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JJF1833—20201真空氦漏孔校準(zhǔn)規(guī)范1范圍本規(guī)范適用于漏率值在(1×10-10~1×10-4)Pa·m3/s范圍內(nèi)的真空氦漏孔的校準(zhǔn)。2引用文件本規(guī)范引用了下列文件:JJF1001—2011通用計(jì)量術(shù)語及定義JJF1008—2008壓力計(jì)量名詞術(shù)語及定義GB/T3163—2007真空技術(shù)術(shù)語GB/T3164—2007真空技術(shù)圖形符號(hào)BSEN20486:2018無損檢測(cè)漏孔檢測(cè)氣體參考漏孔校準(zhǔn)(NonDestructiveTesting—LeakTesting—CalibrationofReferenceLeaksforGases)ASTME908:1998(2012)校準(zhǔn)氣體參考漏孔的標(biāo)準(zhǔn)方法(StandardPracticeforCalibratingGaseousReferenceLeaks)凡是注日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本規(guī)范;凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本規(guī)范。3術(shù)語和計(jì)量單位3.1術(shù)語3.1.1漏孔leak當(dāng)密閉的容器內(nèi)部與外部的氣體壓力或濃度不同時(shí),可以使氣體由器壁的一側(cè)泄漏到另一側(cè)去的小孔、缺陷或隙縫以及滲透元件或漏氣裝置。[JJF1008—2008,定義11.31]3.1.2真空氦漏孔vacuumheliumleak使用氦氣作為示蹤氣體的、出氣口壓力低于1kPa條件下校準(zhǔn)和使用的漏孔。3.1.3通道漏孔conductanceleak可以把它理想地當(dāng)做長(zhǎng)毛細(xì)管的由一個(gè)或多個(gè)不連續(xù)通道組成的一個(gè)漏孔。[GB/T3163—2007,定義6.1.2]3.1.4滲透漏孔permeationleak氣體通過滲透穿過薄膜(薄壁)的一種漏孔。3.1.5漏率leakrate在規(guī)定條件下,一種特定氣體通過漏孔的流量。[GB/T3163—2007,定義6.1.9]JJF1833—202023.1.6示漏氣體tracedgas氣體。[JJF1008—2008,定義11.40]3.1.7氦質(zhì)譜檢漏儀heliummassspectrometerleakdetector以氦作示漏氣體,調(diào)正到對(duì)氦起靈敏反應(yīng)的專門用作檢查漏隙的質(zhì)譜儀。[JJF1008—2008,定義11.38]3.1.8質(zhì)譜計(jì)massspectrometer區(qū)分不同質(zhì)荷比電離粒子并測(cè)量其離子流的一種儀表。[GB/T3163—2007,定義4.5.1]3.2計(jì)量單位漏孔漏率的計(jì)量單位是帕斯卡立方米每秒(Pa·m3/s)或摩爾每秒(mol/s)。4概述真空氦漏孔(以下簡(jiǎn)稱為漏孔)是一種在特定條件下提供恒定、已知氦氣流量的元件,用來校準(zhǔn)氦質(zhì)譜檢漏儀的靈敏度。按照其結(jié)構(gòu),主要可以分為兩類,一類是通道漏孔,即泄漏元件為真實(shí)小孔,包括毛細(xì)管型、小孔型、金屬壓扁型等;另一類是滲透漏孔,主要是用石英玻璃作為滲透元件。漏孔通常由漏孔元件、儲(chǔ)氦室和閥門組成,如圖1所示。圖1真空氦漏孔結(jié)構(gòu)示意圖5計(jì)量特性5.1漏率值給出一定條件下,真空漏孔對(duì)氦氣的漏率值。如果可獲得溫度修正系數(shù),則需要給出23℃下的氦氣漏率值。6校準(zhǔn)條件6.1環(huán)境條件6.1.1校準(zhǔn)的環(huán)境溫度為(23±5)℃,校準(zhǔn)過程中,環(huán)境溫度波動(dòng)不超過1℃,實(shí)驗(yàn)室內(nèi)不應(yīng)有明顯的氣體流動(dòng)。6.1.2環(huán)境濕度不大于80%RH。6.1.3校準(zhǔn)設(shè)備周圍不應(yīng)有明顯的振動(dòng),或其他干擾因素。JJF1833—202036.2測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)及其他設(shè)備6.2.1測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)裝置其一?!