Ledit使用技巧陳老師

1、L-EDIT 使用技巧4.3 集成電路自動(dòng)設(shè)計(jì)工具軟件掩模版圖編輯操作 利用計(jì)算集成電路自動(dòng)設(shè)計(jì)工具軟件 L-EDIT 實(shí)現(xiàn)移相掩模圖形布局設(shè)計(jì)及交互式圖形編輯。Tanner Research,Inc.開(kāi)發(fā)的一種很優(yōu)秀的集成電路設(shè)計(jì)工具 (Tanner IC Design Tools) 軟件，最大的特點(diǎn)是可用于任何個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC機(jī))、它不僅具有強(qiáng)大的集成電路設(shè)計(jì)、模擬驗(yàn)證、版圖編輯和自動(dòng)布局布線等功能，而且圖形處理速度快、編輯功能強(qiáng)、通俗易學(xué)、使用方便，很實(shí)用于任何個(gè)人進(jìn)行集成電路設(shè)計(jì)或其它微細(xì)圖形加工的版圖設(shè)計(jì)工作。早期（1988）Tanner EDA Tools是一種可以運(yùn)行于PC-DO

2、S或MS-DOS操作系統(tǒng)的IBM PC及其兼容機(jī)的交互式集成電路版圖設(shè)計(jì)工具軟件包、（當(dāng)然也能運(yùn)行于Macintoshcs蘋(píng)果機(jī)和帶X-windos的UNIX工作站），通過(guò)十多年的擴(kuò)充、改進(jìn)，幾乎每年都有一種新的修改版，到目前已經(jīng)推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其強(qiáng)大的EDA功能不比SUN 工作站上運(yùn)行的Cadence設(shè)計(jì)軟件遜色，可以用來(lái)完成任何復(fù)雜度的IC設(shè)計(jì)，但它卻能夠運(yùn)行于任何微機(jī)上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各種操作系統(tǒng)平臺(tái)上，為設(shè)計(jì)軟件的普及、推廣、應(yīng)用創(chuàng)造了非常有

3、利的條件。教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本為基礎(chǔ)對(duì)Tanner集成電路設(shè)計(jì)工具軟件作全面的介紹，拋磚引玉，讀者可以在此基礎(chǔ)上，對(duì)其他版本功能作進(jìn)一步探討。整個(gè)設(shè)計(jì)工具大體上可以歸納為兩大部分，即以S-Edit為核心的集成電路設(shè)計(jì)、模擬、驗(yàn)證模塊和以L-Edit為核心的集成電路版圖編輯與自動(dòng)布圖布線模塊。前者包括電路圖編輯器S-Edit、電路模擬器T-Spice和高級(jí)模型軟件、波形編輯器W-Edit、NetTran網(wǎng)表轉(zhuǎn)換器、門(mén)電路模擬器GateSim以及工藝映射庫(kù)、符合庫(kù)SchemLib、Spice元件庫(kù)等軟件包，構(gòu)成一個(gè)完整的集成電路設(shè)計(jì)、模擬、驗(yàn)證體系，每

4、個(gè)模塊互相關(guān)聯(lián)又相對(duì)獨(dú)立，其中S-Edit可以把設(shè)計(jì)的電路圖轉(zhuǎn)換成SPICE，VHDL，EDIF和TPR等網(wǎng)表文件輸出，提供模擬或自動(dòng)布圖布線。后者則是包括集成電路版圖編輯器L-Edit和用于版圖檢查的網(wǎng)表比較器LVS等模塊，L-Edit本身又嵌入設(shè)計(jì)規(guī)則檢查DRC、提供用戶二次開(kāi)發(fā)用的編輯界面UPI、標(biāo)準(zhǔn)版圖單元庫(kù)及自動(dòng)布圖布線SPR、器件剖面觀察器Cross Section Viewer、版圖的SPICE網(wǎng)表和版圖參數(shù)提取器Extract(LPE)等等，網(wǎng)表比較器LVS則用于把由L-Edit生成的版圖反向提取的SPC網(wǎng)表和由S-Edit設(shè)計(jì)的邏輯電路圖輸出的SPC網(wǎng)表進(jìn)行比較實(shí)現(xiàn)版圖檢查、

5、對(duì)照分析。L-Edit 除了擁有自己的中間圖形數(shù)據(jù)格式（TDB格式）外，還提供了兩種最常用的集成電路版圖數(shù)據(jù)傳遞格式（CIF格式和GDSII格式）的輸入、輸出功能，可以非常方便地在不同的集成電路設(shè)計(jì)軟件之間交換圖形數(shù)據(jù)文件或把圖形數(shù)據(jù)文件傳遞給光掩模制造系統(tǒng)。還要特別提到的是在國(guó)內(nèi)已具有很高知名度的集成電路版圖編輯器L-Edit（Layout Editor）。L-Edit是整個(gè)Tanner EDA Tools 的基礎(chǔ)，目前Tanner集成電路設(shè)計(jì)工具軟件就是在1988年開(kāi)發(fā)的最早版本交互式圖形編輯軟件L-Edit的基礎(chǔ)上逐漸發(fā)展、完善起來(lái)的。首先是經(jīng)過(guò)以V2.00到V4.00系列為代表的純 D

6、OS版本軟件，后來(lái)開(kāi)發(fā)了以V5.00為代表的 DOS版本，可在Windows下調(diào)用，進(jìn)而又開(kāi)發(fā)了以V6.00為代表的WIN3X版本，隨著微軟的各種Windows版本的相繼出現(xiàn)，Tanner Research也相繼推出了V7.00和V8.00系列產(chǎn)品，其中有代表性的是1998年推出的V7.50 、2000年推出的V8.30、2002年推出的V8.50及2003年又推出9.0和10.0幾種版本。L-Edit V7.50是一個(gè)很典型的版本，具有非常友好的Windows界面和方便的繪圖能力，增加了以往版本不具有的任意扇區(qū)和圓環(huán)繪制功能和參考標(biāo)尺生成器，具有直接調(diào)用 SPR和DRC及TXT的按鈕，而且還

7、提供了為圖形編輯器進(jìn)行二次開(kāi)發(fā)的用戶編輯界面UPI，用戶可以自行開(kāi)發(fā)更加復(fù)雜的圖形編輯功能，極大地?cái)U(kuò)展了L-Edit的能力和靈活性。L-Edit V8.30 版本又突破以往只有256色的限制，實(shí)現(xiàn)了真彩色表現(xiàn)的能力，上下層圖形可以實(shí)現(xiàn)透明顯示，并且進(jìn)一步完善了多層布線功能。L-Edit V8.50 版又增加了一個(gè)非常有用的圖形運(yùn)算工具 X-Tools，例如：圖形A和B相加（OR）；圖形A被圖形B挖去（SUB）；圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）；圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND），為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形或圖形挖空操作提供很方便的工具。 以V2.11; V4.02和

