過濾凈化處理方法與流程

過濾凈化方法流程過濾凈化處理方【技術(shù)領(lǐng)域】1.本案關(guān)于一過濾凈化處理方，尤指加強(qiáng)氣體導(dǎo)吸入效果及結(jié)合體檢測的過濾凈化處方法。背技：2.現(xiàn)代人對(duì)于活周遭的氣體品的要求愈來愈重視例如一氧化碳、氧化碳、揮發(fā)性有機(jī)物volatileorganiccompound，voc)、pm2.5、一氧氮、一氧化硫等等氣體甚至于氣體中含的微粒，都會(huì)在境中暴露并影響人健康，嚴(yán)重的甚至害到生命。因此境氣體品質(zhì)好壞紛引起各國重視，前如何監(jiān)測去避免離，是當(dāng)前急需視的課題。3.又，人體為避免呼吸到有害體或微粒，目前有塞入鼻孔的鼻塞網(wǎng)可提供過濾凈化的入氣體，但鼻塞網(wǎng)的濾網(wǎng)篩目會(huì)使用者發(fā)生呼吸量足及呼吸不通順的題，衍生使用者塞鼻塞濾網(wǎng)的不適性。4.有鑒于此，如何提供一種改上述問題的過濾凈裝置，實(shí)乃本發(fā)目前所欲解決的主要題。技實(shí)要素：5.本案的主要的是提供一種過凈化處理方法，可借由一過濾凈化置實(shí)施，由導(dǎo)流單元強(qiáng)氣體輸送的導(dǎo)，進(jìn)而提供高壓大流量氣體輸出至網(wǎng)，達(dá)到加強(qiáng)氣導(dǎo)入的吸入效果并能快速通過濾提供過濾凈化的吸氣體，同時(shí)氣體傳器也提供氣體的測，讓人體呼吸干凈氣體及了解吸氣體的氣體品質(zhì)。6.本案的一廣實(shí)施態(tài)樣為過濾化處理方法，包括驟：1)提供一過濾凈化裝置，其中該過凈化裝置包含多過濾通路，且每該過濾通路相互堆架構(gòu)形成，該過濾路包含多個(gè)凈化室、一匯流腔室一循環(huán)通道，該多凈化腔室并聯(lián)設(shè)置底部連通該匯流室，該循環(huán)通道通該匯流腔室，每該凈化腔室包含至一導(dǎo)流單元、至一過濾單元、至一氣體傳感器及一口閥，該循環(huán)通道有一入口閥，該口閥設(shè)置于該匯腔室及該循環(huán)通道間，該出口閥設(shè)于該凈化腔室及匯流腔室之間，出口閥控制該凈化室與該匯流腔室的通或封閉，該入閥控制該匯流腔與該循環(huán)通道的連或封閉；2)實(shí)施流引氣、過濾及測，其中每層該過通路的每一該凈腔室的該出口閥予以啟，并使每一該流單元受驅(qū)動(dòng)而該過濾凈化裝置外一氣體導(dǎo)入每一該化腔室中，而該濾單元對(duì)導(dǎo)入該體進(jìn)行過濾形成一化氣體，該凈化氣導(dǎo)入該匯流腔室3)檢測及判斷該凈化氣體每一該過濾通路的每一該凈化室的該氣體傳感對(duì)該凈化氣體進(jìn)一檢測氣體品質(zhì)作，判斷該凈化氣體氣體品質(zhì)是否達(dá)一呼吸閾值；4)循環(huán)過濾及檢測凈化氣體，每層該過濾路的該凈化氣體達(dá)到該呼吸閾值，予以進(jìn)行再循環(huán)濾及檢測，其中每該過濾通路的該體傳感器的所在凈化腔室的該出口控制關(guān)閉，且下一該過濾通路的每該凈化腔室的該口閥關(guān)閉，同時(shí)上層該過濾通路的該循通道的該入口閥以開啟，促使上層該過濾通路的該化氣體得以再回到一層該過濾通路進(jìn)行循環(huán)過濾凈再檢測；以及5)多次過濾凈化導(dǎo)出該凈氣體，上一層該濾通路的該匯流室的該凈化氣體進(jìn)下一層該過濾通路每個(gè)該凈化腔室該過濾單元予以行二次過濾凈化，下一層該過濾通路該凈化氣體達(dá)到呼吸閾值時(shí)，下層該過濾通路的該口閥予以開啟，再入最后一層過濾路中，該凈化氣導(dǎo)入最后一層該過通路中實(shí)施多次過凈化排出?！靖綀D說明】7.圖1為本案濾凈化裝置組實(shí)例示意圖。圖2a為本案過濾凈化置的微機(jī)電鼓風(fēng)型泵示意。圖2b至圖2c為圖2a的微電鼓風(fēng)型泵作動(dòng)意圖。圖3a為本案過濾化裝置的微機(jī)電示意圖。圖3b至圖3c為圖3a的機(jī)電泵作動(dòng)示意圖。圖4a至4d為閥單元示圖。圖5為過濾凈化處方法流程圖。