專利申請(qǐng)實(shí)務(wù)

專利申請(qǐng)實(shí)務(wù)武漢市關(guān)山大道111號(hào)光谷時(shí)代廣場(chǎng)A座2601室電話/p>

郵箱：ip@網(wǎng)址：北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所

武漢分所朱詩(shī)恩機(jī)械工程師律師專利代理/p>

zhushien321@163.com

1991年華中農(nóng)業(yè)大學(xué)機(jī)械設(shè)計(jì)本科2008華中科技大學(xué)經(jīng)濟(jì)法?專利戰(zhàn)略方向碩士三一集團(tuán)首席知識(shí)產(chǎn)權(quán)維權(quán)律師、專利審核工程師人員構(gòu)成機(jī)械代理人26人電學(xué)代理人24人化學(xué)代理人17人律師8人商標(biāo)代理人12人學(xué)士學(xué)位28人碩士學(xué)位45人博士、博士后4人清華大學(xué)副教授3人4業(yè)務(wù)范圍中國(guó)專利申請(qǐng)外國(guó)專利申請(qǐng)（PCT途徑、巴黎公約途徑）專利復(fù)審專利申請(qǐng)商標(biāo)及其他商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)商標(biāo)復(fù)審申請(qǐng)商標(biāo)異議、撤銷申請(qǐng)商標(biāo)的轉(zhuǎn)讓、許可備案軟件著作權(quán)登記著作權(quán)登記高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定侵權(quán)糾紛權(quán)屬糾紛專利無(wú)效宣告法律顧問(wèn)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)制度建設(shè)企業(yè)專利預(yù)警專利分析專利轉(zhuǎn)讓、許可備案專利數(shù)據(jù)庫(kù)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理專利維權(quán)20082009201020112012622774150027504000專利代理歷史數(shù)據(jù)主要國(guó)內(nèi)合作企業(yè)及技術(shù)領(lǐng)域解決如下問(wèn)題什么是專利？如何申請(qǐng)專利？申請(qǐng)流程？申請(qǐng)人應(yīng)提供哪些技術(shù)資料？專利申請(qǐng)需要提交哪些文件？專利申請(qǐng)現(xiàn)狀？申請(qǐng)專利的注意事項(xiàng)？專利政策？一、什么是專利價(jià)值500萬(wàn)英鎊的專利技術(shù)方案國(guó)家授予的相對(duì)壟斷的權(quán)利法定性先申請(qǐng)制獨(dú)占性公開(kāi)壟斷時(shí)間性發(fā)明專利20年實(shí)用新型專利10年外觀設(shè)計(jì)專利10年地域性專利是什么?專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)

新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性

例：

本申請(qǐng)：一種防腐涂料用添加劑，其特征在于包含石蠟。

現(xiàn)有技術(shù)：公開(kāi)了一種塑料加工用的脫模劑，其中包含石蠟。

新穎性？創(chuàng)造性？例：

本申請(qǐng)：一種復(fù)合地板，其包括基材、復(fù)合于基材下面的防潮層和復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料A。對(duì)比文件：一種地板，其包括基材和復(fù)合于基材下面的防潮層和復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料B。材料A和材料B均為已知的耐磨材料(替換)。新穎性？創(chuàng)造性？二、如何申請(qǐng)專利產(chǎn)品的圖案產(chǎn)品的色彩與形狀的結(jié)合產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀、圖案的結(jié)合富有美感、適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計(jì)外觀設(shè)計(jì)與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相比，具有明顯區(qū)別產(chǎn)品的色彩與圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的構(gòu)造產(chǎn)品的形狀、結(jié)構(gòu)的結(jié)合新的技術(shù)方案具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)進(jìn)步實(shí)用新型產(chǎn)品的改進(jìn)方法的改進(jìn)新產(chǎn)品新方法新的技術(shù)方案發(fā)明具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)顯著的進(jìn)步審查意見(jiàn)答復(fù)批準(zhǔn)三、專利流程發(fā)明創(chuàng)造技術(shù)交底書(shū)專利撰寫(xiě)申請(qǐng)專利證書(shū)年費(fèi)維權(quán)繳費(fèi)辦登四、技術(shù)交底資料發(fā)明名稱技術(shù)領(lǐng)域背景技術(shù)

對(duì)現(xiàn)有技術(shù)如結(jié)構(gòu)、原理的描繪、評(píng)價(jià)，指出現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容

本發(fā)明創(chuàng)造所解決的技術(shù)問(wèn)題；本發(fā)明的技術(shù)方案；達(dá)到的有益效果。具體實(shí)施例

盡可能詳細(xì)地對(duì)照附圖標(biāo)記清楚、完整地描述發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案。附圖

