全球光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述

全球光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述目錄光刻機(jī)的全球市場(chǎng)空間光刻機(jī)的全球市場(chǎng)格局海外巨頭概覽核心要點(diǎn)光刻機(jī)的全球市場(chǎng)空間。受益于下游需求旺盛，光刻設(shè)備有望量?jī)r(jià)齊升帶動(dòng)市場(chǎng)空間不斷增長(zhǎng)。量：晶圓尺寸變大和制程縮小將使產(chǎn)線所需的設(shè)備數(shù)量加大，12寸晶圓產(chǎn)線中所需的光刻機(jī)數(shù)量相較于8寸晶圓產(chǎn)線將進(jìn)一步上升。同時(shí)預(yù)計(jì)2020年隨著半導(dǎo)體產(chǎn)線得到持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，光刻機(jī)需求也將進(jìn)一步加大。價(jià)：隨著芯片制程的不斷升級(jí)，IC前道光刻機(jī)制造日益復(fù)雜，其價(jià)格不斷攀升。光刻機(jī)的全球市場(chǎng)格局。目前光刻機(jī)行業(yè)已經(jīng)成為一個(gè)高度壟斷的行業(yè)，行業(yè)壁壘較高，全球前道制造光刻機(jī)市場(chǎng)基本被ASML、尼康、佳能壟斷，CR3高達(dá)99%。ASML一家獨(dú)占鰲頭，成為唯一的一線供應(yīng)商，Nikon高開(kāi)低走，但憑借多年技術(shù)積累，勉強(qiáng)保住二線供應(yīng)商地位；而Canon只能屈居三線；上海微電子裝備（SMEE）作為后起之秀，暫時(shí)只能提供低端光刻設(shè)備。對(duì)標(biāo)ASML：他山之石可以攻玉。在IC前道光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML一家獨(dú)大，高端EUV光刻機(jī)市占率高達(dá)100%。總結(jié)ASML的崛起之路：1、在全球維度，通過(guò)并購(gòu)、入股獲取光刻機(jī)各項(xiàng)關(guān)鍵子系統(tǒng)的尖端技術(shù)，貫通上游產(chǎn)業(yè)鏈，再進(jìn)行整機(jī)集成；2、針對(duì)頂尖工藝的巨額研發(fā)投入。2021年將會(huì)是全球晶圓廠設(shè)備支出的標(biāo)志性一年，增長(zhǎng)率為24％，達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的677億美元，比先前預(yù)測(cè)的657億美元高出10％，所有產(chǎn)品領(lǐng)域都有望實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定增長(zhǎng)。存儲(chǔ)器工廠將以300億美元的設(shè)備支出領(lǐng)先全球半導(dǎo)體領(lǐng)域；其次是領(lǐng)先的邏輯和代工廠，預(yù)計(jì)將以290億美元的投資排名第二。從產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)來(lái)看，存儲(chǔ)器廠成為投資主力，基于存儲(chǔ)芯片龍頭三星、海力士及美光二季度數(shù)據(jù)，服務(wù)器云計(jì)算、5G基礎(chǔ)建設(shè)將會(huì)帶動(dòng)相關(guān)芯片需求增長(zhǎng)。資料來(lái)源：SEMI，OFweek，方正證券研究所晶圓廠設(shè)備開(kāi)支（前端）從2月預(yù)測(cè)中推出的最低點(diǎn)增長(zhǎng)率設(shè)備（百萬(wàn)美元）2月預(yù)測(cè)增長(zhǎng)率5月預(yù)測(cè)增長(zhǎng)率全球晶圓廠設(shè)備開(kāi)支預(yù)測(cè)晶圓廠資本開(kāi)支加速帶動(dòng)設(shè)備需求光刻機(jī)全球市場(chǎng)未來(lái)預(yù)測(cè)受益于下游需求旺盛，光刻設(shè)備有望量?jī)r(jià)齊升帶動(dòng)市場(chǎng)空間不斷增長(zhǎng)。價(jià)：隨著芯片制程的不斷升級(jí)，IC前道光刻機(jī)制造日益復(fù)雜，其價(jià)格不斷攀升。先進(jìn)制程發(fā)展使得晶體管成本降低，但是光刻機(jī)價(jià)格不斷增高。目前7nm