圖6為過濾凈處理示意圖。圖7為過濾凈化置作為鼻塞的示圖?！痉?hào)說明】8.10：過濾凈裝置20：連接件1：本體11l、、31l：凈化腔室12：出氣端12l、22l、32l匯流腔室13：進(jìn)氣端13l、23l、33l循環(huán)腔室14l、24l、34l：出閥15l、25l、35l：入口閥3：導(dǎo)單元3a：微機(jī)電鼓型泵31a：出氣基座311a：出氣腔室312a：縮腔室313a：貫穿孔32a第一氧化層33a：噴氣共層331a：進(jìn)氣孔洞332a：氣孔333a：懸浮區(qū)段34a：第二氧化層341a：共振腔區(qū)段35a：共腔層351a：共振腔36a：第一壓電組件361a：一下電極層362a：第一壓電層363a：第一絕緣層364a：第一上電極層3b：機(jī)電泵31b：進(jìn)氣基座311b：進(jìn)氣32b：第三氧化321b：匯流通道322b匯流室33b：共振層331b：心穿孔332b：振動(dòng)區(qū)333b：固定區(qū)段34b：四氧化層341b：壓縮腔區(qū)35b：振動(dòng)層351b：致區(qū)段352b：外緣區(qū)353b：氣孔36b：第二壓組件361b：第二下電極362b：第二壓電層363b第二絕緣層364b：第二上電極4：過濾單元5：氣體感器6：閥單元61：導(dǎo)電層61a：通孔62：閥層62a：通孔63：柔性63a：通孔64：容置空間：驅(qū)動(dòng)芯片8：電池9：防透氣膜l1：第一層過濾路l2：第二層過濾通路l3最后一層過濾通路s1～s5：步驟【具體實(shí)施方式9.體現(xiàn)本案特與優(yōu)點(diǎn)的實(shí)施例在后段的說明中詳敘述。應(yīng)理解的本案能夠在不同的態(tài)上具有各種的變，其皆不脫離本的范圍，且其中的明及圖示在本質(zhì)上作說明之用，而用以限制本案。10.如圖1所示，案提供一種過濾化處理方法，由一濾凈化裝置10實(shí)施，過濾凈化裝10包括：一本體1、至少層過濾通路。本體1具有一出氣端12及一進(jìn)氣13。本實(shí)施例的過濾通路以三層為例，分為第一層過濾通路l1、第二過濾通路l2及最后一層過通路l3，但其層數(shù)不以為限，可依據(jù)實(shí)際情形施變化。其中，一層過濾通路l1、第二層過濾通路l2及最后一層過濾通l3的結(jié)構(gòu)相似，以下先以第層過濾通路l1為例進(jìn)說明。第一層過濾路l1設(shè)置于本體1內(nèi)，且包多個(gè)并聯(lián)設(shè)置的化腔室11l、匯流腔室12l及循通道13l。多個(gè)化腔室11l底部連通匯腔室12l，且其一側(cè)設(shè)一循環(huán)通道13l連通匯流室12l。其中，每一凈化腔11l皆包含有至一導(dǎo)流單元3、至少一過濾單4、至少一氣體傳感器5及一出口閥14l，且環(huán)通道13l具有一入口閥15l，通過入口閥15l的開啟或關(guān)閉，來加以控制流腔室12l及循環(huán)通道13l之間連通或封閉，及過該出口閥14l的開啟或閉，來加以控制化腔室11l與匯流腔室12l之間連通或封閉。11.其中，過濾單4可為一高效濾網(wǎng)或高效網(wǎng)涂布一層二氧氯的潔凈因子，抑制氣體中毒、細(xì)菌，于另實(shí)施例中，過濾元為高效濾網(wǎng)涂布層萃取了銀杏及日鹽膚木的草本加涂層，構(gòu)成一草加護(hù)抗敏濾網(wǎng)，有抗敏及破壞通過濾的流感病毒表面白。12.當(dāng)位于凈化腔11l內(nèi)的導(dǎo)流單元3受驅(qū)時(shí)，使本體1外的氣體進(jìn)氣端13進(jìn)入本體1部的第一層過濾路l1的凈化腔室11l，凈化腔室11l內(nèi)的過濾單元4對(duì)于進(jìn)入化腔室11l的空氣進(jìn)行過濾及化，通過導(dǎo)流單3的作動(dòng)，使凈化氣體入?yún)R流腔室12l，位于凈腔室11l內(nèi)的氣體傳感器5對(duì)凈化氣體進(jìn)行一檢氣體品質(zhì)作業(yè)，斷凈化氣體的氣品質(zhì)是否到達(dá)一呼閾值，以呼吸閾值判斷標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)以控制循環(huán)通道13l的入口閥15l的開與否。