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文檔簡介

1、黃光工藝原理轉(zhuǎn)矩,p.r Stripping,cleaning,film dep。mask exp。developer、film etche Alignment compensation factors、mask or plate rotation(mask or plate)orthogonalY) shift后的位置(X Sx,Y Sy) Sx,Sy-3360 X,Y方向的Shift量,Shift,X軸Rotation - Rx原始位置(X,y) rx Y=(ry rx)rx;Magnification,原始定義位置(X,Y)屬于shot,位于中心坐標(biāo)位置(X,Y) Magnificati

2、on之后的位置3360 (x (x-x) *,即位置定義(X,Y) Y) Scaling后面的位置(x x * c,y y * c),distortion,distortion Mix and matching,grid registration errors while scannens from a perfect grid . when a single scanner is used for both the substrate and overlaying layers,These average deviations cancel out . grid registing、stage mirrors、laser、

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