北京大方科技激光氨逃逸解決方案（近位抽?。?018-10-31

近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)解決方案目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)公司簡介

大方科技是世界領(lǐng)先的激光氣體分析儀器和服務(wù)供應(yīng)商

團(tuán)隊負(fù)責(zé)人入選“國家特聘專家”和“北京市特聘專家”

美國工程院院士擔(dān)任公司的技術(shù)顧問

大方科技掌握TDLAS核心技術(shù)，自主研發(fā)，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，技術(shù)水平處于世界領(lǐng)先水平

大方科技被認(rèn)定為“國家高新技術(shù)企業(yè)”、“中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè)”和“海淀區(qū)創(chuàng)新企業(yè)”

研發(fā)及銷售總部坐落于北京中關(guān)村科技園區(qū)

生產(chǎn)基地位于遼寧（營口）沿海產(chǎn)業(yè)基地

公司資質(zhì)“國家高新技術(shù)企業(yè)”、“國家重點新產(chǎn)品”、“北京市科學(xué)技術(shù)獎”專注

于激光氣體分析檢測技術(shù)的科技企業(yè)，技術(shù)處于世界領(lǐng)先水平。專業(yè)

技術(shù)團(tuán)隊掌握TDLAS核心技術(shù)，擁有光學(xué)、電子、機械及信息技術(shù)專業(yè)頂尖人才，產(chǎn)品自主研發(fā)，擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)。創(chuàng)始人簡介

19921997200020052009清華大學(xué)工程力學(xué)系工程熱物理專業(yè)本科清華大學(xué)工程力學(xué)系工程熱物理專業(yè)碩士美國斯坦福大學(xué)機械工程系博士美國SpectraSensors公司首席科學(xué)家回國創(chuàng)建北京大方科技有限責(zé)任公司創(chuàng)始人簡介國家特聘專家、北京市特聘專家清華大學(xué)學(xué)士、碩士

斯坦福大學(xué)博士

教授級高級工程師第五屆“北京市留學(xué)人員創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)特別貢獻(xiàn)獎”2013年中關(guān)村十大海歸新星2011年北京市優(yōu)秀青年知識分子目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS)特點先進(jìn)為目前國際最先進(jìn)的氣體測量方法之一測量準(zhǔn)確，非接觸式測量、無需校準(zhǔn)和維護(hù)等特點為氣體分析帶來革命性變革成熟被美國宇航局用于火星上氣體的探測2000年后開始進(jìn)入民用領(lǐng)域，目前在天然氣，石油化工方面已經(jīng)有成功的應(yīng)用綜合是光學(xué)、電子、信息、機械、材料等多個學(xué)科的綜合應(yīng)用國際上掌握該項核心技術(shù)并能成功產(chǎn)品化的公司屈指可數(shù)氣體測量進(jìn)入激光時代TDLAS技術(shù)的基本原理朗伯比爾定律：光譜吸收系數(shù):特定波長下，濃度越高，光強被吸收越多。1ppmv氨氣在不同光程下的吸收強度特定波長和特定濃度下，光程越長，幅值越高，測量精度越高。目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)氨逃逸監(jiān)測的意義氨逃逸監(jiān)測的意義氨逃逸與煙氣中的SO3反應(yīng)生成硫酸銨或硫酸氫銨，它們會積聚在催化劑層，導(dǎo)致催化劑的堵塞或失活。當(dāng)后續(xù)煙道煙溫降低時，無論SCR工藝還是SNCR工藝形成的硫酸氫銨，都會附著在空氣預(yù)熱器表面，腐蝕空氣預(yù)熱器，對安全生產(chǎn)造成很大隱患。逃逸掉的氨氣不僅造成資金的浪費，還對后續(xù)脫硫系統(tǒng)造成不利影響。由于逃逸的氨導(dǎo)致飛灰化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變，使得飛灰不能作為建材原料而得到利用。催化劑失效空氣預(yù)熱器堵塞氨逃逸監(jiān)測的意義本圖以燃煤電廠SCR脫硝方式為例相關(guān)政策及規(guī)范火電廠氮氧化物防治技術(shù)政策(環(huán)發(fā)[2010]10號)4.5.1SCR和SNCR－SCR氨逃逸控制在2.5mg/m3（干基，標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）以下；SNCR氨逃逸控制在8mg/m3（干基，標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)）以下

5.4鼓勵開發(fā)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的在線連續(xù)監(jiān)測裝置

火電廠煙氣脫硝工程技術(shù)規(guī)范----選擇性催化還原法（HJ562-2010）本標(biāo)準(zhǔn)適用于機組容量為200MW及以上火電廠燃煤、燃?xì)?、燃油鍋爐同期建設(shè)或已建鍋爐的煙氣脫硝工程。機組容量200MW以下的燃煤、燃?xì)?、燃油鍋爐及其他工業(yè)鍋爐、爐窯，同期建設(shè)或已建鍋爐的煙氣脫硝工程時，可參照執(zhí)行6.1.4氨逃逸濃度宜小于2.5mg/m3

