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1、hfss仿真分析波導(dǎo)膜片1. 實(shí)驗(yàn)原理矩形波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)(如圖1),尺寸ab, ab,在矩形波導(dǎo)內(nèi)傳播的電磁波可分為te模和tm模。圖1 矩形波導(dǎo)1) te模,。其中,=而是與激勵(lì)源有關(guān)的待定常數(shù)。2) tm模=0,由的邊界條件同樣可得無(wú)窮多個(gè)tm模。注意:對(duì)于和模,m, n不能同時(shí)為零,否則全部的場(chǎng)分量為零。和模具有相同的截止波數(shù)計(jì)算公式,即()=()=所以,它們的截止波長(zhǎng)和截止頻率的計(jì)算公式也是一樣的,即()=()=()=()=對(duì)于給定的工作頻率或波長(zhǎng),只有滿足傳播條件(或solution type,在彈出的solution type窗口中選擇driven modal,點(diǎn)擊ok2) 設(shè)置模型單

2、位在菜單欄中點(diǎn)擊modelerunits,設(shè)置模型單位,選擇mm3)畫(huà)波導(dǎo)(1)在菜單欄中點(diǎn)擊drawbox(2)在右下角的坐標(biāo)欄中輸入長(zhǎng)方體的起始點(diǎn)位置坐標(biāo)x=0 ,y=0 ,z=0 (3)輸入長(zhǎng)方體x,y,z三個(gè)方向尺寸,dx:23,dy:10,dz:50(4)在屬性窗口中選擇attribute標(biāo)簽,該長(zhǎng)方體的名字修改為waveguide4)設(shè)置邊界條件(1)選擇波導(dǎo)的四個(gè)縱向面。通過(guò)editselectfaces,將鼠標(biāo)設(shè)置為選擇面的狀態(tài)(如圖2);通過(guò)按鈕(旋轉(zhuǎn)功能)以及ctrl鍵實(shí)現(xiàn)選擇多個(gè)面,或者通過(guò)editselectby name(如圖3),結(jié)合ctrl鍵選中face10、11

3、、12、9(如圖4)。(2)將這四個(gè)面設(shè)置為理想導(dǎo)體邊界??梢酝ㄟ^(guò)點(diǎn)擊hfssboundariesassign perfect e實(shí)現(xiàn),或者點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵assign boundary perfect e(如圖5)。圖2 select faces界面圖3 select by name界面圖4 select face界面圖5 設(shè)置perfect e邊界條件5)設(shè)置激勵(lì)源wave port(1)選中波導(dǎo)的一個(gè)端口面(垂直于z軸的平面);(2)點(diǎn)擊hfssexcitationsassignwave port,或者點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵assign excitationwave port(如圖6)。(3)另外一個(gè)

4、端口面執(zhí)行同樣的操作。圖6 設(shè)置wave port界面6)設(shè)置求解頻率(1)在菜單欄中點(diǎn)擊hfssanalysis setupadd solution setup(2)在求解設(shè)置窗口中,設(shè)置solution frequency:13ghz。7)保存工程 在菜單欄中點(diǎn)擊filesave as8)求解該工程在菜單欄中點(diǎn)擊hfssanalyze all9)畫(huà)場(chǎng)分布圖在菜單欄中點(diǎn)擊hfssfieldsplot fieldse,電場(chǎng)幅度分布(如圖7)。圖7 波導(dǎo)中電場(chǎng)強(qiáng)度幅度分布10)觀察數(shù)據(jù)結(jié)果點(diǎn)擊hfssresultssolution data(如圖8),在matrix data項(xiàng)中可以查看s參數(shù)以

5、及gamma等參數(shù)。圖8 查看solution data界面hfss仿真波導(dǎo)容性膜片畫(huà)波導(dǎo):box類(lèi)型,定點(diǎn)坐標(biāo)(0,0,0),尺寸(23mm,10mm,50mm)畫(huà)膜片1 (b=0.5b)(1)在菜單欄中點(diǎn)擊drawrectangle(2)在右下角的坐標(biāo)欄中輸入長(zhǎng)方體的起始點(diǎn)位置坐標(biāo)x=23,y=0,z=10。 (3)輸入長(zhǎng)方體x,y,z三個(gè)方向尺寸,dx:-23,dy:2.5。(4)名字改為iris1。畫(huà)膜片2(1)在菜單欄中點(diǎn)擊drawrectangle(2)在右下角的坐標(biāo)欄中輸入長(zhǎng)方體的起始點(diǎn)位置坐標(biāo)x=23 ,y=10 ,z=10 (3)輸入長(zhǎng)方體x,y,z三個(gè)方向尺寸,dx:-23

6、,dy:-2.5(4)名字改為iris2。設(shè)置顏色透明度的方法以waveguide為例,雙擊waveguide,點(diǎn)擊transparent右側(cè)的欄目,通過(guò)拖動(dòng)比例值調(diào)整顏色的透明度(如圖9)。圖9 調(diào)整顏色的透明度畫(huà)完的波導(dǎo)膜片如圖10。設(shè)置邊界條件(1)選中波導(dǎo)的四個(gè)長(zhǎng)側(cè)面設(shè)置為理想導(dǎo)體perfect e。(2)選中iris1,設(shè)置為理想導(dǎo)體(點(diǎn)擊hfssboundariesassign perfect e)。(3)選中iris2, 設(shè)置為理想導(dǎo)體。設(shè)置激勵(lì)源(1) 選擇波導(dǎo)的上面端口設(shè)置為wave port (1)選擇波導(dǎo)的下面端口設(shè)置為wave port設(shè)置求解條件hfssanalysi