EUV光刻機(jī)平均每臺(tái)價(jià)格達(dá)到了1.2億歐元。量：晶圓尺寸變大和制程縮小將使產(chǎn)線所需的設(shè)備數(shù)量加大，性能要求變高。12寸晶圓產(chǎn)線中所需的光刻機(jī)數(shù)量相較于8寸晶圓產(chǎn)線將進(jìn)一步上升。同時(shí)預(yù)計(jì)2020年隨著半導(dǎo)體產(chǎn)線得到持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，光刻機(jī)需求也將進(jìn)一步加大。資料來(lái)源：中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)，方正證券研究所光刻機(jī)和晶體管的價(jià)格變化趨勢(shì) 12寸晶圓產(chǎn)線需要的光刻設(shè)備更多晶體管均價(jià)光刻機(jī)價(jià)格光刻機(jī)平均每像素成本1960 1970 1980 1990 2000 2010 202009876543218寸線 12寸線（成熟制程） 12寸線（先進(jìn)制程）制造產(chǎn)線所需光刻機(jī)數(shù)量（臺(tái)/1萬(wàn)晶圓/月）全球格局三足鼎立，ASML龍頭地位突顯目前全球光刻設(shè)備的格局是：ASML一家獨(dú)占鰲頭，成為唯一的一線供應(yīng)商，旗下產(chǎn)品覆蓋了全部級(jí)別的光刻機(jī)設(shè)備；Nikon高開(kāi)低走，但憑借多年技術(shù)積累，勉強(qiáng)保住二線供應(yīng)商地位；而Canon只能屈居三線；上海微電子裝備（SMEE）作為后起之秀，暫時(shí)只能提供低端光刻設(shè)備，由于光刻設(shè)備對(duì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)和供應(yīng)鏈要求極高，短期很難達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。目前光刻機(jī)行業(yè)已經(jīng)成為一個(gè)高度壟斷的行業(yè)。如果沒(méi)有特別原因，這一格局在未來(lái)的時(shí)間里都很難發(fā)生變化。資料來(lái)源：電子說(shuō)，方正證券研究所全球格局三足鼎立，ASML龍頭地位突顯從全球角度來(lái)看，半導(dǎo)體前道光刻機(jī)長(zhǎng)期由ASML、尼康和佳能三家把持，從2012-2019歷年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)出貨比例可以看出，ASML，尼康，佳能三家公司幾乎占據(jù)了99%的市場(chǎng)份額，其中ASML光刻機(jī)市場(chǎng)份額常年在60%以上，市場(chǎng)地位極其穩(wěn)固。2012-2019年的半導(dǎo)體前道光刻機(jī)市場(chǎng)份額變化 2011-2019年三大公司各品類(lèi)累計(jì)出貨量（臺(tái)）0%10%20%30%40%50%60%70%2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019ASMLNikon Canon018001600140012001000800600400200CANONASML NIKONEUV ARFI ArFKrF i-line資料來(lái)源：ASML、Nikon、Canon官網(wǎng)，方正證券研究所高端市場(chǎng)AMSL一枝獨(dú)秀頂級(jí)光刻機(jī)市場(chǎng)ASML一家獨(dú)大。2019年的光刻機(jī)高端市場(chǎng)中，EUV方面ASML獨(dú)占鰲頭，市占率100%。從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來(lái)看，全年共出貨154臺(tái)，其中ASML出貨130臺(tái)，在高端市場(chǎng)占有84%的份額。Nikon在高端光刻機(jī)市場(chǎng)仍有一席之地，Canon則完全退出高端市場(chǎng)，將其業(yè)務(wù)重點(diǎn)集中于中低端光刻機(jī)市場(chǎng)。中低端光刻機(jī)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)激烈，產(chǎn)品包括封裝光刻機(jī)、LED光刻機(jī)以及面板光刻機(jī)等，與復(fù)雜的IC前道制造相比，工藝要求和技術(shù)壁壘較低，