8、V4.18為代表的純 DOS版本，必須在純 DOS系統(tǒng)中使用，需要真三鍵鼠標(biāo) (PC功能鍵)，AUTOEXEC.BAT文件只加入 AMOUSE一條外其它都刪除，CONFIG.SYS 文件只有 Files=20 Buffers=20 Device=Mouse.sys三條 ，最好啟用高端內(nèi)存 XMS Memory (Load EMM386.EXE)。最好采用具有上述最簡(jiǎn)單的 DOS6.22 啟動(dòng)引導(dǎo)軟盤(pán)啟動(dòng) DOS系統(tǒng)后，在硬盤(pán)上運(yùn)行Ledit.exe軟件。以V5.00為代表的 DOS版本，但也可在WIN3X 和WIN9X下調(diào)用，如可以在WIN98下建立快捷方式運(yùn)行K軟件，但三鍵鼠標(biāo)必

9、須設(shè)成MS功能鍵，鼠標(biāo)中鍵失效，采用 鍵盤(pán)Shift+Ait+鼠標(biāo)左鍵 代替原鼠標(biāo)中鍵功能。以V6.05為代表的WIN3X版本，可在WIN3X 和WIN9X下運(yùn)行，如可以在WIN98下建立快捷方式運(yùn)行Winledit.exe軟件，但三鍵鼠標(biāo)也必須設(shè)成MS功能鍵，鼠標(biāo)中鍵失效，采用 鍵盤(pán)Shift+Ait+鼠標(biāo)左鍵 代替原鼠標(biāo)中鍵功能。注意顯示彩色必須設(shè)置成 256色，否則不能正常工作。以 V7.50和 V8.00為代表的 WIN9X版本，要求在WIN9X下完整安裝，但簡(jiǎn)易版可采用考貝到硬盤(pán)，再在 WIN98下建立快捷方式運(yùn)行Ledit.exe軟件。該版本具有非常友好的 WINDOWS界面并增加

10、了任意扇形和環(huán)形的功能以及標(biāo)尺，還具有直接調(diào)用 SPR和DRC及TXT的按鈕。其中原來(lái) DOS版鼠標(biāo)中鍵封閉解放圖形層的功能改為采用鼠標(biāo)右鍵點(diǎn)擊圖形層選擇區(qū)出現(xiàn)的新選擇菜單執(zhí)行: Show 為封閉指定層或解除指定層的封閉; Show All為解放所有被封閉的圖形層; Hide All為封閉除指定層外其它所有的圖形層; Setup 為層名和層屬性的設(shè)置。L-Edit V8.30以后的版本又突破以往只有256色的限制，實(shí)現(xiàn)了真彩色表現(xiàn)的能力，上下層圖形可以實(shí)現(xiàn)透明顯示，并且進(jìn)一步完善了多層布線功能。L-Edit V8.50 版又增加了一個(gè)非常有用的圖形運(yùn)算工具 X-Tools，例如：圖形A和B相加

11、（OR）；圖形A被圖形B挖去（SUB）；圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）；圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND），為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形或圖形挖空操作提供很方便的工具。詳細(xì)軟件使用說(shuō)明參見(jiàn)2002年11月北京希望電子出版社出版的高等院校電子技術(shù)教材“TANNER集成電路設(shè)計(jì)教程”。4.3.1 掩模原始子單元(Cell)圖形生成 建立新文件(File)執(zhí)行 LEDIT批處理文件進(jìn)入L-EDIT交互式圖形編輯介面 進(jìn)入 File/Merge Setup 打開(kāi)預(yù)先建立的掩模圖形設(shè)計(jì)環(huán)境文件LMK.TDB 進(jìn)入 File/New 建立新創(chuàng)建圖形文件的文件名，如Y

12、XYM001 注意: 建議所有文件名及單元名均采用大寫(xiě)字符 若修改已建立的圖形文件 進(jìn)入 File/Open 再輸入文件名 建立新單元(Cell) 進(jìn)入 Cell/New 建立新創(chuàng)建圖形原始單元名，如YSDY001 。 設(shè)定單位a） 進(jìn)入 Setup/Technology 進(jìn)行單位設(shè)置。b） 首先確認(rèn)單位選擇 OtherLambda 設(shè)在內(nèi)部單位模式。 c） 設(shè)置1個(gè)LEDIT內(nèi)部單位等于多少用戶設(shè)定的單位。 默認(rèn)值為 1 Internal Unit (11) Lambda 表示 1個(gè)LEDIT內(nèi)部單位等于 1個(gè)用戶設(shè)定的單位。 1個(gè)LEDIT內(nèi)部單位，默認(rèn)值相當(dāng)屏

13、幕上 1格。 建議設(shè)置為 1 Internal Unit (11000) Lambda 即設(shè)置成1000個(gè)LEDIT內(nèi)部單位等于 1個(gè)用戶設(shè)定的單位。如果需要圖形鄰近效應(yīng)校正，曝光圖形需要尺寸再造(漲縮)，帶有斜線或曲線圖形一定要設(shè)置成1000個(gè)LEDIT內(nèi)部單位等于 1個(gè)用戶設(shè)定的單位。否則不能進(jìn)行尺寸調(diào)整或不能保證制版精度甚至出現(xiàn)錯(cuò)位及臺(tái)階。d） 設(shè)置數(shù)據(jù)輸出時(shí) 1用戶設(shè)定的單位等于多少微米 默認(rèn)值設(shè)置 1 Lambda (11) Microns 即表示數(shù)據(jù)輸出時(shí) 1用戶設(shè)定的單位等于 1微米。也就是說(shuō)設(shè)置1000格相當(dāng)于 1微米。(表示屏幕顯示 1格等于 1納米)，這種設(shè)置可保證輸出圖形

14、精度。 輸出倍率設(shè)定 如果需要改變輸出倍率(如10倍輸出)， 可在數(shù)據(jù)處理完成后存盤(pán)前修改為: 1 Lambda (101) Microns 即表示數(shù)據(jù)輸出時(shí) 1用戶設(shè)定的單位等于 1微米。 設(shè)定顯示格柵和顯示坐標(biāo)小數(shù)點(diǎn)位置a） 進(jìn)入 Setup/Design/Grid 進(jìn)行屏幕顯示格柵設(shè)置。b） 在格柵顯示“Grid display”模塊中 設(shè)置Displayed Grid= 100 Internal Unit 屏幕顯示 1格等于 100個(gè)LEDIT內(nèi)部單位 ?；蛘摺癉isplayed”填充框中填入“0.100” Locator（標(biāo)定單位-微米）。c） “Supp