相關(guān)政策及規(guī)范火電廠煙氣脫硝工程技術(shù)規(guī)范----選擇性非催化還原法（HJ563-2010）本標(biāo)準(zhǔn)適用于火電廠（熱電聯(lián)產(chǎn)）燃煤、燃?xì)?、燃油鍋爐同期建設(shè)或已建鍋爐的煙氣脫硝工程。供熱鍋爐和其它工業(yè)鍋爐、爐窯，同期建設(shè)或已建鍋爐的煙氣脫硝工程可參照執(zhí)行5.1.1SNCR法適用于脫硝效率要求不高于40%的機組6.1.1脫硝系統(tǒng)氨逃逸濃度應(yīng)控制在8mg/m3以下水泥工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB4915-2013）4.1.1現(xiàn)有企業(yè)自2015年7月1日起氨逃逸濃度應(yīng)控制在10mg/m34.1.2自2014年3月1日起，新建企業(yè)氨逃逸濃度應(yīng)控制在10mg/m34.1.3重點地區(qū)企業(yè)氨逃逸濃度應(yīng)控制在8mg/m3。執(zhí)行特別排放限值的時間和地域范圍由國務(wù)院環(huán)境保護(hù)行政主管部門或省級人民政府規(guī)定

氨逃逸監(jiān)測的難點與挑戰(zhàn)煙氣溫度高、潮濕煙氣分布非常不穩(wěn)定ppm級別氨氣檢測氨氣吸附性和水溶性極

強氨氣的高化學(xué)活性難點對檢測系統(tǒng)適應(yīng)性提出

高要求如何確保給分析儀有足

夠代表性的采樣對檢測靈敏度要求高無法用冷卻和除濕處理造成低量程分析異常困

難,幾乎難以實現(xiàn)挑戰(zhàn)目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)目前氨逃逸在線分析系統(tǒng)存在的普遍性問題1、氨逃逸數(shù)據(jù)為0或某個固定值，或只有儀表自身噪聲信號，沒有真正檢測出逃逸氨，給性能驗收和環(huán)保驗收帶來麻煩。2、增大或減少噴氨量，氨逃逸數(shù)據(jù)無變化，沒有趨勢相關(guān)性，無法為電廠控制噴氨流量提供科學(xué)的數(shù)據(jù)參考。為了NOx達(dá)標(biāo)排放可能會噴氨過量，造成氨水浪費和形成大量銨鹽對后面設(shè)備造成嚴(yán)重腐蝕。3、傳統(tǒng)氨逃逸不能隨時通標(biāo)氣進(jìn)行驗證，不能確保數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。原因？原位式激光氨逃逸分析儀的問題

進(jìn)口品牌氨逃逸分析儀多采用原位式安裝方式原位式激光氨逃逸分析儀的問題目前火電脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)存在的普遍性問題監(jiān)測不到氨逃逸數(shù)據(jù)，只有噪音，不能作參考。原位式激光氨逃逸分析儀的問題由于煙道粉塵大，激光透射率不足，無法正常測量。原位式激光氨逃逸分析儀的問題為了解決透射率不足無法測量的問題，很多原位式分析儀采用斜角安裝方式，測量不具有代表性，同時粉塵對測量仍然會造成影響；斜角安裝方式光程短，測量下限和精度不夠，無法滿足氨逃逸精確測

量的需求。原位式激光氨逃逸分析儀的問題現(xiàn)場熱膨脹等因素，造成激光反射與接收光路對不準(zhǔn)，造成測量不準(zhǔn)；原位安裝，儀表無法通標(biāo)氣驗證，無法判斷檢測結(jié)果準(zhǔn)確性?，F(xiàn)有的抽取式氨逃逸分析儀

現(xiàn)有的抽取氨逃逸分析儀現(xiàn)有的抽取式多為原位改裝的氨逃逸監(jiān)測裝置，光程短，測量下限和精度不夠，測量數(shù)據(jù)雜亂，無參考意義。目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)大方科技氨逃逸解決方案大方科技解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)主機與煙道壁軟連接，煙氣經(jīng)取樣探桿后直接進(jìn)入測量氣室，無須伴熱管線，避免了氨氣吸附以及測量延時的問題。抽取測量不受現(xiàn)場振動、膨脹等環(huán)境因素的影響；抽取測量采用高精度濾芯過濾煙氣進(jìn)入氣室測量，不受煙氣高粉塵的影響；取樣更具代表性，采樣點插入煙道核心區(qū)域，可根據(jù)現(xiàn)場情況設(shè)置多個采樣點。國內(nèi)首家實現(xiàn)多次反射樣氣室，光程可達(dá)30米，大大提高測量下限與測量精度。相比原位測量，光程不受煙道尺寸限制，滿足低濃度氨逃逸的高精度測量。相比原位測量，可隨時通標(biāo)氣驗證，確保結(jié)果更準(zhǔn)確。近位高精度抽取近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)由三部分組成：探頭采樣單元、預(yù)