Canon憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)拿下不少的中低端市場(chǎng)份額。2019年度全球高端光刻機(jī)銷(xiāo)售情況2019年度全球高端光刻機(jī)市占率情況0%20%40%60%80%100%EUVArFASMLArFiNikonCanon140120100806040200ASMLCanonNikonEUV ArFi ArF資料來(lái)源：ASML、Nikon、Canon官網(wǎng)，方正證券研究所ASML：高端光刻機(jī)的龍頭ASML成立于1984年，是世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一，其唯一產(chǎn)品類(lèi)型就是集成電路制造環(huán)節(jié)中最核心的設(shè)備——光刻機(jī)。對(duì)內(nèi)：ASML不斷投入巨額研發(fā)費(fèi)用，集合美國(guó)、歐洲科研力量，掌握了EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)，從而奠定了在高端光刻機(jī)的龍頭地位。對(duì)外：通過(guò)并購(gòu)競(jìng)購(gòu)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，不斷布局光刻機(jī)領(lǐng)域關(guān)鍵技術(shù)；同時(shí)加強(qiáng)與三星，英特爾和臺(tái)積電等世界頂級(jí)芯片制造商的通力合作。ASML通過(guò)攜手行業(yè)上下游，不斷鞏固市場(chǎng)龍頭地位。1995飛利浦出售其剩余股份，ASML成為一家完全獨(dú)立的上市公司，在阿姆斯特丹和納斯達(dá)克證券交易所上市2000收購(gòu)了硅谷集團(tuán)，并將康涅狄格州的威爾頓作為研發(fā)和制造地點(diǎn)2001推出了TWINSCAN系統(tǒng)及其革命性的雙階段技術(shù)2007發(fā)運(yùn)了第一個(gè)浸入式系統(tǒng)，收購(gòu)了領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造優(yōu)化解決方案提供商BRION2012與三個(gè)主要客戶-英特爾，臺(tái)積電和三星共同開(kāi)發(fā)了客戶聯(lián)合投資計(jì)劃2016-2017通過(guò)收購(gòu)HMI擴(kuò)展了HolisticLithography產(chǎn)品組合。聯(lián)合ASML和HMI工作于2017年首次出貨ePfm51988ASMI退出ASML合資公司，并被飛利浦收購(gòu)2013收購(gòu)了位于圣地亞哥的光刻光源制造商Cymer1984飛利浦和ASMI成立了ASML開(kāi)發(fā)光刻系統(tǒng)，推出了第一個(gè)系統(tǒng)PAS2000步進(jìn)器1986推出PAS

2500步進(jìn)器，與鏡片制造商卡爾蔡司建立了密切的合作關(guān)系2019ASML宣布同意收購(gòu)位于荷蘭代爾夫特的高科技公司Mapper的知識(shí)產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML：迭代產(chǎn)品，拉大差距ASML旗下的TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。最新的TWINSCAN

NXE:3400C可用于生產(chǎn)5nm的芯片，2019年共交付了9臺(tái)。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機(jī)型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型，全部為沉浸式。預(yù)估2021年將推出0.55NA的新機(jī)型EXE:5000樣機(jī)，可用于2納米生產(chǎn)。ASML產(chǎn)品對(duì)比：ArFi

vs

EUV資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ArFi

(193nm)EUV

(13.5nm)透射光學(xué)（透鏡）反射光學(xué)（布拉格反射鏡）準(zhǔn)分子激光源激光等離子體源浸沒(méi)式（NA

of

water=1.33）真空度（NA=0.33）ASML：創(chuàng)新的股權(quán)結(jié)構(gòu)ASML為了籌集EUV光刻機(jī)的研發(fā)資金，于2012年提出“客戶聯(lián)合投資計(jì)劃”：客戶可通過(guò)注資的方式成為股東后擁有優(yōu)先訂貨權(quán)。這樣一來(lái)，ASML的研發(fā)資金壓力轉(zhuǎn)移到了客戶身上，客戶需要為先進(jìn)光刻技術(shù)的研發(fā)買(mǎi)單，但同時(shí)也會(huì)擁有對(duì)先進(jìn)技術(shù)的優(yōu)先使用權(quán)。該計(jì)劃一經(jīng)推出，ASML以23%的股權(quán)共籌得53億歐元資金。ASML在2019年共向客戶交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)。其中，有9臺(tái)是最新型號(hào)，即NXE:3400C，這些新型號(hào)的光刻機(jī)被用于7nn