15、ress grig less 8 pixel”表示圖形縮小到一個(gè)格柵只占顯示屏幕 8個(gè)像素時(shí)，屏幕上不顯示出格柵。d） 在鼠標(biāo)與格柵關(guān)系“ Mouse grid ”模塊中，選擇鼠標(biāo)指針“Cursor”運(yùn)動(dòng)方式：選擇“Snapping” 鼠標(biāo)只能停留在規(guī)定的格點(diǎn)處，非格點(diǎn)處鼠標(biāo)停不下來(lái)，為畫(huà)圖提供方便。例如設(shè)定“Mouse snap 0.100 Locator”，鼠標(biāo)咬住0.1微米的格點(diǎn), 鼠標(biāo)在屏幕上是跳動(dòng)的，即每跳動(dòng)一格為0.1微米。選擇“ Smooth”，則鼠標(biāo)為連續(xù)移動(dòng)的狀態(tài)。e） 設(shè)置鼠標(biāo)跳動(dòng)步距 Mouse Suap Grid= 100 Internal Unit鼠標(biāo)跳一步等于 10

16、0個(gè)LEDIT內(nèi)部單位 。或者設(shè)置 “Mouse snap 0.100 Locator” （標(biāo)定單位-微米）。f）設(shè)置標(biāo)定單位 One Locator Unit= 1 Internal Unit 屏幕顯示坐標(biāo)值 1.0 等于 1個(gè)LEDIT內(nèi)部單位。 (建議與設(shè)置 1 Internal Unit (11000) Lambda 相匹配) 設(shè)置成: One Locator Unit= 1000 Internal Unit 屏幕顯示坐標(biāo)值 1.0 等于 1000個(gè) LEDIT內(nèi)部單位 (=1.0微米)。屏幕顯示坐標(biāo)值和實(shí)際值一致，比較直觀，不容易出錯(cuò)。 選擇需要處理的掩模圖形層(Lay

17、er)用鼠標(biāo)器在模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇所要處理的層名（層號(hào)）。 繪制圖形形狀模式選擇 用鼠標(biāo)器在模式欄(Mode Bar)的作圖模式區(qū)(Object Area) 中選擇畫(huà)圖模式。包括矩形（最常用的圖形）。 圓形、圓環(huán)、扇區(qū)。 多邊形(直角多邊形、45度斜邊多邊形、任意拐角多邊形)，不允許交叉多邊形。 帶寬度的線條:( 直角拐彎線、45度斜線連接、任意拐角線) 因曝光時(shí)線頭部分容易出錯(cuò)，建議采用多邊形畫(huà)線條。 無(wú)寬度的線條(因數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時(shí)容易出錯(cuò)，建議采用多邊形畫(huà)線條) 字符(因數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時(shí)不承認(rèn)，建議不用，或?qū)懺诜枪δ軐由献鲄⒖?，需要?/p>

18、出的字符要用矩形拼接構(gòu)成圖形曝光) 此時(shí)就可以使用鼠標(biāo)器在設(shè)計(jì)區(qū)(Layout Area) 作圖。 可用選擇不同掩模層，設(shè)計(jì)其它層次相關(guān)的圖形。 設(shè)計(jì)過(guò)程中常用操作 用 +或 -鍵放大縮小屏幕 用 Home 鍵可在全屏幕顯示完整圖形 用 、鍵移動(dòng)圖形 打 Z鍵后，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口，可放大觀察修改細(xì)部。 可鼠標(biāo)器左鍵在某圖形上定位后，打 Q鍵使該坐標(biāo)清零，在用鼠標(biāo)器在屏幕上檢查線寬或間距。二次打 Q鍵坐標(biāo)值復(fù)原。 需要清除某些圖形時(shí)，用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上選擇某個(gè)矩形或拖動(dòng)窗口選擇一組圖形，進(jìn)入 Edit/Cut 即可。 鼠標(biāo)器功能 建議采用邏輯真三鍵鼠

19、標(biāo)器（Logitech first Mouse ，Three button），如果沒(méi)有真三鍵鼠標(biāo)器，則采用“Shift鍵+Ait鍵+鼠標(biāo)器左鍵”組合代替鼠標(biāo)器中鍵功能，但使用有所不便。 鼠標(biāo)器左鍵功能: 點(diǎn)擊功能鍵、繪圖鍵、和Ait組合模擬中鍵 所有常規(guī)鼠標(biāo)選擇功能及所有拖動(dòng)繪圖功能。 在圖形區(qū)中按鍵盤(pán)Ait鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器左鍵可移動(dòng)被選定的圖形位置、邊或角 (黑邊圖形) (相當(dāng)于只按鼠標(biāo)器中鍵)， 在層選擇區(qū)按鍵盤(pán)Shift鍵+Ait鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器左鍵 (相當(dāng)于Shift鍵+鼠標(biāo)器中鍵)，此時(shí)除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 在層選擇區(qū)按鍵盤(pán)Ait鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器左鍵 (相當(dāng)于只

20、按鼠標(biāo)器中鍵)，指定層被封閉。 鼠標(biāo)器中鍵功能: 圖形拖動(dòng)鍵、層封閉鍵 把鼠標(biāo)指向被選定的圖形 (黑邊圖形) 中部任何部位，按鼠標(biāo)器中鍵可拖動(dòng)整個(gè)圖形移動(dòng)。形狀不變。 把鼠標(biāo)指向被選定的圖形 (黑邊圖形) 任何一條邊，按鼠標(biāo)器中鍵可拖動(dòng)該邊，改變形狀。 把鼠標(biāo)指向圖形任何一個(gè)角點(diǎn)上，按鼠標(biāo)器中鍵可拖動(dòng)該點(diǎn)，改變形狀。 在層選擇區(qū)按鍵盤(pán)Shift鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器中鍵(或Shift鍵+Ait鍵+鼠標(biāo)器左鍵)，此時(shí)除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 在層選擇區(qū)只按鼠標(biāo)器中鍵 (或按鍵盤(pán)Ait鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器左鍵)，指定層被封閉。 鼠標(biāo)器右鍵功能: 圖形選擇鍵、層解放鍵 按鼠標(biāo)器右鍵拖動(dòng)窗口選擇