當(dāng)凈化氣的氣體品質(zhì)未達(dá)呼吸閾值，則開循環(huán)通道13l的入口閥15l，使氣體得以回到第一層過濾路l1中進(jìn)行循環(huán)過濾凈化再檢測當(dāng)凈化氣體達(dá)到呼吸值時(shí)，即可由出端12排出。本實(shí)施例的吸閾值可為但不限為一有害氣體度或一懸浮微粒度。13.請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1，過濾通路可包第一層過濾通路l1及一第二層過通路l2，第一層過通路l1及第二層過濾通路l2以半導(dǎo)制程相互架構(gòu)疊形成。第二層過濾路l2的凈化腔室21l的導(dǎo)單元3鄰近于進(jìn)氣端13的一側(cè)而置，過濾單元4及氣體傳感器5依序設(shè)置導(dǎo)流單元3下方，出口閥14l設(shè)置于體傳感器5下方且鄰近于該出氣端12設(shè)，其中導(dǎo)流單元驅(qū)動(dòng)致動(dòng)導(dǎo)送氣進(jìn)入凈化腔室21l中，由過濾單元進(jìn)行過濾及凈，凈化氣體經(jīng)由體傳感器5進(jìn)行檢測出氣體品質(zhì)，判斷凈氣體的氣體品質(zhì)否達(dá)到呼吸閾值再經(jīng)出口閥24l排出至第二層過濾通路l2的流腔室22l中。第二層過濾通路l2的化腔室21l的氣體傳感器5檢凈化氣體未達(dá)到吸閾值時(shí)，則開啟環(huán)通道23l的入口閥25l，使氣體以再回到第二層過通路l2中進(jìn)行循環(huán)過濾凈化再檢；當(dāng)凈化氣體達(dá)到呼閾值時(shí)，即可由氣端12排出閾值。14.當(dāng)?shù)谝粚舆^濾路l1的凈化腔室11l的氣傳感器5所檢測凈化氣未達(dá)到呼吸閾值時(shí)，中第一層過濾通l1的氣體傳感器5所在凈化腔11l的出口閥14l予以關(guān)閉不開啟連通，讓達(dá)到呼吸閾值的凈氣體不導(dǎo)入?yún)R流室12l，而第二過濾通路l2的所有凈化腔21l的出口閥24l關(guān)閉，時(shí)第一層過濾通路l1的循通道13l的入口閥15l予以開啟，使第一層過濾路l1的凈化氣體以再回到第一層濾通路l1中進(jìn)行循環(huán)過濾凈化再測。第一層過濾通路l1的匯腔室12l的凈化氣體得以進(jìn)入二層過濾通路l2的所有凈化腔室21l的濾單元4進(jìn)行二次過濾凈化，第二層過濾通路l2的所有凈化腔室21l的氣傳感器5再檢測判斷二次過濾化的凈化氣體是達(dá)到呼吸閾值，決定凈氣體是否再導(dǎo)出出氣端12排出，提供干凈過濾凈化氣體。15.請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1，過濾通路可進(jìn)步包含一最后一過濾通路l3，最后一層過濾通路l3架于第二層過濾通l2底部連通，第二層過濾路l2的凈化腔室21l的氣體傳感5所檢測凈化氣體未達(dá)到呼吸值時(shí)，第二層過通路l2的氣體傳感器5所凈化腔室21l的出口閥24l予以關(guān)閉不開啟連通，讓達(dá)到該呼吸閾值氣體不導(dǎo)入?yún)R流室22l；其中最后一層過通路l3的凈化腔室31l的氣體傳器5所檢測凈化氣體未達(dá)到呼閾值時(shí)，最后一過濾通路l3的所有凈腔室31l的出口閥34l關(guān)閉，時(shí)第二層過濾通l2的匯流腔室22l的入口閥25l予以開啟，促使第二層過濾路l2的凈化氣體得以回到第二層過濾通l2中進(jìn)行循環(huán)過濾凈化再檢，而第二層過濾路l2的匯流腔室22l的凈化體并得以進(jìn)入最一層過濾通路l3的所有凈化腔室31l的過濾單元4進(jìn)行二過濾凈化，而最一層過濾通路l3的所有凈化腔室31l的氣體傳感器5再檢判斷二次過濾凈的凈化氣體是否達(dá)呼吸閾值，決定化氣體是否再導(dǎo)由出氣端12排出，提供干凈濾的該凈化氣體。16.