髁坑?jì)法校準(zhǔn)裝置,測(cè)量范圍應(yīng)在(1×10-10~1×10-4)Pa·m3/s范圍內(nèi),相對(duì)擴(kuò)展不確定度優(yōu)于10%(k=2)?!繗怏w法校準(zhǔn)裝置,測(cè)量范圍應(yīng)在(1×10-10~1×10-4)Pa·m3/s范圍內(nèi),相對(duì)擴(kuò)展不確定度優(yōu)于10%(k=2)。—相對(duì)比較法校準(zhǔn)裝置,測(cè)量范圍應(yīng)在(1×10-10~1×10-4)Pa·m3/s范圍內(nèi),相對(duì)擴(kuò)展不確定度優(yōu)于20%(k=2)。應(yīng)配備多支標(biāo)準(zhǔn)漏孔,漏孔漏率值應(yīng)覆蓋裝置測(cè)量范圍的各個(gè)數(shù)量級(jí)。標(biāo)準(zhǔn)漏孔的校準(zhǔn)不確定度不大于10%(k=2)。質(zhì)譜計(jì)或氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)可顯示不少于3位有效數(shù)字,15min穩(wěn)定性應(yīng)不大于2%。注:評(píng)估穩(wěn)定性時(shí)應(yīng)連續(xù)記錄,或者記錄時(shí)間間隔不超過1min。6.2.2其他設(shè)備6.2.2.1溫度計(jì):溫度范圍為(0~50)℃,不確定度優(yōu)于0.1℃(k=2)。6.2.2.2氦氣源:氣體純度為99.9%或以上。7校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法7.1校準(zhǔn)項(xiàng)目7.1.1外觀。7.1.2漏率值。7.2校準(zhǔn)方法7.2.1外觀檢查7.2.1.1漏孔應(yīng)有型號(hào)、編號(hào)、氣源類型、標(biāo)稱漏率值、校準(zhǔn)溫度、溫度系數(shù)、年衰減率等信息。7.2.1.2漏孔應(yīng)具有與校準(zhǔn)系統(tǒng)連接的密封接口。7.2.1.3無儲(chǔ)氦室的漏孔應(yīng)有明確的氣流方向或出口端標(biāo)志。7.2.2漏率值滲透型漏孔應(yīng)無裂痕等缺陷,通道型漏孔不得堵塞。校準(zhǔn)前,應(yīng)開啟漏孔前端閥門并在校準(zhǔn)環(huán)境內(nèi)放置12h以上。根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)裝置的類型以及待測(cè)漏孔的要求,選擇一種校準(zhǔn)方法對(duì)漏孔進(jìn)行校準(zhǔn)。無儲(chǔ)氦室的通道漏孔按圖2對(duì)待測(cè)漏孔進(jìn)行配氣。JJF1833—20204圖2通道漏孔配氣示意圖7.2.2.1流量計(jì)法按照正常程序啟動(dòng)真空系統(tǒng),待系統(tǒng)進(jìn)入高真空后開啟質(zhì)譜計(jì),質(zhì)譜計(jì)正常工作2h后,才能開始校準(zhǔn)漏孔。按照?qǐng)D3所示,將漏孔安裝于真空系統(tǒng)上。打開漏孔閥門K2,待質(zhì)譜計(jì)檢測(cè)到真空系統(tǒng)中的氦氣峰值穩(wěn)定(通常情況下,至少需要30min)后,開始校準(zhǔn)。注:此時(shí),閥門K1應(yīng)處于關(guān)閉狀態(tài)。圖3流量計(jì)法校準(zhǔn)裝置原理和漏孔連接圖校準(zhǔn)步驟:a)用質(zhì)譜計(jì)記錄漏孔氦峰離子流IL,并記錄漏孔溫度T(℃)。b)關(guān)閉閥門K2,調(diào)節(jié)閥門K1,使得流量計(jì)中的氦氣流入真空系統(tǒng),且質(zhì)譜計(jì)氦峰離子流在IL(1±10%)之間,記錄為IF。c)按照裝置的計(jì)算公式,計(jì)算得到流量計(jì)流出的氦氣流量QF。d)關(guān)閉閥門K1,用質(zhì)譜計(jì)記錄真空系統(tǒng)本底氦峰離子流I0,要求I0<0.1IL。e)按照公式(1)計(jì)算漏孔漏率值:5(1)QLT=QF×--(1)式中:QLT—漏孔溫度T時(shí)的漏率值,Pa·m3/s;QF—流量計(jì)流入氦氣流量值,Pa·m3/s;IL—漏孔氦峰離子流,A;I0—真空系統(tǒng)本底氦峰離子流,A;IF—流量計(jì)氦氣流入真空系統(tǒng)時(shí),氦峰離子流,A。 