21、一個(gè)或一組圖形。 在一組圖附近點(diǎn)擊鼠標(biāo)器右鍵可依次選擇其中的某個(gè)圖形。 按鍵盤(pán)Shift鍵同時(shí)，再用鼠標(biāo)右鍵可多次點(diǎn)擊不同的圖形也可實(shí)現(xiàn)一次選擇一組圖形。 用鼠標(biāo)器右鍵，點(diǎn)掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中任何被封閉層的位置，該層被解放。在按鍵盤(pán)Shift鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器右鍵，此時(shí)所有層圖形全部都解放。0 圖形層的封閉與打開(kāi)的操作 除指定的圖形層外，封閉其它所以圖形層的操作用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇指定的圖形層，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)圖形層操作菜單，用鼠標(biāo)左鍵選擇“Hide All” (或者在三鍵鼠標(biāo)中按鍵盤(pán)Shift鍵的同時(shí)

22、，按鼠標(biāo)器中鍵)，此時(shí)除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。 打開(kāi)被封閉的所以圖形層的操作 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇需要操作的目標(biāo)層位置（或任意層位置），點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)圖形層操作菜單，用鼠標(biāo)左鍵選擇“Show All” (或者在三鍵鼠標(biāo)中按鍵盤(pán)Shift鍵的同時(shí)，按鼠標(biāo)器右鍵)，此時(shí)所有層圖形全部都解放。 只對(duì)指定的圖形層進(jìn)行封閉或打開(kāi)的操作 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇需要操作的目標(biāo)層位置，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)圖形層操作菜單，用鼠標(biāo)左鍵選擇“Show All” ，此時(shí)被選擇的圖形層封閉，如

23、果再用鼠標(biāo)左鍵選擇“Show All” ，此時(shí)被選擇的圖形層又可以打開(kāi)。其他圖形層狀態(tài)不變。4.3.2 含例化單元圖形的操作 插入被例化單元(原始單元)圖形步驟 進(jìn)入 Cell/New 建立新創(chuàng)建圖形單元名，如Cell001 進(jìn)入 Cell/Instance 選擇某已建立的單元(如Cell002) 選 OK 在新創(chuàng)建單元(如 Cell002)中加入某原始單元(如Cell001)。 (注意: 圖形坐標(biāo)已變動(dòng)，需要從新定位) 進(jìn)入修改圖形形態(tài)操作界面 進(jìn)入 Edit/Edit Object(s) 修改圖形位移參數(shù) Translation (Locator

24、Units): X: 0 Y: 0 輸入0 0 使圖形坐標(biāo)回零點(diǎn)。需要位移輸入相應(yīng)坐標(biāo)值。 修改圖形位相參數(shù) Coordinate system : Rotation :0.00 輸入圖形旋轉(zhuǎn)角度。 Mirro： 選擇圖形鏡像關(guān)系。 修改圖形倍率參數(shù) Scale Factor: 1/1 倍率不變。 設(shè)置分布重復(fù)圖形單元陣列參數(shù) Array Parameters:Repeat count: 輸入X-Y分步重復(fù)個(gè)數(shù)。Delta (locator Units): 輸入X-Y步距。可生成重復(fù)單元圖形陣列。 一個(gè)單元可以插入多個(gè)例化圖形的單元或多次

25、插入同一個(gè)例化圖形的單元,還可以畫(huà)入新的圖形?？梢詫?duì)每個(gè)例化圖形的單元和新畫(huà)入的圖形進(jìn)行選取及各種形態(tài)操作,實(shí)現(xiàn)圖形拼接合成。 含例化圖形的單元還可以作為新的例化圖形的單元，組成多次嵌套關(guān)系的圖形。 修改被例化單元(原始單元)圖形，可以使含例化圖形的單元陣列中所有單元都被修改。0 含例化圖形的單元中的圖形不可能逐個(gè)多邊形或矩形進(jìn)行修改，需要個(gè)別修改多邊形或矩形，必須把含例化圖形的單元壓平，取消嵌套關(guān)系。點(diǎn)擊 Cell/Flatten 把所有嵌套關(guān)系的單元圖形逐級(jí)代入展開(kāi)，生成沒(méi)有任何嵌套關(guān)系的完整圖形 (簡(jiǎn)稱 粉碎 或 壓平)。壓平后單元變成不含例化圖

26、形的單元，可以對(duì)任何多邊形或矩形進(jìn)行操作。4.3.3 圖形繪制、修改操作 鼠標(biāo)拖動(dòng)直接繪制法首先選擇繪制圖形形狀模式，比如選擇矩形、多邊形、圓形等繪圖模式，利用鼠標(biāo)器在屏幕上移動(dòng)，觀察屏幕右上角格點(diǎn)坐標(biāo)值變化，當(dāng)鼠標(biāo)移動(dòng)到需要的坐標(biāo)值時(shí)點(diǎn)鼠標(biāo)左鍵在屏幕上定位，一直按住鼠標(biāo)左鍵并拖動(dòng)鼠標(biāo)到所需要的坐標(biāo)值松開(kāi)鼠標(biāo)左鍵。如果繪制多邊形，則是每點(diǎn)一次鼠標(biāo)左鍵定位一個(gè)多邊形頂點(diǎn)，最后點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵完成一個(gè)多邊形繪制。這種繪制法適用于屏幕上出現(xiàn)格點(diǎn)，并且設(shè)置鼠標(biāo)是跳動(dòng)的模式，并只繪制整數(shù)格點(diǎn)的小圖形。繪制大圖形很不方便。 鼠標(biāo)拖動(dòng)修改法 首先利用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上點(diǎn)擊圖形,選擇一個(gè)

27、孤立圖形 (圖形輪廓線變黑),或者新繪制一個(gè)大體尺寸的圖形。 把鼠標(biāo)指向圖形中部任何部位，用Ait + 鼠標(biāo)左鍵（或者Shift + Ait + 鼠標(biāo)左鍵，此時(shí)可以在X或Y方向分別移動(dòng)，也可以用三鍵鼠標(biāo)器的中鍵）可拖動(dòng)整個(gè)圖形移動(dòng)。形狀不變。把鼠標(biāo)指向圖形任何一條邊，用Ait + 鼠標(biāo)左鍵可拖動(dòng)該邊，改變形狀，觀察坐標(biāo)變化，同時(shí)打 Z鍵后，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口，逐漸放大再繼續(xù)按鼠標(biāo)器中鍵再繼續(xù)拖動(dòng)該邊，直到格點(diǎn)出現(xiàn)時(shí)觀察坐標(biāo)達(dá)到所需要數(shù)值為止。把鼠標(biāo)指向圖形任何一個(gè)角點(diǎn)上，用Ait + 鼠標(biāo)左鍵可拖動(dòng)該點(diǎn)，改變形狀，觀察坐標(biāo)變化，同時(shí)打鍵盤(pán) Z鍵后，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口