請(qǐng)參閱圖1及7所示，過濾凈化裝置10的本體為一軟性可撓性防過敏材料制成，可塞入使用者的一孔中密封；此外兩過濾凈化裝置10可通過一連接件20接，使兩過濾凈裝置10分別塞入使用者的兩鼻孔。17.請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1，過濾凈化裝置10具有一動(dòng)芯片7及電池8，分以半導(dǎo)體制程封裝于第層過濾通路l1上。電池8提供驅(qū)動(dòng)片7的操作電源且驅(qū)動(dòng)芯片7控制導(dǎo)流元3、氣體傳感器5、出口14l、24l、34l及入口15l、25l、35l的動(dòng)操作；其中，驅(qū)芯片7更包含有一微處理器(未圖示)及一通訊器(未圖)，該微處理器控制導(dǎo)流單3、氣體傳感器5、入閥15l、25l、35l及出口閥14l、24l、34l的動(dòng)操作，并能接氣體傳感器5所檢測的氣體品數(shù)據(jù)做運(yùn)算處理并將氣體品質(zhì)數(shù)傳輸給通信器對(duì)外輸給一外部裝置，外部裝置予以接并發(fā)出警示通知顯示；此外，本體的出氣端12可接貼附一防水透氣9，阻擋水氣通過。18.氣體傳感器可為一揮發(fā)性機(jī)物傳感器，提檢測甲醛、氨氣一氧化碳、二氧化碳、氣、臭氧的檢測或氣體傳感器5為一病毒傳感器提供病毒的檢測；或氣傳感器5為一氣體微粒傳器，提供包含pm10、pm2.5或pm1的檢測。19.如圖2a至2c所示，導(dǎo)流單元3可為微機(jī)電鼓風(fēng)型泵3a，包含一出氣基座31a、一一氧化層32a、一噴氣共振層33a、一第二氧化層34a，一共振腔層35a及一第壓電組件36a，皆以半導(dǎo)體程制出。本實(shí)施例導(dǎo)體制程包含蝕刻制程沉積制程。蝕刻程可為一濕式蝕制程、一干式蝕刻程或兩者的組合，不以此為限。沉制程可為一物理相沉積制程(pvd)、一化學(xué)氣相沉積制(cvd)或兩者的組合。以下明就不再予以贅述20.上述的出氣基31a，以一硅基材蝕刻制程制一出氣腔室311a及一壓縮腔室312a，且氣腔室311a及壓縮腔室312a之間刻制出一貫穿孔313a；上述的第一氧化層32a以積制程生成疊于出氣基座31a上，并應(yīng)壓縮腔室312a部分予以刻去除；上述的氣共振層33a以一硅基材沉積制程生疊加于第一氧化層32a并對(duì)應(yīng)壓縮腔室312a部分刻去除形成多個(gè)氣孔洞331a，以及在應(yīng)壓縮腔室312a中心部分刻去除形成一噴氣332a，促使進(jìn)氣孔洞331a噴氣孔332a之間形成可位振動(dòng)的懸浮區(qū)段333a；上的第二氧化層34a以沉制程生成疊加于氣共振層33a的懸浮區(qū)段333a上，并部分蝕刻去除形成共振腔區(qū)段341a，并與噴孔332a連通；上述的振腔層35a以一硅基材刻制程制出一共振351a，并對(duì)應(yīng)接合疊加于第二氧層34a上，促使共腔351a對(duì)應(yīng)到第二氧化層34a的振腔區(qū)段341a；上述的第一壓電組件36a以積制程生成疊加共振腔層35a上，包含有一第一電極層361a、一第壓電層362a、一第一絕緣層363a一第一上電極層364a，其中第一下電極層361a以沉制程生成疊加于共腔層35a上，再以第一電層362a以沉積制生成疊加于第一電極層361a的部分表面上，而第絕緣層363a以沉積制生成疊加于第一電層362a的部分表面，而第一上極層364a以沉積制生成疊加于第一緣層363a的表面上及第一壓電層362a未設(shè)有第一絕緣層363a的面上，用以與第壓電層362a電性連接21.由上述說明可微機(jī)電鼓風(fēng)型泵3a的結(jié)構(gòu)而其實(shí)施導(dǎo)氣輸出作，如圖2b至圖2c所示通過驅(qū)動(dòng)第一壓電件36a帶動(dòng)噴氣共振層33a產(chǎn)生共振促使噴氣共振層33a的浮區(qū)段333a產(chǎn)往復(fù)式地振動(dòng)位，得以吸引氣通過多個(gè)進(jìn)氣孔洞331a進(jìn)入縮腔室312a，通過噴氣孔332a再導(dǎo)入共腔351a，通過控共振腔351a中氣體的振動(dòng)率，使其與懸浮區(qū)333a的振動(dòng)頻率趨近于相同可使共振腔351a與懸浮區(qū)段333a產(chǎn)生亥姆霍茲共振應(yīng)(helmholtzresonance)，由共振腔351a排出集氣體導(dǎo)入壓縮腔312a，并經(jīng)過貫穿孔313a而出氣腔室311a成高壓排出，實(shí)氣體高壓傳輸，能提高氣體傳輸率。