用CAD或其他軟件繪制，清楚地表達(dá)產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)即可，不需要精確的尺寸，不著色，不能有文字標(biāo)注（流程圖除外）。技術(shù)交底資料常見(jiàn)問(wèn)題沒(méi)有技術(shù)方案描述一大堆理論，無(wú)論是現(xiàn)有的還是新發(fā)現(xiàn)的只描述產(chǎn)品或方法的功能及效果技術(shù)方案公開(kāi)不充分

擔(dān)心泄密不知道公開(kāi)程度附圖不合格發(fā)明或?qū)嵱眯滦透綀D采用照片、渲染圖、色塊圖五、專利申請(qǐng)文件專利申請(qǐng)請(qǐng)求書(shū)委托書(shū)發(fā)明：說(shuō)明書(shū)摘要、摘要附圖（必要時(shí)）、權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、說(shuō)明書(shū)附圖（必要時(shí)）實(shí)用新型：說(shuō)明書(shū)摘要、摘要附圖、權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、說(shuō)明書(shū)附圖。外觀設(shè)計(jì)：外觀設(shè)計(jì)的圖片或照片、簡(jiǎn)要說(shuō)明六、專利申請(qǐng)現(xiàn)狀2010年度世界前8位專利申請(qǐng)量中國(guó)專利申請(qǐng)量武漢市專利申請(qǐng)量2012年武漢各區(qū)申請(qǐng)狀況七、申請(qǐng)專利的注意事項(xiàng)申請(qǐng)專利與技術(shù)難度無(wú)關(guān)

產(chǎn)品未動(dòng)專利先行出版公開(kāi)（報(bào)刊、雜志、網(wǎng)絡(luò)發(fā)表）使用公開(kāi)口述公開(kāi)專利Vs保密

反向工程

技術(shù)進(jìn)步國(guó)家政策可能導(dǎo)致專利喪失新穎性八、專利政策武漢市創(chuàng)新型企業(yè)申報(bào)表（武漢市科技局二○一二年八月制）二、企業(yè)定量評(píng)價(jià)（三）百名研發(fā)人員擁有的授權(quán)發(fā)明專利數(shù)和申請(qǐng)受理數(shù)武漢市創(chuàng)新型試點(diǎn)企業(yè)申報(bào)表

一、企業(yè)概況及創(chuàng)新基礎(chǔ)2、創(chuàng)新基礎(chǔ)：產(chǎn)品擁有的專利數(shù)，其中發(fā)明專利數(shù)，授權(quán)專利總數(shù)，受理專利總數(shù)，百名研發(fā)人員擁有專利數(shù)=100*（授權(quán)專利數(shù)+受理專利數(shù)）/研發(fā)人員數(shù)

高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定

要求：1件發(fā)明專利權(quán)或者6件其他知識(shí)產(chǎn)權(quán)（不包括商標(biāo)）所得稅稅率15%，出口產(chǎn)品產(chǎn)值達(dá)到當(dāng)年總產(chǎn)值70%以上的，所得稅稅率10%新辦的內(nèi)資高新技術(shù)企業(yè)，從投產(chǎn)年度起，兩年內(nèi)免征所得稅關(guān)于開(kāi)展二〇一二年度武漢市著名商標(biāo)認(rèn)定工作的通知市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局關(guān)于辦理2012年專利與集成電路布圖設(shè)計(jì)資助工作的通知

1、國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)獲權(quán)資助（其中發(fā)明專利必須通過(guò)已在我局登記備案的專利代理機(jī)構(gòu)提出）職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專利權(quán)2500元/件；實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)300元/件非職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專利權(quán)1000元/件實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)150元/件

2、外國(guó)專利資助標(biāo)準(zhǔn)（企業(yè)）獲得北美發(fā)達(dá)國(guó)家、歐盟發(fā)達(dá)國(guó)家和日本發(fā)明專利權(quán)10萬(wàn)元/件獲得上述國(guó)家以外的其他國(guó)家發(fā)明專利權(quán)3萬(wàn)元/件

3、專項(xiàng)資助（必須是通過(guò)已在我局登記備案的專利代理機(jī)構(gòu)代理的）專利申請(qǐng)量超過(guò)50件、發(fā)明專利占申請(qǐng)總量30%以上的規(guī)模企業(yè)

4、集成電路布圖設(shè)計(jì)登記資助

1000元/件武漢市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)分局《關(guān)于開(kāi)展2012年專利申請(qǐng)資助工作的通知》（武知分局發(fā)[2012]1號(hào)）

國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)資助標(biāo)準(zhǔn)（申請(qǐng)港、澳、臺(tái)地區(qū)專利的參照?qǐng)?zhí)行）：1、發(fā)明2000元/件

2、實(shí)用新型500元/件