28、，逐漸放大再繼續(xù)按鼠標(biāo)器中鍵再繼續(xù)拖動(dòng)該點(diǎn)，直到格點(diǎn)出現(xiàn)時(shí)觀察坐標(biāo)達(dá)到所需要數(shù)值為止。為繪制方便可以事先利用參考標(biāo)像層或在其他圖形層上繪制作為參考用的圖形。利用參考標(biāo)像層的圖形進(jìn)行精確定位。 輸入坐標(biāo)修改法首先利用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上點(diǎn)擊圖形,選擇一個(gè)孤立圖形 (圖形輪廓線變黑),或者新繪制一個(gè)大體尺寸的圖形。進(jìn)入 Edit/Edit Object 修改矩形對(duì)角點(diǎn)的 X-Y坐標(biāo)值，多邊形的各個(gè)頂點(diǎn)的X-Y坐標(biāo)值、圓心X-Y坐標(biāo)值及半徑等數(shù)值，精確繪制圖形。4.3.4 圖形形態(tài)變換及處理的操作 被選擇的圖形移動(dòng)操作a) 打開(kāi)Draw/Move By/Move amoun

29、t (Locator Units) 輸入X-Y坐標(biāo)值。b) 打開(kāi) Draw/Nudga/ Lefe; Right; Up; Down可進(jìn)行左、右、上、下的微小移動(dòng)。 被選擇的圖形旋轉(zhuǎn)操作a) 打開(kāi)Draw/Rotate/ 90 degrees 相對(duì)于被選擇的圖形的中心點(diǎn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90度。b) 打開(kāi)Draw/Rotate/Rotate Selected Objects/Rotation angle-degrees（ Counterclockwise ）。 相對(duì)于被選擇的圖形的中心點(diǎn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。c) 打開(kāi)Draw/Rotate/Rotate Selected O

30、bjects/Rotation around/ 被選擇的圖形相對(duì)于指定的某點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Center：相對(duì)于被選擇的圖形的中心點(diǎn)逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Offset from center：被選擇的圖形中心點(diǎn)位移X-Y值后，以這一點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 Absolute coordinates：被選擇的圖形中心點(diǎn)位移X-Y值后，以坐標(biāo)原點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。如果X-Y位移值為（0，0），則被選擇的圖形以坐標(biāo)原點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)（按照輸入任意角度值）。 被選擇的圖形鏡像

31、操作a) 打開(kāi)Draw/Plip/ Horizonal 進(jìn)行圖形以 Y為軸鏡像處理 (左右對(duì)稱處理)。b) 打開(kāi)Draw/Plip/ Vertical 進(jìn)行圖形以 X為軸鏡像處理 (上下對(duì)稱處理)。 對(duì)被選擇的圖形進(jìn)行選擇性切割操作a) 打開(kāi)Draw/Slice/ Horizonal 對(duì)圖形進(jìn)行平行于X方向的切割處理。b) 打開(kāi)Draw/Slice/ Vertical 對(duì)圖形進(jìn)行平行于Y方向的切割處理。 為了方便精確定位點(diǎn)，建議適當(dāng)設(shè)置鼠標(biāo)跳步參數(shù)進(jìn)行配合。c) 打開(kāi)Draw/Merge 對(duì)被選擇的圖形（或被切割的圖形）進(jìn)行合并操作。4.3.5 復(fù)制、拷貝操作 圖形

32、層內(nèi)部被選擇的圖形復(fù)制a) 首先用鼠標(biāo)選擇需要復(fù)制的圖形用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上選擇某個(gè)矩形或拖動(dòng)窗口選擇一組圖形。b) 點(diǎn)擊 Edit/Copy （或者Ctrl+C） 把圖形存入粘貼緩沖區(qū)(Paste-Buffer)。c) 點(diǎn)擊 Edit/Paste （或者Ctrl+V） 即可調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形(注意: 圖形坐標(biāo)已變動(dòng))。d) 用Shift + Ait + 鼠標(biāo)左鍵：把拖動(dòng)圖形到需要安放的位置（可以采用參考層定位）。打 Z鍵后，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口，精確定位。若再點(diǎn) Edit/Paste還可繼續(xù)調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形，并按上述移動(dòng)的間距兩倍的位置精確定位.以此類推可重復(fù)C

33、opy多組圖形。 把當(dāng)前圖形層中被選擇的圖形復(fù)制到另外一個(gè)圖形層上的操作a) 首先用鼠標(biāo)選擇需要復(fù)制的圖形用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上選擇某個(gè)矩形或拖動(dòng)窗口選擇一組圖形。b) 點(diǎn)擊 Edit/Copy （或者Ctrl+C） 把圖形存入粘貼緩沖區(qū)(Paste-Buffer)。c) 用鼠標(biāo)點(diǎn)擊圖層版中另外一個(gè)圖層。d) 點(diǎn)擊 Edit/Paste to Layer （或者Ait+V） 即可調(diào)出存入粘貼緩沖區(qū)中的圖形復(fù)制到該圖層上。(注意: 圖形坐標(biāo)已變動(dòng))。e) 用Ait + 鼠標(biāo)左鍵（Shift + Ait + 鼠標(biāo)左鍵，此時(shí)可以在X或Y方向分別移動(dòng)），把拖動(dòng)圖形到需要安放的位置（可以采用

34、參考層定位）。打 Z鍵后，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口，精確定位。 不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell)考貝a) 進(jìn)入 Cell/Open 選擇需要考貝的單元。b) 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇所要考貝的層位置，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)圖形層操作菜單，用鼠標(biāo)左鍵選擇“Hide All” ，此時(shí)除指定層外，其它層圖形全部都被封閉。c) 利用鼠標(biāo)器右鍵在屏幕上拖動(dòng)窗口選擇需要考貝圖形 (圖形輪廓線變黑)，也可以用鼠標(biāo)器點(diǎn) Edit/Select All選擇該層的所有圖形。d) 用鼠標(biāo)器進(jìn)入 Edit/Copy （或者按Ctrl + C