22.又如圖3a圖3b到圖3c，導(dǎo)流單元3可為一微機(jī)電泵3b，該包一進(jìn)氣基座31b、一三氧化層32b、一共振層33b、一四氧化層34b、振動(dòng)層35b及一第二壓組件36b，皆以半導(dǎo)體制程制。本實(shí)施例半導(dǎo)制程包含蝕刻制程及沉積制。蝕刻制程可為濕式蝕刻制程、干式蝕刻制程或兩的組合，但不以此限。沉積制程可一物理氣相沉積程(pvd)、一化學(xué)氣相沉積制程(cvd)或兩的組合。以下說就不再予以贅述。23.上述的進(jìn)氣基31b以一硅基材蝕刻制程出至少一進(jìn)氣孔311b；上述的第三氧化層32b以積制程生成疊加進(jìn)氣基座31b上，并以蝕刻制程出多個(gè)匯流通道321b以及匯流室322b，多個(gè)匯流通321b連通匯流室322b及進(jìn)氣基座31b的進(jìn)孔311b之間；上述的共振層33b以一基材沉積制程生疊加于第三氧化層32b上，并以蝕刻制程制出一中心穿331b、一振動(dòng)區(qū)段332b一固定區(qū)段333b，其中心穿孔331b形成位于振層33b的中心，振動(dòng)區(qū)段332b成位于中心穿孔331b的周邊區(qū)域，固定區(qū)333b形成位于共振層33b的周緣區(qū)；上述的第四氧層34b以沉積制程成疊加于共振層33b上，部分蝕刻去除形一壓縮腔區(qū)段341b；上述的動(dòng)層35b以一硅基材沉積程生成疊加于第氧化層34b，并以蝕刻制程制出致動(dòng)區(qū)段351b、一外緣區(qū)352b以及多個(gè)氣孔353b其中致動(dòng)區(qū)段351b成位于中心部分外緣區(qū)段352b形成環(huán)繞于致動(dòng)區(qū)351b的外圍，多個(gè)氣孔353b分別成于致動(dòng)區(qū)段351b與緣區(qū)段352b之，又振動(dòng)層35b與第四氧化34b的壓縮腔區(qū)段341b定義出一縮腔室；以及上的第二壓電組件36b以積制程生成疊加振動(dòng)層35b的致動(dòng)區(qū)段351b上，包含一第二下電極層361b、第二壓電層362b、一第二絕緣363b及一第二上電極層364b，其中二下電極層361b以沉積制生成疊加于振動(dòng)35b的致動(dòng)區(qū)段351b上，第壓電層362b以沉積制程生疊加于第二下電層361b的部分表面上，第二絕層363b以沉積制程生成疊加第二壓電層362b的部表面，而第二上電層364b以沉積制程生成疊加第二絕緣層363b的表上及第二壓電層362b未設(shè)第二絕緣層363b的表面上用以與第二壓電362b電性連接。24.由上述說明可微機(jī)電泵3b的結(jié)構(gòu)，而其施導(dǎo)氣輸出操作，圖3b至圖3c所示，通過動(dòng)第二壓電組件36b帶動(dòng)振層35b及共振層33b產(chǎn)生振位移，導(dǎo)入氣體由氣孔311b進(jìn)入，經(jīng)匯流通道321b匯集至匯流室322b中，通過共振層33b的中穿孔331b，再由振動(dòng)層35b的多氣孔353b排出，實(shí)該氣體的大流量輸流動(dòng)。25.請(qǐng)繼續(xù)參閱圖4a及圖4b所示，入口閥15l、25l35l及出口閥14l、24l、34l可為單元6包含一閥導(dǎo)電層61一閥基層62以及一柔膜63可為但不限為石墨烯料所制成，以形微型化的結(jié)構(gòu)。