罩，使靶罩和靶蓋間留有一定的間隙(1-3mm或稍大)，兩者不能接觸，因?yàn)樵跒R射電源開(kāi)時(shí)，靶罩為陽(yáng)極，靶和靶蓋為陰極(對(duì)直流濺射而言)；對(duì)射頻濺射電源來(lái)說(shuō)，兩極一直在交替.靶罩和靶蓋相接觸的話，即為短路(這一步驟必須戴布手套操作，避免手汗及油脂對(duì)真空室引入污染).放入靶擋板，用螺絲刀擰緊固定螺絲.將真空室頂蓋小心推至真空室正上方，按下“降”按鈕