f)重復(fù)步驟a)到e)至少3遍,取其平均值QLT作為溫度T下的漏孔漏率值。7.2.2.2定量氣體法定量氣體法是指用漏孔流入真空系統(tǒng)的氦氣量與裝置測(cè)量部分流入真空系統(tǒng)的氦氣量來進(jìn)行比較,進(jìn)而計(jì)算得到漏孔漏率的一種測(cè)量方法。裝置測(cè)量部分給出氦氣量可以通過膨脹法或流導(dǎo)法來得到。按照正常程序啟動(dòng)真空系統(tǒng),待系統(tǒng)進(jìn)入高真空后開啟質(zhì)譜計(jì),質(zhì)譜計(jì)正常工作2h后,才能開始校準(zhǔn)漏孔。按照?qǐng)D4所示,將漏孔安裝于真空系統(tǒng)上。關(guān)閉閥門K1(K1'),打開漏孔閥門K2,待質(zhì)譜計(jì)檢測(cè)到真空系統(tǒng)中的氦氣峰值穩(wěn)定(通常情況下,至少需要30min)后,開始校準(zhǔn)。圖4定量氣體法校準(zhǔn)裝置原理和漏孔連接圖校準(zhǔn)步驟:a)關(guān)閉閥門K3并開始計(jì)時(shí),待一段時(shí)間后計(jì)時(shí)結(jié)束,用質(zhì)譜計(jì)記錄漏孔氦峰離子流IL和時(shí)間t1,并記錄漏孔溫度T(℃)。b)關(guān)閉閥門K2,開啟閥門K3,記錄質(zhì)譜計(jì)本底氦峰離子流I0,通常要求I0<0.01IL。6c)—膨脹法:將體積為v的標(biāo)準(zhǔn)體積內(nèi)充入壓力為p的氦氣,關(guān)閉閥門K3,開啟閥門K1,將標(biāo)準(zhǔn)體積內(nèi)的氣體膨脹到真空系統(tǒng)中,記錄質(zhì)譜計(jì)氦峰離子流IE,通常要求0.9IL<IE<1.1IL;—流導(dǎo)法:將氣源室內(nèi)充入壓力為p的氦氣,關(guān)閉閥門K3,開啟閥門K1',開始計(jì)時(shí),待一段時(shí)間后,記錄質(zhì)譜計(jì)氦峰離子流IC和時(shí)間t2,通常要求0.9IL<IC<1.1IL。注:時(shí)間t1和t2可采用計(jì)算機(jī)自帶計(jì)時(shí)器計(jì)時(shí),用質(zhì)譜計(jì)軟件讀取。d)按照公式(2)或公式(3)計(jì)算漏孔漏率值:膨脹法:QLT=×--(2)流導(dǎo)法:QLT=pt2×--(3)式中:QLT—漏孔溫度T時(shí)的漏率值,Pa·m3/s;p—標(biāo)準(zhǔn)體積或氣源室內(nèi)氦氣壓力,Pa;v—標(biāo)準(zhǔn)體積值,m3;C—固定流導(dǎo)值,m3/s;t1—漏孔累積的時(shí)間,s;t2—流導(dǎo)法氣體累積的時(shí)間,s;IL—漏孔累積的氦峰離子流值,A;IE—標(biāo)準(zhǔn)體積內(nèi)的氦氣膨脹到真空系統(tǒng)后,質(zhì)譜計(jì)的氦峰離子流,A;IC—流導(dǎo)法氣體累積結(jié)束時(shí)刻,質(zhì)譜計(jì)的氦峰離子流,A;I0—真空系統(tǒng)本底氦峰離子流,A。 e)重復(fù)步驟a)到d)至少3遍,取其平均值QLT作為溫度T下的漏孔漏率值。7.2.2.3相對(duì)比較法按照正常程序啟動(dòng)真空系統(tǒng)或氦質(zhì)譜檢漏儀,待系統(tǒng)進(jìn)入高真空后開啟質(zhì)譜計(jì),質(zhì)譜計(jì)正常工作2h后,才能開始校準(zhǔn)漏孔。選擇與待測(cè)漏孔漏率值在同一數(shù)量級(jí)或漏率值接近的標(biāo)準(zhǔn)漏孔,按照?qǐng)D5、圖6所示,將待測(cè)漏孔和標(biāo)準(zhǔn)漏孔同時(shí)安裝于真空系統(tǒng)或檢漏儀上,標(biāo)準(zhǔn)漏孔與待測(cè)漏孔必須安裝在同一位置上。打開標(biāo)準(zhǔn)漏孔閥門K1和待測(cè)漏孔閥門K2,待質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀檢測(cè)到真空系統(tǒng)中的氦氣峰值穩(wěn)定(通常情況下,至少需要15min)后,開始校準(zhǔn)。7圖5相對(duì)比較法校準(zhǔn)裝置原理和漏孔連接圖(真空系統(tǒng))圖6相對(duì)比較法校準(zhǔn)裝置原理和漏孔連接圖(檢漏儀)校準(zhǔn)步驟:a)關(guān)閉閥門K1和K2,記錄質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀本底信號(hào)I0。b)開啟閥門K1,待穩(wěn)定后記錄標(biāo)準(zhǔn)漏孔信號(hào)值Istd和漏孔溫度Tstd。