EUV工藝的制造。其中有一半給了臺(tái)積電，其余給了三星、英特爾等有晶圓業(yè)務(wù)的公司。ASML三

星臺(tái)積電英特爾41億美元股權(quán)投資10億美元研發(fā)支持ASML資本國(guó)際集團(tuán)貝萊德集團(tuán)吉福德集團(tuán)15.2%4.35%6.52%2012年ASML研發(fā)獲得注資 2020年1月ASML股權(quán)結(jié)構(gòu)變化5.03億歐元股權(quán)投資2.75億歐元研發(fā)支持8.38億歐元股權(quán)投資注資美國(guó)英國(guó)資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML：穩(wěn)固的產(chǎn)業(yè)生態(tài)塑造極強(qiáng)的護(hù)城河資料來(lái)源：半導(dǎo)體設(shè)備資訊站，方正證券研究所ASML：營(yíng)收及凈利潤(rùn)情況在2019年下半年，內(nèi)存芯片客戶需求趨弱，而邏輯芯片客戶需求走強(qiáng)。2019年ASML的凈銷(xiāo)售額為118.2億歐元（約907.3億人民幣），同比增長(zhǎng)8%，凈利潤(rùn)為25.9億歐元（約198.9億人民幣），同比增長(zhǎng)3%。未來(lái)邏輯芯片客戶強(qiáng)勁的需求將彌補(bǔ)在存儲(chǔ)芯片方面的需求減緩。由于半導(dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新，以及5G技術(shù)的成熟推動(dòng)多種場(chǎng)景的落地，ASML預(yù)計(jì)未來(lái)營(yíng)收將實(shí)現(xiàn)穩(wěn)步增長(zhǎng)。ASML2014-2019年?duì)I收及增長(zhǎng) ASML2014-2019年歸母凈利潤(rùn)及其增長(zhǎng)35%30%25%20%15%10%5%0%140120100806040200201420152016 2017 20182019營(yíng)業(yè)收入(億歐元) 營(yíng)收同比增長(zhǎng)0%10%20%30%40%50%0.005.0010.0015.0020.0025.0030.00歸母凈利潤(rùn)(億歐元)2014 2015 2016 2017 2018 2019同比增速資料來(lái)源：ASML年報(bào)，方正證券研究所ASML:2019年?duì)I收重點(diǎn)由存儲(chǔ)轉(zhuǎn)為邏輯從光刻機(jī)收入按下游應(yīng)用拆分可以看出，邏輯芯片在2019年按下游應(yīng)用拆分的光刻收入中占比73%，存儲(chǔ)芯片占比27%，邏輯芯片成為主要來(lái)源。從ASML營(yíng)業(yè)收入按下游應(yīng)用拆分可以看出，2019年之前ASML營(yíng)收增長(zhǎng)的主要?jiǎng)恿?lái)源于存儲(chǔ)芯片，其營(yíng)收占比從2016的22.1%，一路增長(zhǎng)至2018的41.5%，但是在2019年實(shí)現(xiàn)反轉(zhuǎn)，存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)需求疲軟，而邏輯芯片需求逆勢(shì)走強(qiáng)。ASML2014年以來(lái)光刻機(jī)收入按下游應(yīng)用拆分200604080140120100201420192015 2016已安裝的基礎(chǔ)管理2017 2018邏輯 存儲(chǔ)ASML2019年光刻機(jī)收入按下游應(yīng)用拆分73.00%27.00%邏輯存儲(chǔ)資料來(lái)源：ASML年報(bào)，方正證券研究所ASML:光刻機(jī)營(yíng)收按產(chǎn)品及地區(qū)劃分從光刻機(jī)收入按產(chǎn)品拆分可以看出，目前ASML的主流光刻機(jī)仍為ArFi，2019年?duì)I收占比為53%，但隨著EUV被更多大廠采用，我們認(rèn)為EUV占比在未來(lái)幾年會(huì)迅速增長(zhǎng)。從ASML光刻機(jī)銷(xiāo)售凈額可以看到，三星，海力士，臺(tái)積電，英特爾作為ASML的大客戶，韓國(guó)，中國(guó)臺(tái)灣以及美國(guó)成為了ASML光刻機(jī)的主要出貨地區(qū)，2019年銷(xiāo)售凈額占比分別為18%、45%和17%。ASML2019年光刻機(jī)銷(xiāo)售收入按產(chǎn)品拆分ASML2019年光刻機(jī)銷(xiāo)售凈額按地區(qū)拆分資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML：出貨統(tǒng)計(jì)及銷(xiāo)售額情況從ASML光刻機(jī)2017-2019年出貨統(tǒng)計(jì)圖可以發(fā)現(xiàn)，其出貨增長(zhǎng)主要來(lái)源于EUV，其中EUV2019年較2018年增長(zhǎng)8臺(tái)，若以1億歐元計(jì)價(jià)，營(yíng)收將貢獻(xiàn)8億歐元，高端光刻機(jī)成為ASML出貨增長(zhǎng)的主要驅(qū)動(dòng)力。從ASML2019年光刻機(jī)銷(xiāo)售額統(tǒng)計(jì)圖可以看出，ASML2019年全球光刻機(jī)總銷(xiāo)售額為90億歐元，光刻機(jī)總出貨為229臺(tái)，平均每臺(tái)光刻機(jī)價(jià)格價(jià)格為0.39億歐元，2020年將有望迎來(lái)量?jī)r(jià)齊升。ASML2017年以來(lái)光刻機(jī)出貨統(tǒng)計(jì)（臺(tái)）ASML2017-2019年銷(xiāo)售額變化0501001502002502017 2018EUV ArF ArFdry2019KrF i-line63.782.690.01009080706050403020100201720192018光刻機(jī)銷(xiāo)售總額（億歐元）資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML:盈利能力及研發(fā)支出從長(zhǎng)期的盈利能力來(lái)看，ASML盈利能力穩(wěn)健增長(zhǎng)。毛利率從2008年34.4%，增長(zhǎng)到2019年的44.7%，凈利率從2008年10.9%，增長(zhǎng)到2019年的21.9%，但近幾年盈利能力保持穩(wěn)定。ASML2019年研發(fā)費(fèi)用高達(dá)19.6億歐元，占營(yíng)業(yè)收入比重為16.6%。ASML在光刻設(shè)備市場(chǎng)具有不可撼動(dòng)的霸主地位，尼康和佳能難以與之抗衡的一大重要原因在于其巨額研發(fā)投入撐起高端產(chǎn)品的競(jìng)爭(zhēng)力，對(duì)于ASML來(lái)講，研發(fā)其實(shí)是研發(fā)組裝技術(shù)和核心部件，因?yàn)楣饪虣C(jī)有90%的部件是全球采購(gòu)的，不是ASML生產(chǎn)的，這種模式比佳能和尼康的“單槍匹馬”研發(fā)模式更具效率和靈活性。資料來(lái)源：wind，方正證券研究所0102030402016年以來(lái)ASML毛利率與凈利率變化 ASML