35、鍵）把該層選擇的圖形考貝入寄存器，。e) 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇考貝的目標(biāo)層位置，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵打開(kāi)圖形層操作菜單，用鼠標(biāo)左鍵選擇“Show All”， 此時(shí)所有層圖形全部都解放。f) 在按鍵盤(pán) Ait鍵的同時(shí)，按 V鍵。完成層間單元圖形考貝，但圖形位置會(huì)有變化。g) 在按鍵盤(pán) Ait鍵的同時(shí)，按住鼠標(biāo)器左鍵拖動(dòng)目標(biāo)層新考貝圖形，讓它與被考貝層的圖形對(duì)齊，注意要結(jié)合鍵盤(pán) Z鍵，用鼠標(biāo)器左鍵在屏幕上拖動(dòng)一小窗口，逐漸放大再繼續(xù)按鍵盤(pán) Ait鍵的同時(shí)，按住鼠標(biāo)器左鍵拖動(dòng)目標(biāo)層新考貝圖形，一直到格點(diǎn)出現(xiàn)后兩出真正對(duì)齊為止。 同一文

36、件內(nèi)單元圖形(Cell)考貝a) 進(jìn)入 Cell/Copy 選擇需要考貝的單元如Cell001，b) 點(diǎn)OK窗口，輸入新單元名如Cell003，則生成新單元的坐標(biāo)與原單元一致。 不同文件間單元圖形(Cell)考貝a) 進(jìn)入 Cell/Copy 選擇需要考貝的單元如Cell001 ，b) 用鼠標(biāo)點(diǎn)File窗口可選擇已被打開(kāi)的另外一個(gè)文件YXYM002，并選定需要考貝的單元。c) 再點(diǎn)OK窗口，并輸入，d) 即可把文件YXYM002中的Cell001單元圖形復(fù)制到當(dāng)前文件YXYM001中，生成新單元名Cell004的單元圖形。 如果當(dāng)前文件中已存在相同的單元圖形名，會(huì)提示修改新的單元

37、圖形名。 不同文件間的不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell)考貝 不同文件間不能直接進(jìn)行不同層間圖形考貝，只能先采用 “” 進(jìn)行不同文件間單元圖形(Cell)考貝后,再按照 “ ” 的方法進(jìn)行不同層間選擇圖形或單元圖形(Cell)考貝。4.3.6 圖形的布爾運(yùn)算與圖形反轉(zhuǎn)L-Edit V8.50以上版本具有一個(gè)非常有用的圖形布爾運(yùn)算工具 X-Tools，為繪制復(fù)雜的閉合多義線圖形、圖形挖空及圖形反轉(zhuǎn)操作提供很方便的工具。 進(jìn)入布爾運(yùn)算模式a) 打開(kāi) Tools/UPILIB/X-Tools,進(jìn)入布爾運(yùn)算界面。b) 打開(kāi) “Option”

38、。c) 選擇 “Remove original polygon（s） after operation”，運(yùn)算后刪除原來(lái)圖形，只留下運(yùn)算結(jié)果，便于觀察。 圖形A和B相加（Or,加法）的運(yùn)算a) 首先選擇一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點(diǎn)紅。b) 再選擇另一個(gè)圖形，把“Boolean”中的“ B”點(diǎn)紅。c) 按 “A or B”，可實(shí)現(xiàn)圖形A和B相加，即A和B兩組所有圖形都加到一塊組成新的圖形。 圖形A被圖形B挖去（SUB,減法）的運(yùn)算a) 首先選擇一個(gè)大的圖形，把“Boolean”中的“ A”點(diǎn)紅。b) 再選擇另一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolea

39、n”中的“ B”點(diǎn)紅。c) 按 “A sub B”，可實(shí)現(xiàn)圖形A減B，即圖形A中挖去圖形B組成新的圖形。如果圖形B被圖形A完全包圍，則運(yùn)算結(jié)果圖形A被圖形B挖空，利用這個(gè)功能可以實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)操作。如果圖形B包圍圖形A，則運(yùn)算結(jié)果所有圖形都消失。如果圖形B只遮蓋圖形A的一部分，則運(yùn)算結(jié)果圖形A被圖形B遮蓋的部分挖去。 圖形A和圖形B相互重疊部分挖去（XOR）的運(yùn)算a) 首先選擇一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點(diǎn)紅。b) 再選擇另一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ B”點(diǎn)紅。c) 按 “A xor B”，可實(shí)現(xiàn)圖形A和B相互重疊部分挖去，A和B兩組所有

40、沒(méi)有重疊的圖形都加到一塊組成新的圖形。 圖形A和圖形B相互重疊部分保留其余部分刪除（AND）的運(yùn)算a) 首先選擇一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ A”點(diǎn)紅。b) 再選擇另一個(gè)圖形或一組圖形，把“Boolean”中的“ B”點(diǎn)紅。c) 按 “A and B”，可實(shí)現(xiàn)圖形A和B相互重疊部分保留，A和B兩組所有沒(méi)有重疊的圖形都被刪除。 利用布爾運(yùn)算工具 X-Tools進(jìn)行圖形反轉(zhuǎn)的運(yùn)算 利用 “” 圖形A被圖形B挖去（SUB,減法）運(yùn)算的功能， a) 首先選擇需要被反轉(zhuǎn)的圖形。把“Boolean”中的“ B”點(diǎn)紅。b) 然后根據(jù)有效圖形加劃片道

41、畫(huà)一個(gè)大的矩形把圖形B包圍起來(lái)，注意圖形邊緣對(duì)稱，把“Boolean”中的“ A”點(diǎn)紅。c) 再按 “A sub B”，可實(shí)現(xiàn)圖形B圖形反轉(zhuǎn)操作。4.3.7 圖形層間的布爾運(yùn)算與圖形反轉(zhuǎn)利用已有的圖形層通過(guò)運(yùn)算產(chǎn)生新工藝圖形層的操作。 注意：這里只適用于矩形、45/90的多邊形或連線。不能處理圓形和任意角度的圖形。 進(jìn)入生成層設(shè)置操作a) 打開(kāi)Setup/Layers/Derivation/Derived 進(jìn)入生成層推導(dǎo)界面。b) 打開(kāi)“Derivation”對(duì)話框，可以有四種推導(dǎo)類型： Boolean 采用布爾運(yùn)算產(chǎn)生推導(dǎo)層。 Selection 采用圖形層選擇的方法產(chǎn)生推導(dǎo)層

42、。 Area 采用圖形層面積計(jì)算的方法產(chǎn)生推導(dǎo)層。 Density 采用圖形層密度計(jì)算的方法產(chǎn)生推導(dǎo)層。 采用布爾運(yùn)算產(chǎn)生推導(dǎo)層a） 確認(rèn)已經(jīng)有兩個(gè)以上圖形層有圖形數(shù)據(jù)。b） 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇將要生成的目標(biāo)層位置。c） 選擇 “Boolean” 布爾運(yùn)算方式。d） 選擇 “Enable Derivation” 激活推導(dǎo)。e） 在源圖層模塊 Source Layers（ Locator Units定位器單位-微米）中分別選擇各源圖層的層名及各種布爾運(yùn)算參數(shù)： 打開(kāi)“Layer” 選擇各層的層名，一次最多只能有三層圖形