c)關(guān)閉閥門K1。d)開啟閥門K2,待穩(wěn)定后記錄待測(cè)漏孔信號(hào)值IL和漏孔溫度T。e)按照公式(4)計(jì)算漏孔漏率值:(4)QLT=Qstd×[1+(Tstd-23)×αstd,T]××m1×m2(4)式中:QLT—漏孔溫度T時(shí)的漏率值,Pa·m3/s;Qstd—標(biāo)準(zhǔn)漏孔23℃的漏率值,Pa·m3/s;JJF1833—20208Tstd—校準(zhǔn)時(shí)標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度,℃;αstd,T—標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度系數(shù),℃-1;IL—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀檢測(cè)到待測(cè)漏孔的信號(hào)值,A或Pa·m3/s;Istd—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀檢測(cè)到標(biāo)準(zhǔn)漏孔的信號(hào)值,A或Pa·m3/s; I0—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀本底信號(hào)值,A或Pa·m3/s;m1—質(zhì)譜計(jì)線性系數(shù)(通常m1=1);m2—質(zhì)譜計(jì)穩(wěn)定性系數(shù)(通常m2=1)。f)重復(fù)步驟a)到e)至少3遍,取其平均值QLT作為溫度T下的漏孔漏率值。7.2.2.4數(shù)據(jù)處理根據(jù)待測(cè)漏孔給出的溫度系數(shù),按照公式(5)給出23℃下的漏率值。QL23℃=QLT×[1-(T-23)×αLT](5)式中:αLT—待測(cè)漏孔溫度系數(shù),℃-1。注:如果待測(cè)漏孔沒有給出溫度系數(shù),則石英玻璃滲透型漏孔按照3.5%/℃,通道型漏孔按照0.3%/℃計(jì)算。8校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)8.1校準(zhǔn)試驗(yàn)完成后,按照本規(guī)范給出校準(zhǔn)結(jié)果,開具相應(yīng)的校準(zhǔn)證書,校準(zhǔn)證書內(nèi)頁格式見附錄B。8.2校準(zhǔn)證書應(yīng)包含以下內(nèi)容:8.2.1漏孔類型:通道型或滲透型(如果可以)。8.2.2漏率值。8.2.3校準(zhǔn)不確定度。8.2.4測(cè)量方法。8.2.5進(jìn)氣口壓力(如果可以)。8.2.6標(biāo)稱漏率值(如果可以)。9復(fù)校時(shí)間間隔漏孔的復(fù)校時(shí)間間隔建議為1年。由于復(fù)校時(shí)間間隔的長(zhǎng)短是由儀器的使用情況、使用者、儀器本身質(zhì)量等諸因素所決定的,因此,送校單位可根據(jù)實(shí)際使用情況自主決定復(fù)校時(shí)間間隔。JJF1833—20209附錄A真空漏孔校準(zhǔn)記錄格式客戶名稱客戶地址器具名稱型號(hào)/規(guī)格生產(chǎn)廠商出廠編號(hào)校準(zhǔn)日期校準(zhǔn)地點(diǎn)環(huán)境溫度℃環(huán)境濕度%RH證書編號(hào)其他標(biāo)準(zhǔn)器信息測(cè)量次數(shù)實(shí)測(cè)漏率值Pa·m3/s平均漏率值Pa·m3/s23℃漏率值Pa·m3/s123?校準(zhǔn)不確定度:漏孔類型:測(cè)量方法:進(jìn)氣口壓力:標(biāo)稱漏率值:校準(zhǔn)員:核驗(yàn)員:10附錄B真空漏孔校準(zhǔn)證書內(nèi)頁格式(推薦樣式)證書編號(hào):漏率值:(23℃)校準(zhǔn)不確定度:漏孔類型:測(cè)量方法:進(jìn)氣口壓力:標(biāo)稱漏率值:以下空白JJF1833—202011附錄C校準(zhǔn)不確定度評(píng)定示例C.1概述C.1.1環(huán)境條件:溫度為(23±5)℃,濕度≤80%RH。C.1.2測(cè)量標(biāo)準(zhǔn):相對(duì)比較法校準(zhǔn)裝置,測(cè)量范圍為(1×10-9~1×10-5)Pa·m3/s,相對(duì)擴(kuò)展不確定度為12%(k=2)。C.1.3被測(cè)對(duì)象:滲氦型真空漏孔。