掃描電子顯微鏡SEM

目錄CONTENTS簡(jiǎn)介工作原理主要參數(shù)設(shè)備認(rèn)知試驗(yàn)應(yīng)用簡(jiǎn)介01簡(jiǎn)介1、無損檢測(cè)法：孔隙材料的檢測(cè)技術(shù)涉及超聲波、聲發(fā)射、紅外熱成像、微波等2、X射線層析成像法：X-CT法3、中子射線法4、掃描電鏡法5、光學(xué)顯微鏡法引言：裂紋形貌觀察手段01簡(jiǎn)介掃描電鏡scanningelectronmicroscope，(SEM)是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段，可直接利用樣品表面材料的物質(zhì)性能進(jìn)行微觀成像。1、有較高的放大倍數(shù)，20-202300倍之間連續(xù)可調(diào)；2、有很大的景深，視野大，成像富有立體感，可直接觀察多種試樣凹凸不平表面的細(xì)微構(gòu)造；3、試樣制備簡(jiǎn)樸，目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置，這么能夠同步進(jìn)行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成份分析（即SEM-EDS），所以它是當(dāng)今十分主要的科學(xué)研究?jī)x器之一01掃描電子顯微鏡工作原理02不同于透射電鏡，它不用透鏡來進(jìn)行放大成像，而是象此前的電視一樣，用電子槍發(fā)射聚焦得非常細(xì)的高能電子束出去，逐點(diǎn)逐行掃描，根據(jù)電子與物質(zhì)的相互作用，激發(fā)出多種物理信息。經(jīng)過對(duì)這些信息的接受、放大和顯示成像，取得測(cè)試試樣表面形貌的觀察成像原理工作原理02當(dāng)一束極細(xì)的高能入射電子轟擊掃描樣品表面時(shí)，被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生多種物理信號(hào)：1、二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子；2、在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射；3、同步可產(chǎn)生電子-空穴對(duì)、晶格振動(dòng)（聲子)、電子振蕩（等離子體）多種物理信息工作原理02主要參數(shù)03景深（場(chǎng)深）21放大倍數(shù)3工作距離照片面積除以掃描面積從十倍到幾十萬倍連續(xù)可調(diào)比光學(xué)顯微鏡大100~500倍比透射電鏡的大10倍圖像的立體感強(qiáng)，形態(tài)逼真物鏡到樣品最高點(diǎn)增長(zhǎng)工作距離，場(chǎng)深更大降低工作距離，辨別率高主要基本參數(shù)主要參數(shù)03設(shè)備認(rèn)知04主要配置及特點(diǎn)1.超高的辨別率：15KV辨別率可達(dá)1nm；2.優(yōu)異的減速模式成像能力，1KV辨別率可達(dá)1.3nm；3.日立專利的ExB設(shè)計(jì)，不需噴鍍，能夠直接觀察不導(dǎo)電樣品；4.Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像，增長(zhǎng)細(xì)節(jié)觀察能力；5.能夠根據(jù)樣品類型和觀察要求選擇打開或關(guān)閉減速功能，既確保辨別率又降低荷電；6.標(biāo)配有冷指、電子槍內(nèi)置加熱器，物鏡光闌具有自清潔功能，能長(zhǎng)時(shí)間保持最佳工作狀態(tài)；7.儀器的烘烤維護(hù)及烘烤后的透鏡機(jī)械對(duì)中均可由顧客自行完畢，節(jié)省維護(hù)時(shí)間。日立HitachiSU8010300~400萬中科院微生物研究所（2023）中國(guó)地質(zhì)大學(xué)（武漢）材料與化學(xué)學(xué)院設(shè)備認(rèn)知04美國(guó)FEI一家在美國(guó)納斯達(dá)克上市的高科技企業(yè)，秉承原飛利浦電子光學(xué)在電子光學(xué)領(lǐng)域的優(yōu)異老式和技術(shù)，結(jié)合FEI先進(jìn)的聚焦離子束（FIB）技術(shù)，將微觀分析帶入三維新世界！企業(yè)在北美和歐洲擁有研究開發(fā)中心，在全球四十多種國(guó)家經(jīng)營(yíng)銷售和提供維修服務(wù)，，有出眾的透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、聚焦離子束和“雙束”（電子束+離子束）設(shè)備等產(chǎn)品。設(shè)備認(rèn)知04主要配置及特點(diǎn)1、GeminiSEM500為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息，尤其在低的加速電壓下，在防止樣品損傷的同步迅速地獲取更高清楚度的圖像。2、經(jīng)優(yōu)化和增強(qiáng)的Inlens探測(cè)器可高效地采集信號(hào)，助您迅速地獲取清楚的圖像，并使樣品損傷降至更低；3、在低電壓下?lián)碛懈叩男旁氡群透叩囊r度，二次電子圖像辨別率1kV達(dá)0.9nm，500V達(dá)1.0nm，無需樣品臺(tái)減速即可進(jìn)行高質(zhì)量的低電壓成像，為您呈現(xiàn)任意樣品在納米尺度上更豐富的細(xì)節(jié)信息；4、應(yīng)用樣品臺(tái)減速技術(shù)-（Tandemdecel），可在1kV下取得高達(dá)0.8nm二次電子圖像辨別率；5、創(chuàng)新設(shè)計(jì)的可變壓力模式-NanoVP技術(shù)，讓您擁有身處于高真空模式下工作的感覺?？枴げ趟綠eminiSEM500300~400萬合肥工業(yè)大學(xué)分析測(cè)試中心設(shè)備認(rèn)知04試驗(yàn)應(yīng)用05試驗(yàn)應(yīng)用掃描電鏡樣品能夠是塊狀、薄膜或者粉末顆粒，因?yàn)槭窃谡婵罩兄苯佑^察，掃描電鏡對(duì)各類樣品都有要求。1、要求樣品保持其構(gòu)造和形貌的穩(wěn)定性，不因取樣而變化；2、要求樣品表面導(dǎo)電，假如樣品表面不導(dǎo)電，將在樣品表面產(chǎn)生電荷的積累和放電，使得圖像不清楚，造成無法觀察和抓拍圖片；3、要求樣品大小要適合于儀器的尺寸05樣品要求定位取樣清洗處理環(huán)節(jié)01從大的樣品上擬定取樣部位環(huán)節(jié)02根據(jù)需要，擬定采用切割還是自由斷裂得到表界面環(huán)節(jié)04包埋打磨、刻蝕、噴金處理試驗(yàn)應(yīng)用05金屬涂層法對(duì)象是導(dǎo)電性較差的樣品，如高聚物材料，在進(jìn)行掃描電子顯微鏡觀察之前必須使樣品表面蒸發(fā)一層導(dǎo)電體，目的在于消除荷電現(xiàn)象，提升樣品表面二次電子的激發(fā)量，并減小樣品的輻照損傷。離子刻蝕、化學(xué)刻蝕法對(duì)象是涉及結(jié)晶相和非結(jié)晶相兩個(gè)構(gòu)成部分的樣品。暴露出晶區(qū)的細(xì)微構(gòu)造樣品制備試驗(yàn)應(yīng)用05選用取樣部位表面盡量平整且尺寸應(yīng)盡量小清洗斷口斷口樣品存在污染物時(shí)，應(yīng)用無水己醇或者丙麗進(jìn)行清洗潔凈噴金處理樣品屬于不導(dǎo)電材料，故將樣品