2016年以來(lái)研發(fā)支出情況50201620192017銷(xiāo)售凈利率%2018銷(xiāo)售毛利率%13%13%14%14%15%15%16%16%17%17%051015202520162017研發(fā)費(fèi)用（億歐元)2018

2019研發(fā)費(fèi)用占營(yíng)收比例ASML：拳頭產(chǎn)品EUV的優(yōu)勢(shì)資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所成本降低15~50%大幅度減少工藝時(shí)間大幅提升客戶的銷(xiāo)售凈利潤(rùn)EUV突破了傳統(tǒng)光刻機(jī)的7nm技術(shù)瓶頸，擁有巨大的商業(yè)前景對(duì)比傳統(tǒng)光刻機(jī)，EUV光刻為客戶所帶來(lái)的價(jià)值5nm及以下制程，EUV將成為必備工具技術(shù)領(lǐng)域的革命性突破商業(yè)上的巨大前景1.2倍的密度提升同等功耗下10%的性能增幅EUV13.5nm光刻分辨率VS傳統(tǒng)光刻機(jī)193nm紫外光EUV14層掩膜層VS傳統(tǒng)光刻機(jī)27層掩膜層EUV光刻機(jī)全新晶體管結(jié)構(gòu)全新工藝材料EUV單一圖案鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管金屬柵電極疊層技術(shù)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)：EUV成為大勢(shì)所趨第一代 第二代 第三代資料來(lái)源：中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息，ASML，方正證券研究所第四代第五代0100200波長(zhǎng)（nm）50040030043636524819313.5光源：g-line接觸接近式800-250nm制程光源：i-line接觸接近式800-250nm制程光源：KrF掃描投影式180-130nm制程光源：ArF步進(jìn)投影式130-65nm制程浸沒(méi)步進(jìn)式45-22nm制程光源：EUV極紫外式22-7nm制程DryEUVArFi2025E目前AMSL一半以上的收入來(lái)自于ArFi，但是預(yù)計(jì)2025年EUV將會(huì)給ASML帶來(lái)超過(guò)75%的營(yíng)收

AMSL光刻機(jī)收入占比

EUV光刻機(jī)：引領(lǐng)未來(lái)ASML當(dāng)前的生產(chǎn)是使用0.33NA數(shù)值孔徑系統(tǒng)完成的，未來(lái)計(jì)劃在3nm處引入0.55NA的形變鏡頭，可以提高光刻機(jī)的分辨率和生產(chǎn)率。毫無(wú)疑問(wèn)，EUV現(xiàn)在是用于領(lǐng)先工藝的關(guān)鍵光刻的首選解決方案，將支持未來(lái)十年的應(yīng)用。EUV技術(shù)擴(kuò)展到0.33NA和0.55NA支持超出了未來(lái)十年的應(yīng)用EUV將延伸到0.33NA以提供最先進(jìn)廣泛的覆蓋和節(jié)點(diǎn)到節(jié)點(diǎn)的生產(chǎn)力改進(jìn)EUV0.33NA20162017201820192020202120222023…2025NXE3350B NXE:3400B?2.5nm|125wph?2.0nm|125wphOverlay