7、s setup中,將頻率設(shè)置為13ghz。點(diǎn)擊進(jìn)行計(jì)算。圖10 波導(dǎo)膜片畫(huà)膜片上的電流矢量圖(1) 先將waveguide隱藏只顯示兩個(gè)膜片。點(diǎn)擊工具,將visibility下的一列waveguide的除掉(如圖11)。圖11 隱藏waveguide(2) 畫(huà)場(chǎng)分布圖同時(shí)選中iris1與iris2,點(diǎn)擊鼠標(biāo)右鍵plot fieldsjvector_jsurf,出現(xiàn)如圖12界面,點(diǎn)擊done,電流矢量圖如圖13。 圖12 畫(huà)電流矢量 圖13 電流矢量分布圖 (3) 演示場(chǎng)分布動(dòng)態(tài)圖右鍵點(diǎn)擊field overlaysanimate(如圖13),其它項(xiàng)為缺省值。圖13 選擇animate通過(guò)hfs

8、sresultssolution data記錄仿真的s參數(shù)。并與式(1)中計(jì)算的理論值進(jìn)行比較(如表1)。從表中可見(jiàn),仿真值與理論值基本一致,仿真方法正確。表1 容性膜片的s參數(shù)理論值與仿真值(b=0.5b)s|s11|s21|s12|s22|13ghz理論值0.2520.9680.9680.252仿真值0.2270.9450.9450.227設(shè)置變量利用hfss的變量功能,可以將波導(dǎo)的尺寸設(shè)置為變量a和b,膜片之間的距離設(shè)置為變量b,以便調(diào)整尺寸大小。具體步驟如下:(1) 設(shè)置變量a和變量b。雙擊waveguide下的creatbox(如圖14),在xsize欄輸入“$a”(代表全局變量a)

9、,變量值賦為23mm(如圖15)。在ysize欄輸入“$b”,變量值賦為10mm(如圖16)。圖14 waveguide下的creatbox圖15 輸入變量a圖16 輸入變量b(2) 設(shè)置膜片的變量。將iris1的position賦為(0mm,0mm,10mm),xsize為$a,ysize賦為($b-$bp)/2,變量$bp的值賦為0.5*$b(如圖17)。同樣方法將iris2的position賦為(0mm,$b,10mm),xsize為$a,ysize賦為-($b-$bp)/2(如圖18)。圖17 iris1的變量圖18 iris2的變量(3) 調(diào)整變量參數(shù)。點(diǎn)擊pojectproject

10、 variables(如圖19),點(diǎn)擊values一列的欄目可以更改各變量的值或者計(jì)算公式(如圖20)圖19 project variables圖20 各變量及變量值3、實(shí)驗(yàn)要求以a=23mm,b=10mm的波導(dǎo)為例,仿真波導(dǎo)容性膜片(b=0.6b),要求(1) 簡(jiǎn)要概括仿真步驟(比如波導(dǎo)的頂點(diǎn)與尺寸,膜片的頂點(diǎn)與尺寸,邊界條件設(shè)置步驟,源的設(shè)置);(2) 給出膜片上的電流矢量分布圖;(3) 將軟件計(jì)算的s參數(shù)與理論值進(jìn)行比較填入表中。(實(shí)驗(yàn)報(bào)告從以下封面開(kāi)始,將上面文字全部刪除,實(shí)驗(yàn)報(bào)告可以雙面打?。┪⒉夹g(shù)與天線實(shí)驗(yàn)報(bào)告實(shí)驗(yàn)名稱(chēng): 實(shí)驗(yàn)3:利用hfss仿真分析波導(dǎo)膜片學(xué)生班級(jí): 學(xué)生姓名:

11、 學(xué)生學(xué)號(hào): 實(shí)驗(yàn)日期: 2011年 月 日(填寫(xiě)實(shí)際實(shí)驗(yàn)日期)1. 仿真步驟(1) 畫(huà)圖畫(huà)波導(dǎo)。長(zhǎng)方體,頂點(diǎn)為。,尺寸為。,命名為。畫(huà)膜片1。xy面上的矩形,頂點(diǎn)為。,尺寸為。,命名為。畫(huà)膜片2。xy面上的矩形,頂點(diǎn)為。,尺寸為。,命名為。(2) 設(shè)置邊界條件。(3) 設(shè)置激勵(lì)源。(4) 設(shè)置求解條件2. 仿真結(jié)果(1)膜片上的電流矢量如圖1。圖1膜片上的電流矢量分布(2)膜片的s參數(shù)理論值與仿真值比較如表1。表1 波導(dǎo)感性膜片的s參數(shù)理論值與仿真值(b=0.6b)頻率|s11|s12|s21|s22|13ghz理論值0.15690.98760.98760.1569仿真值6 passes10 passes12 passes15 pas

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