中閥導(dǎo)電層61為通電荷的壓電材料，通微處理器電性連，來控制閥導(dǎo)電61產(chǎn)生形變，又閥導(dǎo)電層61與閥基層62間保持一段容置間64，而閥導(dǎo)電層61未接收驅(qū)動(dòng)信時(shí)不受形變而持在容置空間64內(nèi)與閥基62形成間距，以及柔膜63為一可撓性材料所制，貼附于閥導(dǎo)電61的一側(cè)面而置于容置間64內(nèi)，又閥導(dǎo)電層61、閥層62、柔性膜63上分別形多個(gè)通孔61a、62a、63a，而導(dǎo)電層61的多通孔61a與柔性膜63的多通孔63a相互對(duì)準(zhǔn)，閥層62的多個(gè)通孔62a與閥電層61的多個(gè)通孔61a相互錯(cuò)位對(duì)準(zhǔn)。當(dāng)閥導(dǎo)電61未形變時(shí)，閥導(dǎo)層61保持在容置空間64內(nèi)與閥層62形成間距且閥基層62的多個(gè)通孔62a閥導(dǎo)電層61的多個(gè)通孔61a相互位不對(duì)準(zhǔn)，構(gòu)成閥元6的開啟，此時(shí)體可由閥基層62的多個(gè)通62a進(jìn)入容置空間64內(nèi)，而閥導(dǎo)電層61的個(gè)通孔61a與柔性膜63的個(gè)通孔63a相互對(duì)準(zhǔn)，經(jīng)過柔性膜63的多個(gè)孔63a與閥導(dǎo)電層61的多通孔61a流通。26.如請(qǐng)參閱圖4b所，當(dāng)閥導(dǎo)電層61形變時(shí)，導(dǎo)電層61朝閥基層62靠近貼合，進(jìn)而使柔膜63的多個(gè)通孔63a與閥基62的多個(gè)通孔62a不對(duì)位，讓柔性膜63封閥基層62的多個(gè)通孔62a以構(gòu)成閥單元6的關(guān)閉停止氣體通過。27.請(qǐng)參考圖4c及圖4d，閥單元6的另一施方式，本實(shí)施式與前一閥單元6差異在于通孔量，閥導(dǎo)電層61及柔性膜63的孔61a、63a的數(shù)量兩個(gè)，閥基層62通孔62a數(shù)量為一個(gè)，其余材與作動(dòng)方式皆相，不再加以贅述。28.請(qǐng)參閱圖5一種過濾凈化處理法，包含以下步：1.提供一過濾凈化裝置；2.實(shí)施導(dǎo)流引氣、過及檢測；3.檢測及判斷該化氣體；4.循環(huán)過濾及測該凈化氣體；5.多過濾凈化導(dǎo)出該化氣體。29.請(qǐng)同時(shí)參閱圖1、圖5及圖6，于步驟s1中，該過濾化裝置10包含第一層過濾通路l1第二層過濾通路l2及最后層過濾通路l3，且第一過濾通路l1、第二層濾通路l2及最后一層過濾路l3相互堆疊架構(gòu)形成，一層過濾通路l1、二層過濾通路l2及最后一過濾通路l3分別包含多個(gè)化腔室11l、21l、31l聯(lián)設(shè)置且底部連匯流腔室12l、22l、32l及一側(cè)置循環(huán)通道13l、23l、33l連通匯流腔室12l22l、32l所架構(gòu)而成凈化腔室11l、21l、31l包有至少一個(gè)導(dǎo)流單3、至少一個(gè)過濾單元4、至少一氣體傳感器5及一出閥14l、24l、34l，以及循通道13l、23l、33l具有入口閥15l、25l35l，出口閥14l、24l、34l控制化腔室11l、21l、31l與匯流腔室12l、22l32l的連通或封閉，入口閥15l、25l35l控制匯流腔12l、22l、32l與環(huán)通道13l、23l、33l的通或封閉。30.步驟s2中第一層過濾通路l1、第二過濾通路l2、最后一層濾通路l3的每個(gè)凈化室11l、21l、31l的出口閥14l、24l34l予以開啟，使每個(gè)導(dǎo)流單元3驅(qū)動(dòng)動(dòng)將裝置外氣體入每個(gè)凈化腔室11l、21l、31l中，而過濾單元4對(duì)導(dǎo)入體進(jìn)行過濾形成化氣體，凈化氣體入該匯流腔室12l、22l、32l。31.步驟s3中第一層過濾通路l1、第二過濾通路l2、最后一層濾通路l3的每個(gè)凈化室11l、21l、31l的氣體傳器5對(duì)凈化氣體進(jìn)行檢測體品質(zhì)，判斷凈化氣的氣體品質(zhì)是否到呼吸閾值。32.