Tput?1.5nm

?155NXE:3400C1.5nm|170wphNXE

Next<1.1nm|≥185wphEUV0.33NA0.55NA分分辨辨率率High

NA1.1nm

|185wph3nm處引入0.55NAEUV0.55NA資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML客戶擴(kuò)建情況各大代工廠擴(kuò)建來(lái)安裝EUV系統(tǒng)，用以提升工藝水平資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所ASML中國(guó)業(yè)務(wù)隨著行業(yè)的發(fā)展而增長(zhǎng)ASML在中國(guó)的系統(tǒng)銷(xiāo)售和員工13遍布中國(guó)的辦事處2研發(fā)中心1培訓(xùn)中心1倉(cāng)庫(kù)1000 員工通過(guò)在中國(guó)開(kāi)設(shè)公司，ASML在中國(guó)的銷(xiāo)售快速增長(zhǎng)：中國(guó)北部（2個(gè)新晶圓廠）中國(guó)西部（2個(gè)新晶圓廠）中國(guó)東部（3個(gè)新晶圓廠）中國(guó)中部（2個(gè)新晶圓廠）上海（2個(gè)新晶圓廠）中國(guó)南部（4個(gè)新晶圓廠）系統(tǒng)銷(xiāo)售額員工ASML在中國(guó)的布局逐漸深化，設(shè)立了多家工廠、研發(fā)中心，擁有1000多名員工。隨著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)業(yè)務(wù)的不斷發(fā)展，ASML在中國(guó)的業(yè)務(wù)也不斷增長(zhǎng)。資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所光刻機(jī)未來(lái)前景受益于5G時(shí)代、AI、自動(dòng)駕駛等技術(shù)的普及，ASML

光刻機(jī)的訂單和收入強(qiáng)勁增長(zhǎng)有望在未來(lái)幾年持續(xù)，2025

年ASML預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)收入500億美元左右，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為15.8%。CAGR=15.8%智能手機(jī)+APP時(shí)代個(gè)人電腦+瀏覽器時(shí)代百萬(wàn)自動(dòng)駕駛?cè)斯ぶ悄艽髷?shù)據(jù)虛擬現(xiàn)實(shí)400500600300200100020172018201920202021202220232024

2025全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模（億美元）資料來(lái)源：ASML，方正證券研究所尼康：發(fā)揮面板光刻比較優(yōu)勢(shì)尼康（Nikon），是日本的一家著名相機(jī)制造商，成立于1917年，當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)株式會(huì)社。1988年該公司依托其照相機(jī)品牌，更名為尼康株式會(huì)社。尼康最早通過(guò)相機(jī)和光學(xué)技術(shù)發(fā)家，1980年開(kāi)始半導(dǎo)體光刻設(shè)備研究，1986年推出第一款FPD光刻設(shè)備，2006推出ArF液浸式掃描光刻機(jī)。如今，尼康既是相機(jī)制造商，也是半導(dǎo)體和面板光刻設(shè)備制造商，還生產(chǎn)護(hù)目鏡，雙筒望遠(yuǎn)鏡，顯微鏡，勘測(cè)器材等，業(yè)務(wù)覆蓋范圍廣泛。資料來(lái)源：尼康，方正證券研究所尼康：業(yè)務(wù)拆分及應(yīng)用領(lǐng)域尼康的業(yè)務(wù)可拆分成四大事業(yè)部：影像事業(yè)、精機(jī)事業(yè)、醫(yī)療健康事業(yè)以及工業(yè)儀器及其他。其中，精機(jī)事業(yè)是指通過(guò)制造LCD液晶面板和有機(jī)電致發(fā)光（OLED）面板的平板顯示（FPD）曝光裝置，以及制造用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的半導(dǎo)體曝光裝置的開(kāi)發(fā)與研究，推動(dòng)超智能社會(huì)的實(shí)現(xiàn)。集成電路芯片和高分辨率平板顯示器是推動(dòng)IoT和AI進(jìn)步的關(guān)鍵。尼康從事這些部件的電路圖曝光制造系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn)，助力智能社會(huì)的創(chuàng)建。

尼康產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域 資料來(lái)源：尼康，方正證券研究所尼康：發(fā)揮面板光刻比較優(yōu)勢(shì)在FPD光刻方面，尼康則可發(fā)揮其比較優(yōu)勢(shì)。尼康的機(jī)器范圍廣泛，從采用獨(dú)特的多鏡頭投影光學(xué)系統(tǒng)處理大型面板到制造智能設(shè)備中的中小型面板，為全球領(lǐng)先的制造商提供多樣化的機(jī)器。尼康平板顯示器的制造工藝以及FPD曝光裝置掩模板玻璃面板接收測(cè)試曝光檢測(cè)和維修整列工藝（TFT制作工藝）FPD曝光裝置電池和模塊工藝玻璃面板尺寸第六代:1500*1850mm第8代:2200*2500mm第10.5代:2940*3370mm資料來(lái)源：尼康，方正證券研究所尼康：營(yíng)收下降加速，歸母凈利下滑尼康在經(jīng)歷了2017年和2018年利潤(rùn)的大幅增長(zhǎng)后，2019年遭遇業(yè)績(jī)大幅滑坡。據(jù)尼康2019年（2019年4月至2020年3月）財(cái)報(bào)顯示，該年度公司合并年?duì)I收下滑至5,910.12億日元，下滑幅度16.6%，扣非后歸母凈利潤(rùn)下滑至76.93億日元，下滑幅度高達(dá)88.40%。圖像產(chǎn)品收入同比減少最為嚴(yán)重，2020年受到輿情的影響，市場(chǎng)對(duì)于高端產(chǎn)品的需求反彈緩慢，不排除連續(xù)明年虧損的可能性。尼康2014-2019年?duì)I收及增長(zhǎng)率尼康2014-2019年扣非后歸母凈利潤(rùn)及增長(zhǎng)率-20%-15%-10%-5%0%5%10%15%1,000,000900,000800,000700,000600,000500,000400,000300,000200,000100,000020142015

