公司設(shè)備“三定”管理制度[2](精編版)_第1頁
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文檔簡介

1、煙臺萬華 hcl 氧化裝置設(shè)備“三定力管理制度1 目的為了充分發(fā)揮各崗位操作人員的責(zé)任心、積極性,切實(shí)有效做好設(shè)備維護(hù)保養(yǎng),保持設(shè)備衛(wèi)生、潤滑的良好狀況,以保確主要生產(chǎn)設(shè)備正常運(yùn)行,特制定本管理制度。2 適用范圍本管理制度適用于hcl 氧化裝置區(qū)各崗位操作工對設(shè)備的日常維護(hù)保養(yǎng)管理工作。3 管理規(guī)定3.1 hcl 氧化裝置負(fù)項(xiàng)目部組織對本單位主要設(shè)備進(jìn)行“定人、定機(jī)、定職責(zé)”的三定管理一一每臺主要設(shè)備明確劃分到個人,實(shí)行設(shè)備個人責(zé)任制,并進(jìn)行指導(dǎo)、督促、檢查和考核。3.2機(jī)動科定期對設(shè)備的“三定”管理情況進(jìn)行檢查,對管理好的設(shè)備責(zé)任人在年終進(jìn)行獎勵,對設(shè)備管理不到位的責(zé)任人進(jìn)行考核。3.3操作

2、工管理職責(zé)及要求:白覺遵守定人定機(jī)制度,對白己所負(fù)責(zé)的設(shè)備定期進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng),其維護(hù)保養(yǎng)基本內(nèi)容為:1)清掃:不只是表面,要將特角皆晃清掃干凈,讓設(shè)備的磨損、噪音、松動、變形、滲漏等缺陷暴露出來,及時排除,復(fù)雜的白己處理不了的及時反映并找檢修工處理;2) 潤滑:嚴(yán)格遵守中核五公司設(shè)備潤滑管理制度,定時、定量、定質(zhì)、及時加油、加脂;3)緊固:緊固螺栓、螺母,避免部件松動、振動、滑動、脫落而造成的故障。4)堵漏:防止、堵塞潤滑油脂、水等的泄漏。附表 1煙臺萬華 hcl 氧化裝置設(shè)備維護(hù)“三定”劃分記錄表廳名稱型號(規(guī)格)安裝地點(diǎn)責(zé)任人備注1 挖掘機(jī)dh225lc-7 hcl 氧化裝置區(qū)張道勇2 裝載

3、機(jī)sem652b hcl 氧化裝置區(qū)傅效光3 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國4 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國5 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國6 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國7 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國8 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國9 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國10 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國11 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國12 電焊機(jī)zx7-400n hcl 氧化裝置區(qū)田兆國13 電焊機(jī)zx7-400n h

4、cl 氧化裝置區(qū)田兆國14 配電箱qh-03-133 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新15 配電箱qh-03-134 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新16 配電箱qh-03-135 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新17 配電箱qh-03-136 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新18 配電箱qh-03-137 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新19 配電箱qh-03-138 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新20 配電箱qh-03-139 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新21 配電箱qh-03-140 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新22 配電箱qh-03-141 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新23 配電箱qh-03-142 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新24 配電箱qh-

5、03-143 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新25 配電箱qh-03-144 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新26 配電箱qh-03-145 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新27 配電箱qh-03-146 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新28 配電箱qh-03-147 hcl 氧化裝置區(qū)孟慶新29 烘干箱hgx-001 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛30 清洗機(jī)qxj-004 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛31 彎曲機(jī)wqj-001 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛32 彎曲機(jī)wqj-002 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛33 彎曲機(jī)wqj-003 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛34 彎曲機(jī)wqj-004 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛35 切割機(jī)qgj-001

6、 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛36 切割機(jī)qgj-004 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛37 切割機(jī)qgj-004 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛38 切割機(jī)qgj-004 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛39 滾絲機(jī)gsj-001 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛40 滾絲機(jī)gsj-002 hcl 氧化裝置區(qū)劉長剛41 滾絲機(jī)gsj-003 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建42 滾絲機(jī)gsj-004 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建43 切斷機(jī)qdj-001 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建44 切斷機(jī)qdj-002 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建45 切斷機(jī)qdj-003 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建46 切斷機(jī)qdj-004 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建47 平板夯pbh-001 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建48 平板夯pbh-002 hcl 氧化裝置區(qū)張丙建49 平板

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