步驟s4中第一層過濾通路l1、第二過濾通路l2、最后一層濾通路l3的凈化氣體達(dá)到呼吸閾值時(shí)以進(jìn)行再循環(huán)過及檢測，其中第一過濾通路l1、第二過濾通路l2、最后一層過濾通l3的氣體傳感器5的所在凈化腔室11l、21l、31l的出口閥14l、24l、控制關(guān)閉，且一層過濾通路的每個(gè)凈化腔11l、21l、31l的出口閥14l、、34l予以關(guān)閉同時(shí)上一層過濾通路的循通道14l、24l、34l的入閥15l、25l、35l予以啟，促使上一層過濾通的凈化氣體得以回到上一層過濾路中進(jìn)行循環(huán)過濾化再檢測。33.步驟s5中上一層過濾通路匯流腔室12l、22l的凈化氣體進(jìn)下一層過濾通路的每個(gè)匯腔室22l、32l的過濾單元4予以進(jìn)二次過濾凈化，下一層過濾通路的凈氣體達(dá)到呼吸閾時(shí)，下一層過濾路的出口閥14l、24l予以開啟，再導(dǎo)入后一層過濾通路，凈化氣體導(dǎo)入后一層過濾通路中施多次過濾凈化排提供呼吸。34.綜上所述，本所提供的過濾凈處理方法，通過過凈化裝置實(shí)施，導(dǎo)流單元將氣體導(dǎo)過濾凈化裝置內(nèi)供凈化裝置內(nèi)的濾單元過濾氣體，由氣體傳感器檢測化后的空氣品質(zhì)當(dāng)凈化后的空氣質(zhì)未達(dá)呼吸閾值，再次過濾，直到凈后的空氣品質(zhì)符呼吸閾值，才將體導(dǎo)出，通過此方得以取得凈化后的體，極具產(chǎn)業(yè)利性及進(jìn)步性。技特：1.一種過濾凈處理方法，包括驟：1)提供一過濾凈化裝，其中該過濾凈化裝置包含多層濾通路，且每層過濾通路相互堆架構(gòu)形成，該過濾路包含多個(gè)凈化腔、一匯流腔室及循環(huán)通道，該多凈化腔室并聯(lián)設(shè)置底部連通該匯流腔，該循環(huán)通道連該匯流腔室，每該凈化腔室包含至一導(dǎo)流單元、至少過濾單元、至少氣體傳感器及一口閥，該循環(huán)通道有一入口閥，該入閥設(shè)置于該匯流室及該循環(huán)通道間，該出口閥設(shè)置該凈化腔室及該匯腔室之間，該出閥控制該凈化腔與該匯流腔室的連或封閉，該入口閥制該匯流腔室與循環(huán)通道的連通封閉；2)實(shí)施導(dǎo)流引氣、過濾及檢測其中每層該過濾路的每一該凈化室的該出口閥予以啟，并使每一該流單元受驅(qū)動(dòng)而該過濾凈化裝置的一氣體導(dǎo)入每一凈化腔室中，而該濾單元對(duì)導(dǎo)入該體進(jìn)行過濾形成凈化氣體，該凈化體導(dǎo)入該匯流腔室；檢測及判斷該凈化氣體，一該過濾通路的每該凈化腔室的該氣體傳感對(duì)該凈化氣體進(jìn)一檢測氣體品質(zhì)業(yè)，判斷該凈化氣的氣體品質(zhì)是否達(dá)一呼吸閾值；4)循環(huán)過濾檢測該凈化氣體每層該過濾通路的該凈化氣體達(dá)到該呼吸閾值，予以進(jìn)行再循過濾及檢測，其中每層該過濾通路的該體傳感器的所在凈化腔室的該出閥控制關(guān)閉，且下層該過濾通路的每該凈化腔室的該口閥關(guān)閉，同時(shí)一層該過濾通路的循環(huán)通道的該入口予以開啟，促使一層該過濾通路該凈化氣體得以再到上一層該過濾通中進(jìn)行循環(huán)過濾化再檢測；以及5)多次過濾凈化導(dǎo)該凈化氣體，上一層過濾通路的該匯腔室的該凈化氣進(jìn)入下一層該過濾路的每個(gè)該凈化腔的該過濾單元予進(jìn)行二次過濾凈，且下一層該過濾路的該凈化氣體達(dá)該呼吸閾值時(shí)，一層該過濾通路該出口閥予以開啟再導(dǎo)入最后一層過通路中，該凈化體導(dǎo)入最后一層過濾通路中實(shí)施多過濾凈化排出。2.如權(quán)要求1所述的過濾凈化處理方，其特征在于，過濾凈化裝置包含一體，具有一進(jìn)氣及一出氣端，多該過濾通路設(shè)置于本體中。3.如權(quán)要求2所述的過濾凈化處方法，其特征在，該本體為一軟性可撓性且防過材料制成。4.