43、進(jìn)行運(yùn)算。多于三層的，可以采用其他層圖形與前三層圖形運(yùn)算結(jié)果生成的新圖層合成運(yùn)算。 如果要對(duì)該層圖形反轉(zhuǎn)，要在該層選擇“NOT”，進(jìn)行“非” 運(yùn)算。 如果該層圖形需要尺寸專程再造（即圖形每邊漲縮設(shè)置的定位器單位，如-0.2,則該層所有圖形的邊緣每邊縮小0.2微米）。 “Operation”中選擇 “AND”,則生成的新圖層只有上下兩層重合的部分的圖形, 兩層沒(méi)有重合的部分去除。 “Operation”中選擇 “OR”,則生成的新圖層包含上下兩層所有的圖形，即兩層圖形進(jìn)行加法運(yùn)算。f） 確定完成布爾運(yùn)算推導(dǎo)層的參數(shù)設(shè)置。 進(jìn)行布爾運(yùn)算生成新圖層的操作a) 打開(kāi) Tools/Gene

44、rate Layers 進(jìn)入生成新圖層對(duì)話框。b) 在“Target”中選擇 “ Layer”，在其中下拉菜單中選擇生成新圖層的層名。（如果選中 “All Layer” ，則生成新圖層時(shí)同時(shí)生成推導(dǎo)層的輪廓線圖形。）c）選中 “Delete derived layers”，則在生成新圖層時(shí)刪除推導(dǎo)層的圖形（在標(biāo)像層上的各源圖層輪廓線），只留下生成新圖和源圖層。（如果不選中，還保留推導(dǎo)層的輪廓線圖形。）d） 掃描場(chǎng)（掃描格 Binning）參數(shù)設(shè)置 在 “Bin”中設(shè)置掃描格的尺寸（定位器單位-微米）。如果選中 “Merge objects after generation” ，則生成新圖為合并

45、的圖形，（如果不選中，則生成新圖是按掃描場(chǎng)分割的圖形）。e） 按“OK”， 進(jìn)行布爾運(yùn)算, 運(yùn)算結(jié)果生成新圖層, 新圖層和源圖層一樣可以進(jìn)行各種處理。f） 要?jiǎng)h除生成的新圖層和推導(dǎo)層的輪廓線，進(jìn)行如下操作：打開(kāi) Tools/Clear Generated layers，進(jìn)入刪除生成的新圖層和推導(dǎo)層圖形的 “Delete Objects on Generated Layers”對(duì)話框。選擇“ This Cell”刪除當(dāng)前圖形單元中生成的新圖層和推導(dǎo)層的輪廓線。 掩模圖形層的圖形反轉(zhuǎn)操作a) 要對(duì)圖形層進(jìn)行圖形反轉(zhuǎn), 建議在設(shè)計(jì)掩模圖形時(shí),每層圖形(包含每邊加半個(gè)劃片道)的最大點(diǎn)和最

46、小點(diǎn)上各作一個(gè)位置相同、大小一樣的定位小矩形（尺寸可以是1 微米以下。用于保證數(shù)據(jù)處理時(shí)各層數(shù)據(jù)中心一致，并且可以確定圖形反轉(zhuǎn)的范圍。b） 參見(jiàn)“” 用鼠標(biāo)左鍵點(diǎn)模式欄(Mode Bar)的掩模層選擇區(qū)(Layer Area)中選擇將要生成的目標(biāo)層位置。c） 選擇 “Boolean” 布爾運(yùn)算方式。d） 在源圖層模塊 Source Layers（ Locator Units定位器單位-微米）中選擇需要進(jìn)行圖形反轉(zhuǎn)的層名。e） 選擇“NOT”，進(jìn)行“非” 運(yùn)算。f） 參見(jiàn)“” 打開(kāi) Tools/Generate Layers 進(jìn)入生成新圖層對(duì)話框。g） 在“Targe

47、t”中選擇 “ Layer”，在其中下拉菜單中選擇生成新圖層的層名。h） 選中 “Delete derived layers”，在生成新圖層時(shí)刪除推導(dǎo)層的圖形，只留下生成新圖和源圖層。i） 根據(jù)圖形復(fù)雜程度，在 “Bin”中設(shè)置適當(dāng)?shù)膾呙韪竦某叽?。j） 選中 “Merge objects after generation” ，生成新圖為合并的圖形。k） 按“OK” ，進(jìn)行圖形反轉(zhuǎn)運(yùn)算。4.3.8 利用宏進(jìn)行圖形編輯功能的二次開(kāi)發(fā) 打開(kāi) Tools/Macro 進(jìn)入宏界面。 在 “Macro Files” 中打開(kāi) “Load”出現(xiàn)查找已經(jīng)編釋的宏文件。 例如：d：Le

48、dit750-hyLeditdlg.dll。 把已經(jīng)編釋好的宏文件Leditdlg.dll讀入界面。 選中d：Ledit750-hyLeditdlg.dll。 則自動(dòng)選擇 “Macros：” 宏表格中的“ Advance tool ” 。 點(diǎn)擊 “Run” 運(yùn)行編釋宏文件。 即出現(xiàn) “Advance tool ” 任意角度、任意曲線微光刻圖形生成工具條?？梢苑奖愕靥幚砀鞣N波帶片、園環(huán)、螺旋線、扇形、扇形環(huán)、橢圓、橢圓環(huán)、齒輪、條形碼以及由任意函數(shù)曲線組成的圖形。 參見(jiàn) “4.4 任意角度、任意曲線微光刻圖形生成工具軟件模塊操作”。4.3.9 圖形拼接錯(cuò)誤檢查操作4.

