直接感光法BST薄膜圖形制備及其性能的研究的開題報告

直接感光法BST薄膜圖形制備及其性能的研究的開題報告【題目】直接感光法BST薄膜圖形制備及其性能的研究【摘要】音頻、視頻、通信、娛樂等領(lǐng)域的快速發(fā)展，提高了對高速、低噪聲、大容量存儲器件的需求。其中，BST（BaSrTiO3）薄膜作為一種高介電常數(shù)的材料，在存儲器件的制作中起著重要的作用。然而，現(xiàn)有的BST薄膜制備方法對于制備復(fù)雜的微細(xì)圖形較為困難。因此，本研究將探索一種直接感光法BST薄膜圖形制備方法，并評估其性能?！娟P(guān)鍵詞】直接感光法、BST薄膜、圖形制備、性能評估【研究背景和意義】近年來，隨著微電子制造技術(shù)的逐步發(fā)展，存儲器件正在逐漸向著高速、低噪聲、大容量方向發(fā)展。而作為一種高介電常數(shù)的材料，BST薄膜具備了很高的潛力，可以用于制作高速、低功耗的存儲器件。但是，現(xiàn)有的BST薄膜制備方法對于制備復(fù)雜的微細(xì)圖形較為困難，這導(dǎo)致在一些實際應(yīng)用場景中不能充分發(fā)揮BST薄膜的優(yōu)勢。因此，研究一種能夠?qū)崿F(xiàn)直接感光制備復(fù)雜圖形的BST薄膜制備方法具有重要的理論和實踐意義。【研究內(nèi)容和方法】本研究將采用直接感光法制備BST薄膜，并探索一種能夠制備復(fù)雜圖形的直接感光法BST薄膜制備方法。具體工作包括以下幾個方面：1.預(yù)先制備好的BST薄膜樣品進(jìn)行表面處理，以增加感光性。2.采用光刻技術(shù)制備掩模，對感光薄膜進(jìn)行圖案化曝光。3.利用化學(xué)溶解或物理脫離等方法，將未曝光區(qū)域的薄膜去除，形成所需的BST薄膜圖形。在實驗過程中，我們將分別對種類不同的BST材料進(jìn)行曝光和去除步驟，并進(jìn)行表面形貌和電學(xué)性能的測試，評估其性能?！绢A(yù)期成果】本研究將探索一種能夠?qū)崿F(xiàn)直接感光制備復(fù)雜圖形的BST薄膜制備方法，并對其進(jìn)行性能評估。預(yù)期具體成果如下：1.開發(fā)并優(yōu)化一種高效的直接感光法BST薄膜圖形制備方法，并在實驗室內(nèi)形成可重現(xiàn)的穩(wěn)定工藝；2.評估所研究的BST薄膜圖案的形貌、結(jié)構(gòu)和電學(xué)性能；3.發(fā)表相關(guān)論文并申請相關(guān)專利?！狙芯侩y點和挑戰(zhàn)】1.探索一種適合BST材料的感光劑，以達(dá)到較高的感光靈敏度和圖案分辨率；2.實現(xiàn)對復(fù)雜圖形的高精度制備和表面平整度控制；3.對圖案的物理和化學(xué)性質(zhì)進(jìn)行深入的研究和分析，并提高BST薄膜的電學(xué)性能。【研究工作計劃】本研究計劃在2年內(nèi)完成，具體工作計劃如下：第一年：1.學(xué)習(xí)和熟悉BST薄膜的制備、性能測試、表征等知識；2.優(yōu)化感光劑配方，篩選適合BST材料的感光劑；3.制備不同材料的BST薄膜并進(jìn)行表面處理；4.開展BST薄膜的感光曝光和化學(xué)脫離工藝，并形成首批直接感光法BST薄膜樣品。第二年：1.對首批樣品進(jìn)行表征和性能評估；2.優(yōu)化直接感光法BST薄膜制備方法，在高精度圖形制備和表面平整度控制方面取得突破；3.發(fā)表相關(guān)論文并申請相關(guān)專利?！緟⒖嘉墨I(xiàn)】[1]MengXiangjian,XuHuadong,ZhaoHui,andYangDongliang.(2016).AbriefreviewofepitaxialBa0.6Sr0.4TiO3thinfilmsfortunablemicrowaveapplications.MaterialsScienceinSemiconductorProcessing,vol.43,pp.1-7.[2]Li,D.J.,Wang,X.L.,Li,M.,Yao,Y.D.,&Shen,D.Z.(2005).HighqualitySrTiO3thinfilmgrowthbypulsedlaserdeposition.ThinSolidFilms,vol.489,pp.160-165.[3]Yang,Puxin&Sun,Fei&Chen,Jia-Zhao.(2004).FabricationofMicron/SubmicronSizedRi