處理單元、儀表檢測單元探頭采樣單元包括焊接法蘭管、采樣探桿、濾芯、加熱模塊預(yù)處理單元包括加熱箱、氣室、反吹控制儀表檢測單元包括光纖傳輸、儀表系統(tǒng)、檢測系統(tǒng)大方科技氨逃逸解決方案大方科技氨逃逸解決方案獨特的取樣探桿和濾芯無冷點設(shè)計取樣探桿采用特殊不銹鋼材質(zhì)，外涂防腐耐磨涂層，有效克服測量點高溫、高腐蝕、高流速的煙氣對探桿造成的腐蝕和磨損。

取樣探頭材質(zhì)在高溫下不會與SO2、NH3等腐蝕性氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；濾芯采用特殊覆膜工藝制造，高精度，既能有效阻止煙氣中的粉塵進(jìn)入系統(tǒng)，保證系統(tǒng)正常運行，又能兼顧氣阻小，反吹效果好。濾芯采用后置設(shè)計，位于探桿尾部，由卡扣固定，只需輕按即可取出，維護(hù)極其方便。濾芯實現(xiàn)內(nèi)外反吹，使用壽命更長。

探桿和濾芯全程加熱，無冷點。

大方科技氨逃逸解決方案可靠的預(yù)處理技術(shù)煙氣流經(jīng)之處全程高溫伴熱無冷點，配備自動反吹功能，保障煙氣無結(jié)晶、堵塞，提高系統(tǒng)可靠性和穩(wěn)定性。高溫加熱盒采用獨特材料研制，內(nèi)置保溫材料，有效防止熱量向外輻射與傳導(dǎo)。（可靠的預(yù)處理系統(tǒng)是氨逃逸在線分析的基礎(chǔ)）專利技術(shù)，便于維護(hù)光路器件專利的樣氣室設(shè)計，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護(hù)更加快速方便。系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要內(nèi)置參比模塊，實現(xiàn)動態(tài)補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度國內(nèi)首家實現(xiàn)多次反射樣氣室，光程可達(dá)30米，極大提高測量精度。相比原位測量，光程不受煙道尺寸限制，滿足低濃度氨逃逸的高精度測量。

大方科技氨逃逸解決方案實現(xiàn)近位多通道，測量更有代表性

可實現(xiàn)一個煙道截面多點同時測量，測量更有代表性，也可實現(xiàn)多個煙道同時測量；

儀表和測量單元分離，儀表可放置在室內(nèi)，避免惡劣的外部環(huán)境；

單個儀表可控制多達(dá)六路監(jiān)測（也可根據(jù)用戶需求定制）；

每個通道皆具有一個完整的取樣、預(yù)處理和測量單元，系統(tǒng)可靠性大為提高。

大方科技氨逃逸解決方案大方科技氨逃逸解決方案

儀表自檢及自恢復(fù)功能

儀表擁有智能自檢及自恢復(fù)功能，自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)最佳測量工作狀態(tài)。

遠(yuǎn)程專家技術(shù)支持系統(tǒng)

儀表擁有遠(yuǎn)程專家技術(shù)支持系統(tǒng)，能夠進(jìn)行遠(yuǎn)程調(diào)試，診斷，維護(hù)。

強大的技術(shù)支持體系

完全自主知識產(chǎn)權(quán)，可實現(xiàn)激光氣體分析儀特殊定制。本地服務(wù)中心建立有備品備件庫，供應(yīng)充足，價格低，降低運行成本。能夠解決其它儀器無法深度維修、維護(hù)費用高、響應(yīng)時間長等不足。

大方科技激光氨逃逸指標(biāo)項

目指

標(biāo)測量范圍0～10.0ppm，0～50.0ppm具體量程可根據(jù)用戶需要定制檢測下限0.1ppm重復(fù)性1.0%F.S.漂移忽略線性誤差＜1.0%F.S.通訊接口RS485，雙端隔離伴熱溫度〉250℃采樣流量10～20L/min環(huán)境溫度-30℃～60℃工作電壓AC200V～240V遠(yuǎn)程專家支持系統(tǒng)可選配無線網(wǎng)絡(luò)模塊，通過中國移動、中國聯(lián)通或中國電信網(wǎng)絡(luò)實現(xiàn)即時技術(shù)支持和指導(dǎo)，包括遠(yuǎn)程調(diào)試、診斷、維護(hù)。目錄主要內(nèi)容一、關(guān)于大方科技二、可調(diào)諧激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)的基本原理三、氨逃逸準(zhǔn)確監(jiān)測的意義、難點及挑戰(zhàn)四、目前脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)的問題及原因分析五、我們的解決方案：近位抽取高精度氨逃逸在線分析系統(tǒng)六、已取得的部分業(yè)績展示七、小結(jié)應(yīng)用案例黃色為氨逃逸，綠色為噴氨量，紅色為機組負(fù)荷應(yīng)用案例紅色為氨逃逸，綠色為噴氨量，藍(lán)色為機組負(fù)荷應(yīng)用案例藍(lán)色為A