49、3.9.1 備份原始LEDIT設(shè)計(jì)環(huán)境文件 Copy Ledit.tdb Ledit000.tdb 修改設(shè)計(jì)規(guī)則集 由于原始LEDIT設(shè)計(jì)環(huán)境文件中包含的設(shè)計(jì)規(guī)則集是通用的完整集成電路設(shè)計(jì)規(guī)則，十分復(fù)雜，對(duì)于僅僅用于微光刻圖形編輯來(lái)說(shuō)，需要簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)規(guī)則集，修改成只檢查最小線寬和最細(xì)圖形間隙兩種最基本的設(shè)計(jì)規(guī)則。a） 打開(kāi) Tools/DRC 進(jìn)入設(shè)計(jì)規(guī)則檢查對(duì)話框“Design Rule Check”。c） 按 “Setup”鈕，進(jìn)入設(shè)計(jì)規(guī)則檢查對(duì)話框“Setup Design Rules“。d） 逐個(gè)選擇 “Rules List”中的設(shè)計(jì)規(guī)則條例，把激活規(guī)則復(fù)選框“Enable

50、”中的“”去除，即把所有現(xiàn)成的設(shè)計(jì)規(guī)則全部去選，使原來(lái)的設(shè)計(jì)規(guī)則失效。e） 按 “Add rule” 鈕，新增設(shè)計(jì)規(guī)則，在“Rule：” 設(shè)計(jì)規(guī)則條例名稱填充框中自動(dòng)生成的規(guī)則條例名稱“New Rule 0”為改“Poly Min width”。并且確認(rèn)規(guī)則復(fù)選框“Enable” 處激活狀態(tài)，即“”狀態(tài)。f） 在“Rule type” 中的最小線寬“Min width”選中。g） 把例外選擇“Ignore”中的45度銳角復(fù)選框“45 degree acute angle” 選中，允許45度以下銳角出現(xiàn)。h） 在定義最小允許圖形邊長(zhǎng)尺寸填充框“Rule distance”中填允許尺寸，例如“0.

51、100”，單位選擇用戶設(shè)定的單位“Lambda”或者“Microns”。i） 在設(shè)計(jì)規(guī)則圖層選擇“Rule layers”中 “Layer1” 的圖形層選擇下拉菜單中選擇“Poly”層。j） 按上述同樣步驟建立新的最細(xì)圖形間隙（Spacing）設(shè)計(jì)規(guī)則條例（ Poly Spacing）。k）按“OK”鈕，完成最小線寬和最細(xì)圖形間隙兩種最基本的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)設(shè)置。 建立圖形拼接錯(cuò)誤檢查規(guī)則環(huán)境 在完成最小線寬和最細(xì)圖形間隙兩種最基本的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)設(shè)置后，打開(kāi)File/Save As， 重新生成微光刻圖形編輯專用設(shè)計(jì)環(huán)境文件 Ledit.tdb和它的備份文件LeditDRC.tdb。(

52、也可以修改成自己習(xí)慣的各種常用參數(shù)的設(shè)計(jì)環(huán)境文件，例如包括修改圖形層的顏色配制、設(shè)計(jì)格柵配制、顯示及鼠標(biāo)配制和GDS格式規(guī)定的數(shù)字圖形層名等)。 用微光刻圖形編輯專用設(shè)計(jì)環(huán)境文件檢查版圖圖形拼接錯(cuò)誤a) 采用上述建立的設(shè)計(jì)環(huán)境文件啟動(dòng)LEDIT。b） 打開(kāi) Tools/DRC 進(jìn)入設(shè)計(jì)規(guī)則檢查對(duì)話框“Design Rule Check”。c） 按 “Setup”鈕，進(jìn)入設(shè)計(jì)規(guī)則檢查對(duì)話框“Setup Design Rules“。d） 根據(jù)設(shè)計(jì)需要在定義最小允許圖形邊長(zhǎng)尺寸填充框“Rule distance”中修改允許尺寸，例如“1.000”微米。按“OK“鈕確認(rèn)，修改后的最小線寬

53、和最細(xì)圖形間隙允許尺寸。回到設(shè)計(jì)規(guī)則檢查對(duì)話框“Design Rule Check”。e） 根據(jù)圖形大小和復(fù)雜情況，修改掃描場(chǎng)格子尺寸 “Bin 50.000 Locator”，按“OK確定”鈕開(kāi)始進(jìn)行圖形拼接錯(cuò)誤檢查。f） 如果圖形中有圓形或任意多邊形，將會(huì)出現(xiàn)提醒信息： “L-Edit Warning Found in Cell0. Circles. All Angle Polygons. These objects will be ignored. Do you want to Proceed?” 按“Yes to All”鈕通過(guò)。g） 演算后將出現(xiàn)檢查到拼接錯(cuò)誤結(jié)果的信息：“L-Edi

54、t 8 DRC errors found?！蓖▓?bào)有多少處出現(xiàn)拼接錯(cuò)誤。按“OK確定”鈕，出現(xiàn)圖形拼接錯(cuò)誤檢查結(jié)果圖示。h）用鼠標(biāo)點(diǎn)擊標(biāo)示的圖形拼接錯(cuò)誤處，可檢查錯(cuò)誤信息。并進(jìn)行人工修改。i）把所有圖形拼接錯(cuò)誤修改完畢后，打開(kāi) Tools/Clear Error Layer進(jìn)入“Delete Objects on Error Layer”按“OK確定”鈕，刪除錯(cuò)誤信息標(biāo)像層。4.3.10 圖形文件輸入、輸出操作 頂層單元圖形生成操作圖形處理完成后，需要確認(rèn)一個(gè)“頂層單元”，并且把它內(nèi)部所有嵌套關(guān)系的例化單元圖形逐級(jí)代入展開(kāi)，生成沒(méi)有任何嵌套關(guān)系的完整圖形 (簡(jiǎn)稱 “粉碎” 或 “

55、壓平”)，同時(shí)有對(duì)“頂層單元”進(jìn)行標(biāo)識(shí)。步驟如下：a） 打開(kāi) Cell/Copy ，選擇已設(shè)計(jì)完成準(zhǔn)備提供制版的合成單元，復(fù)制一個(gè)新圖形單元作為“頂層單元”，建議“頂層單元”的單元名與將來(lái)提供制版用的制版文件名稱一致，為制版數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換時(shí)輸入結(jié)構(gòu)名方便，要求用大寫(xiě)字符。b） 打開(kāi) Cell/Open ，選擇“頂層單元”，使“頂層單元”，。c） 點(diǎn)擊 Cell/Flatten ，完成例化單元嵌套關(guān)系壓平。生成加后綴(Flat) 的新單元名。d） 打開(kāi) Cell/ Fabricate ， 選擇已粉碎的頂層單元，把它標(biāo)識(shí)為供制版用的頂層單元。 存儲(chǔ)TDB格式的備份文件和準(zhǔn)備修改的文件a) 點(diǎn)擊 File/Save , 存儲(chǔ)TDB格式備份文件。b） 打開(kāi) File/Save As ，另外存儲(chǔ)一個(gè)提供與制版文件名稱一致的TD