C.1.4測(cè)量過程:被測(cè)漏孔在校準(zhǔn)環(huán)境條件下放置16h以上。真空系統(tǒng)正常開啟,高溫烘烤除氣。待真空系統(tǒng)溫度降至室溫,將漏孔接入真空系統(tǒng),真空度達(dá)到10-5Pa后,開啟質(zhì)譜計(jì)燈絲和電子倍增器。質(zhì)譜計(jì)檢測(cè)到氦氣分壓力穩(wěn)定后(約2h),開始校準(zhǔn)。C.2測(cè)量模型漏孔漏率值的測(cè)量模型:QL23℃=QLT×[1-(T-23)×αLT](C.1)其中QLT的測(cè)量模型為:QLT=Qstd×[1+(Tstd-23)×αstd,T]××m1×m2(C.2)式中:QL23℃—待測(cè)漏孔23℃的漏率值,Pa·m3/s;Qstd—標(biāo)準(zhǔn)漏孔23℃的漏率值,Pa·m3/s;Tstd—校準(zhǔn)時(shí)標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度,℃;T—校準(zhǔn)時(shí)被測(cè)漏孔溫度,℃;αstd,T—標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度系數(shù),℃-1;αLT—待測(cè)漏孔溫度系數(shù),℃-1;IL—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀檢測(cè)到待測(cè)漏孔的信號(hào)值,A或Pa·m3/s;Istd—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀檢測(cè)到標(biāo)準(zhǔn)漏孔的信號(hào)值,A或Pa·m3/s; I0—質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀本底信號(hào)值,A或Pa·m3/s;m1—質(zhì)譜計(jì)線性系數(shù);m2—質(zhì)譜計(jì)穩(wěn)定性系數(shù)。對(duì)于漏率值大于1×10-9Pa·m3/s的漏孔,I0遠(yuǎn)小于IL,故此項(xiàng)可以忽略,測(cè)量模型(C.2)可簡(jiǎn)化為:ILIstdQLT=Qstd×[1+(Tstd-23)×αstd,ILIstd×m1×m2(C.3)由公式(C.3)可得:u(QLT)=[cr(Qstd)ur(Qstd)]2+[cr(Tstd)ur(Tstd)]2+[cr(αstd,T)ur(αstd,T)]2+[cr(IL)ur(IL)]2+[cr(Istd)ur(Istd)]2+[cr(m1)ur(m1)]2+[cr(m2)ur(m2)]2(C.4)JJF1833—202012其中相對(duì)靈敏系數(shù):cr(Tstd)=cr(Qstd)=×=1×=Tstd×αstd,T=23×0.03=0.69cr(αstd,T)×=αstd,T(Tstd-23)=-0.10~0.18(-0.02≤αstd,T≤0.035,18≤Tstd≤28)cr(IL)=×=1cr(Istd)=×=-1cr(m1)×=1cr(m2)×=1由公式(C.1)可得:u(QL23℃)=[cr(QLT)ur(QLT)]2+[cr(T)ur(T)]2+[cr(αLT)ur(αLT)]2(C.5) 其中相對(duì)靈敏系數(shù): cr(QLT)=×=1cr(T)=×=-T×αLT=-23×0.03=-0.69cr(αLT)=℃×?=-αLT(T-23)=-0.18~0.10(-0.02≤αstd,T≤0.035,18≤Tstd≤28)C.3輸入量的標(biāo)準(zhǔn)不確定度分量評(píng)定C.3.1標(biāo)準(zhǔn)漏孔分量ur(Qstd)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率值的不確定度包括兩項(xiàng),一是校準(zhǔn)證書中給出漏率值的不確定度,通常為5%;二是漏孔漏率隨時(shí)間衰減造成偏差,通常小于5%。注:如果標(biāo)準(zhǔn)漏孔可調(diào)節(jié)進(jìn)氣口壓力,使得其使用狀態(tài)與校準(zhǔn)狀態(tài)一致,則漏率衰減造成的不確定度可以忽略。如果標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率值進(jìn)行了衰減修正,漏率衰減造成的不確定度也可以忽略。ur(Qstd)取這兩項(xiàng)的方和根,估計(jì)為5%~7.1%。