如權(quán)利要求2所述過濾凈化處理方，其特征在于，多層該濾通路以半導(dǎo)體程相互架構(gòu)疊置成，而該過濾通路每個(gè)該凈化腔室的導(dǎo)流單元鄰近于進(jìn)氣端設(shè)置，且過濾單元及該氣體感器依序設(shè)置于該流單元下方，該口閥設(shè)置于該氣傳感器之下封閉該凈化腔室，其中該導(dǎo)單元驅(qū)動(dòng)導(dǎo)送該體進(jìn)入該凈化腔中，由該過濾單元行過濾形成該凈化體，該凈化氣體經(jīng)由該氣體傳感進(jìn)行檢測出氣體品，判斷該凈化氣體氣體品質(zhì)是否達(dá)該呼吸閾值，該化氣體再經(jīng)該出口排出導(dǎo)入該匯流腔。5.如權(quán)利要求1所述的濾凈化處理方法其特征在于，該過濾凈化裝置含一驅(qū)動(dòng)芯片及電池，該電池提該驅(qū)動(dòng)芯片的操作源，且該驅(qū)動(dòng)芯控制該導(dǎo)流單元該氣體傳感器、入口閥及該出口閥驅(qū)動(dòng)操作。6.如利要求5所述的過濾凈化理方法，其特征于，該驅(qū)動(dòng)芯片包含有一微處理及一通信器，該處理器控制該導(dǎo)單元、該氣體傳感、該入口閥及該出閥的驅(qū)動(dòng)操作，能接收該氣體傳器所檢測該凈化氣的氣體品質(zhì)數(shù)據(jù)做算處理，并將該體品質(zhì)數(shù)據(jù)傳輸給該信器對(duì)外傳輸給外部裝置，該外裝置予以接收并發(fā)警示通知及顯示紀(jì)。7.如權(quán)利要求1所述的濾凈化處理方法其特征在于，該導(dǎo)流單元為一機(jī)電鼓風(fēng)型泵，微機(jī)電鼓風(fēng)型泵含：一出氣基座，一硅基材蝕刻制程出一貫穿孔及一縮腔室，該貫穿連通該壓縮腔室；第一氧化層，以沉制程生成疊加于出氣基座上，并應(yīng)該壓縮腔室部分以蝕刻去除；一噴共振層，以一硅材沉積制程生成加于該第一氧化層并對(duì)應(yīng)該壓縮腔室分蝕刻去除形成個(gè)進(jìn)氣孔洞，以對(duì)應(yīng)該壓縮腔室中部分蝕刻去除形成噴氣孔，促使該氣孔洞與該噴氣之間形成可位移振的一懸浮區(qū)段；一二氧化層，以沉制程生成疊加于噴氣共振層的該懸區(qū)段上，并部分蝕去除形成一共振區(qū)段，并與該噴氣孔連通一共振腔層，以一硅基材蝕刻程制出一共振腔并對(duì)應(yīng)接合疊加該第二氧化層上，使該共振腔對(duì)應(yīng)到第二氧化層的該振腔區(qū)段；一第壓電組件，以沉積程生成疊加于該共腔層上，包含有第一下電極層、第一壓電層、一第絕緣層及一第一上極層，其中該第下電極層以沉積程生成疊加于該共腔層上，該第一壓層以沉積制程生疊加于該第一下極層的部分表面上該第一絕緣層以沉制程生成疊加于第一壓電層的部表面，該第一上電層以沉積制程生成加于該第一絕緣的表面上及該第壓電層未設(shè)有該第絕緣層的表面上用以與該第一壓層電性連接；其中通過驅(qū)動(dòng)該第一電組件帶動(dòng)該噴氣共層產(chǎn)生共振，促該噴氣共振層的懸浮區(qū)段產(chǎn)生往復(fù)地振動(dòng)位移，以吸該氣體通過該多進(jìn)氣孔洞進(jìn)入該縮腔室，并通過該氣孔再導(dǎo)入該共振，再由該共振腔出集中該氣體導(dǎo)該壓縮腔室，并經(jīng)該貫穿孔形成高壓出，實(shí)現(xiàn)該氣體傳輸流動(dòng)。8.如權(quán)利要求1所述過濾凈化處理方法，其征在于，該導(dǎo)流元為一微機(jī)電泵該微機(jī)電泵包含：進(jìn)氣基座，以一硅材蝕刻制程制出少一進(jìn)氣孔；一三氧化層，以沉積程生成疊加于該進(jìn)基座上，并以蝕制程制出多個(gè)匯通道以及一匯流槽多個(gè)該匯流通道連該匯流槽及該進(jìn)基座的該進(jìn)氣孔間；一共振層，以硅基材沉積制程生疊加于該第三氧層上，并以蝕刻程制出一中心穿孔一振動(dòng)區(qū)段及一固區(qū)段，其中該中穿孔形成位于該振層的中心，該振區(qū)段形成位于該中穿孔的周邊區(qū)域該固定區(qū)段形成于該共振層的周緣域；一第四氧化，以沉積制程生成疊加于共振層上，并部蝕刻去除形成一壓縮腔區(qū)段；振動(dòng)層，以一硅材沉積制程生成加于該第四氧化層并以蝕刻制程制出致動(dòng)區(qū)段、一外區(qū)段以及多個(gè)氣，其中該致