2016

2017營(yíng)收（百萬(wàn)日元）2018

2019同比增長(zhǎng)%900%800%700%600%500%400%300%200%100%0%-100%-200%010,00020,00030,00040,00050,00060,00070,0002014201820192015

2016

2017歸母凈利潤(rùn)（百萬(wàn)日元）同比增長(zhǎng)資料來(lái)源：尼康，方正證券研究所尼康：營(yíng)收結(jié)構(gòu)分析從營(yíng)收產(chǎn)品結(jié)構(gòu)來(lái)看，影像事業(yè)和精密設(shè)備2019年分別實(shí)現(xiàn)營(yíng)收2973億日元以及2749億日元，合計(jì)占比超過(guò)70%，成為支撐營(yíng)收的主要來(lái)源。從營(yíng)收地區(qū)結(jié)構(gòu)來(lái)看，尼康面向全球，提供用于智能設(shè)備高清晰面板的制造裝置、長(zhǎng)期以來(lái)深受人們喜愛(ài)的照相機(jī)等各種產(chǎn)品，其銷(xiāo)售額的80%以上來(lái)自日本以外，2019年日本地區(qū)營(yíng)收占比只有13%。尼康2019年?duì)I收地區(qū)結(jié)構(gòu)尼康2019年?duì)I收產(chǎn)品結(jié)構(gòu)38.57%35.58%8.44%17.27%影像產(chǎn)品精密設(shè)備醫(yī)療健康工業(yè)設(shè)備及其他13.02%24.29%16.68%28.15%17.86%日本美國(guó)歐洲中國(guó)其他資料來(lái)源：Wind，方正證券研究所尼康：光刻機(jī)貢獻(xiàn)利潤(rùn)巨大從毛利率走勢(shì)來(lái)看，尼康毛利率整體呈現(xiàn)上漲走勢(shì)，從2009的29.7%，不斷增長(zhǎng)至2019年的超過(guò)40%，盈利能力不斷增強(qiáng)。而其凈利率也在19年翻了一番。從營(yíng)業(yè)利潤(rùn)結(jié)構(gòu)來(lái)看，精密設(shè)備以35%的營(yíng)收占比，支撐75%的營(yíng)收利潤(rùn)，可見(jiàn)在尼康的盈利體系中，光刻機(jī)占據(jù)主導(dǎo)地位，是盈利的主要來(lái)源。尼康2016-2019年毛利率走勢(shì)圖尼康2019年?duì)I業(yè)利潤(rùn)結(jié)構(gòu)20%75%-2%6%影像產(chǎn)品精密設(shè)備醫(yī)療健康工業(yè)設(shè)備及其他50%45%40%35%30%25%20%15%10%5%0%2016201720182019銷(xiāo)售毛利率銷(xiāo)售凈利率資料來(lái)源：Wind，方正證券研究所尼康：光刻機(jī)出貨量結(jié)構(gòu)從尼康光刻機(jī)出貨量可以看出，尼康光刻機(jī)以面板光刻為主，通過(guò)發(fā)揮面板光刻的比較優(yōu)勢(shì)，尼康歷年FPD光刻機(jī)的出貨量在70%左右。2019年，Nikon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨40臺(tái)，較2018年減少33臺(tái)。但其10.5代線用光刻機(jī)出貨量從2018年出貨14臺(tái)增長(zhǎng)到2019年的22臺(tái)。從芯片光刻機(jī)出貨量可以看出，尼康在芯片光刻技術(shù)上遠(yuǎn)不及ASML，目前的產(chǎn)品還停留在ArF和KrF光源，和ASML的EUV難以相提并論。尼康光刻機(jī)出貨量（單位：臺(tái)） 尼康芯片光刻機(jī)出貨量（單位：臺(tái)）02040608010012020172019芯片光刻機(jī)2018面板光刻機(jī)50454035302520151050201720192018ArFi ArF KrF i-line資料來(lái)源：Wind，方正證券研究所尼康：研發(fā)投入情況尼康研發(fā)投入持續(xù)增長(zhǎng)，但其中對(duì)于光刻設(shè)備的投入比重卻在下降。從2008年260億日元一路下降至2017年160億日元，到2019年才勉強(qiáng)恢復(fù)到2016年的水平?？梢钥闯?，隨著芯片光刻機(jī)進(jìn)入EUV時(shí)代，尼康在高端光刻機(jī)領(lǐng)域逐漸力不從心，佳能更是直接退出高端的競(jìng)爭(zhēng)，ASML從此奠定壟斷地位。佳能與尼康2019年研發(fā)占營(yíng)業(yè)收入比重僅為8%左右，遠(yuǎn)低于ASML17%。尼康FY2016年以來(lái)研發(fā)支出情況2015年以來(lái)三家公司研發(fā)占營(yíng)收比重對(duì)比18%16%14%12%10%8%6%4%2%0%20152016201720182019ASMLNikonCannon資料來(lái)源：Wind，方正證券研究所資料來(lái)源：尼康，方正證券研究所尼康：最新的頂尖制程光刻機(jī)產(chǎn)品尼康旗下最新的光刻機(jī)產(chǎn)品為ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S635E，搭載高性能對(duì)準(zhǔn)站inline