C.3.2待測(cè)漏孔和標(biāo)準(zhǔn)漏孔的質(zhì)譜計(jì)離子流分量ur(IL)和ur(Istd)在本實(shí)驗(yàn)中,質(zhì)譜計(jì)作為比較儀使用,因此取其一段時(shí)間內(nèi)的讀數(shù)值進(jìn)行A類評(píng)定。對(duì)于不同漏率的漏孔,離子流值相差很大,其離散性相差也較大,因此取量值為10-9Pa·m3/s和10-6Pa·m3/s的兩只漏孔分別進(jìn)行評(píng)定,見表C.1。JJF1833—202013表C.1質(zhì)譜計(jì)離子流不確定度評(píng)估參考漏孔漏率離子流ur(IL)和ur(Istd)10-9Pa·m3/s10-10A(電子倍增模式)2.0%10-6Pa·m3/s10-11A(法拉第筒模式)0.2%C.3.3質(zhì)譜計(jì)線性系數(shù)分量ur(m1)由于標(biāo)準(zhǔn)漏孔與待測(cè)漏孔僅保證漏率量級(jí)一致,故由于質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀線性引入的不確定度較大。當(dāng)然,當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率與待測(cè)漏孔漏率非常接近時(shí),該項(xiàng)不確定度則較小。如有實(shí)驗(yàn)證明所使用的質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀線性情況,可根據(jù)實(shí)際情況評(píng)估不確定度。如沒有相關(guān)實(shí)驗(yàn),可參照表C.2來評(píng)估。表C.2質(zhì)譜計(jì)或檢漏儀線性不確定度評(píng)估參考條件ur(m1)0.5≤≤23.0%0.2≤≤56.0%0.1≤≤1010%C.3.4質(zhì)譜計(jì)穩(wěn)定性系數(shù)分量ur(m2)通常認(rèn)為電離計(jì)的靈敏系數(shù)與真空系統(tǒng)的溫度呈反比關(guān)系,質(zhì)譜計(jì)測(cè)量原理與電離計(jì)基本相同,可參照電離計(jì)進(jìn)行評(píng)定。真空系統(tǒng)在校準(zhǔn)過程中,0.5℃,因此該項(xiàng)不確定度估計(jì)為0.2%。經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間對(duì)質(zhì)譜計(jì)進(jìn)行監(jiān)測(cè),質(zhì)譜計(jì)短時(shí)間(3min內(nèi))穩(wěn)定性小于0.5%。ur(m2)取這兩項(xiàng)的方和根,估計(jì)為0.54%。C.3.5標(biāo)準(zhǔn)漏孔和待測(cè)漏孔溫度分量ur(Tstd)和ur(T)使用不確定度優(yōu)于0.1℃(k=2)的溫度計(jì)測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)漏孔和被測(cè)漏孔溫度,考慮到漏孔溫度均勻性和溫度的波動(dòng),該項(xiàng)不確定度估計(jì)為0為0.87%。C.3.6標(biāo)準(zhǔn)漏孔和待測(cè)漏孔溫度系數(shù)分量ur(αstd,T)和ur(αLT)漏孔的溫度系數(shù)采用儀器銘牌標(biāo)稱的溫度系數(shù),相對(duì)不確定度按20%估計(jì)。C.4合成標(biāo)準(zhǔn)不確定度待測(cè)漏孔在溫度T的漏率值的不確定度一覽表如表C.3所示。JJF1833—202014表C.3溫度T時(shí)待測(cè)漏孔的不確定度一覽表序號(hào)符號(hào)來源輸入量的標(biāo)準(zhǔn)不確定度ur(xi)/%相對(duì)靈敏系數(shù)cr(xi)cr(xi)ur(xi)%1Qstd標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率5~7.115~7.12Tstd標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度0.870.690.63αstd,T標(biāo)準(zhǔn)漏孔溫度系數(shù)20-0.1~0.180~3.64IL待測(cè)漏孔信號(hào)0.2~2.010.2~2.05Ist

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