Si基ZnO材料MOCVD生長及物性研究的開題報(bào)告_第1頁
Si基ZnO材料MOCVD生長及物性研究的開題報(bào)告_第2頁
Si基ZnO材料MOCVD生長及物性研究的開題報(bào)告_第3頁
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文檔簡介

Si基ZnO材料MOCVD生長及物性研究的開題報(bào)告1.研究背景隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展,Si基ZnO材料因其在光電、光催化等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用而備受關(guān)注。MOCVD生長技術(shù)是制備Si基ZnO材料的常用方法之一。本課題旨在探究Si基ZnO材料的MOCVD生長機(jī)制及其物性研究。2.研究內(nèi)容與目標(biāo)本文主要研究Si基ZnO材料的MOCVD生長機(jī)制和物性研究,具體包括以下內(nèi)容:(1)研究Si基ZnO材料的MOCVD生長機(jī)理,探究氣相前驅(qū)體的反應(yīng)機(jī)制和生長條件對(duì)Si基ZnO材料的生長質(zhì)量的影響。(2)通過X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)等各種實(shí)驗(yàn)手段,對(duì)生長的Si基ZnO薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、形貌、晶格等進(jìn)行分析。(3)分析Si基ZnO材料的光電性質(zhì),包括光增強(qiáng)、光電壓和光譜響應(yīng)等,并探究其機(jī)理。(4)探究Si基ZnO材料在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值,分析其優(yōu)勢(shì)和不足,并提出改善策略和方案。研究目標(biāo)是:深入理解Si基ZnO材料的MOCVD生長機(jī)制和物性研究,為其在光電、光催化等領(lǐng)域的應(yīng)用提供理論指導(dǎo)和實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)。3.研究方法與步驟(1)設(shè)計(jì)合適的實(shí)驗(yàn),利用MOCVD技術(shù)制備Si基ZnO材料,并優(yōu)化生長條件,確定最佳的氣相前驅(qū)體和生長參數(shù)。(2)利用XRD、SEM等實(shí)驗(yàn)手段,對(duì)生長的Si基ZnO薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、形貌、晶格等進(jìn)行分析,探究生長機(jī)理。(3)通過光強(qiáng)度測(cè)量、光電流測(cè)量、光電壓測(cè)量等手段,分析Si基ZnO材料的光電性質(zhì),確定其機(jī)理。(4)設(shè)計(jì)和構(gòu)建光催化實(shí)驗(yàn)裝置,分析Si基ZnO材料在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值,研究其光催化機(jī)理和優(yōu)化策略。4.預(yù)期結(jié)果通過對(duì)Si基ZnO材料的MOCVD生長機(jī)制和物性研究,預(yù)計(jì)能夠獲得以下結(jié)果:(1)確定最佳的氣相前驅(qū)體和生長參數(shù),實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的Si基ZnO薄膜的生長。(2)通過XRD、SEM等實(shí)驗(yàn)手段,揭示Si基ZnO薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、形貌、晶格等特性,進(jìn)而探究材料的生長機(jī)制。(3)分析Si基ZnO材料的光電性質(zhì),研究其機(jī)理,為光電應(yīng)用提供理論支持。(4)探究Si基ZnO材料在光催化領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值和機(jī)理,并提出改善策略和方案。5.參考文獻(xiàn)[1]GaoP,SongY,SunY,etal.Silicagel-supportedZnOnanoparticlesforphotocatalyticdegradationofRhodamineB[J].JournalofColloidandInterfaceScience,2009,329(2):501-507.[2]HuangJ,QinC,ZhangJ,etal.GrowthandpropertiesofSi-dopedZnOthinfilmspreparedbyplasma-enhancedatomiclayerdeposition[J].JournalofAlloysandCompounds,2017,695:1959-1966.[3]KimJH,ParkHC,ChoiSH,etal.Opticalpropertiesofa-IGZO/ZnObi-layerthinfilmsdepositedbyRF-magnetronsputtering[J].CurrentAppliedPhysics,2017,17(5):658-662.[4]WeiL,ZhuX,LiuY,etal.SynthesisofMoS2/graphene/ZnOhybridsforenhancedphotocatalyticdegradationofRhBundervisible-lightirradiation[J].ChemicalEngineeringJournal,2015,281:70-78.[5]WangH,XuJ,SongS,etal.Novelorganic–inorganiczincoxideultrafiltrationmembranewithenhancedphotocatalyt

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