Alignment

Station（iAS），曝光光源ArF

準(zhǔn)分子激光器（193納米波長(zhǎng)），分辨率≦38nm，這款光刻機(jī)專為5nm工藝制程量產(chǎn)而開(kāi)發(fā)，與阿斯麥的高端光刻機(jī)NXT2000i可以一較高下。ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S635E指標(biāo)分辨率NA1.35曝光光源ArF

準(zhǔn)分子激光器（193納米波長(zhǎng)）縮小倍率1:4最大曝光范圍重合精度產(chǎn)出尼康NSR-S635E資料來(lái)源：佳能官網(wǎng)，方正證券研究所佳能：光電為主，光刻為輔佳能是日本的一家全球領(lǐng)先的生產(chǎn)影像與信息產(chǎn)品的綜合集團(tuán)，在20世紀(jì)90年代早期，佳能推出了其i-line光刻設(shè)備，并實(shí)現(xiàn)了小型化水平，使350nm模式成為可能。后來(lái)，開(kāi)發(fā)了更短波長(zhǎng)的光源，最終在21世紀(jì)后期開(kāi)發(fā)了ArF浸沒(méi)式光刻設(shè)備，實(shí)現(xiàn)了38nm模式。佳能：主營(yíng)業(yè)務(wù)拆分佳能一般將業(yè)務(wù)劃分為四個(gè)分部：辦公產(chǎn)品、影像系統(tǒng)產(chǎn)品、醫(yī)療系統(tǒng)和產(chǎn)業(yè)設(shè)備及其他。通過(guò)能夠?qū)崿F(xiàn)半導(dǎo)體電路圖案小型化的技術(shù)，芯片性能得到了顯著提高。佳能開(kāi)發(fā)和制造最先進(jìn)的半導(dǎo)體光刻設(shè)備，用于壓印電路圖案，實(shí)現(xiàn)小型化和提高生產(chǎn)率。目前，我們正在進(jìn)行納米壓印光刻技術(shù)的下一代半導(dǎo)體制造設(shè)備的研發(fā)，這將進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)小型化和降低成本。佳能業(yè)務(wù)拆分辦公產(chǎn)品影像系統(tǒng)產(chǎn)品醫(yī)療系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)設(shè)備及其他全球占比26%資料來(lái)源：佳能官網(wǎng)，方正證券研究所全球占比56%FPD全球占比第一芯片光刻設(shè)備全球占比第二佳能：光刻工藝與納米壓印光刻對(duì)比隨著各公司試圖在EUV光源等方面取得突破，佳能選擇了不同的方法。該公司試圖通過(guò)一種以更低成本實(shí)現(xiàn)小型化的新技術(shù)，而不是試圖縮短光波長(zhǎng)。該技術(shù)被稱為納米壓印光刻（NIL），并且預(yù)期其將導(dǎo)致半導(dǎo)體工業(yè)中的創(chuàng)新，因?yàn)槠涫沟每梢酝ㄟ^(guò)使用簡(jiǎn)單工藝以15nm或更小的規(guī)模以更低成本制造圖案。光刻工藝與納米壓印光刻對(duì)比光刻N(yùn)IL抗蝕劑（樹(shù)脂）

光線

移除抗蝕劑（樹(shù)脂）硅片硅片紫外線模具資料來(lái)源：佳