制造技術(shù)部制程講義蝕刻

1、 講師制造技術(shù)部 目錄一、干膜一、干膜的主要組成的主要組成成份簡(jiǎn)介成份簡(jiǎn)介二、二、我司回路課我司回路課的的作業(yè)作業(yè)流程流程一一 干膜成份的簡(jiǎn)介干膜成份的簡(jiǎn)介1. 1.干膜的介紹：干膜的介紹： 干膜是一種高分子的化合物，它通過紫外干膜是一種高分子的化合物，它通過紫外 線的照射后能夠產(chǎn)和一種聚合反應(yīng)形成一種線的照射后能夠產(chǎn)和一種聚合反應(yīng)形成一種穩(wěn)穩(wěn) 定的物質(zhì)附著于板面，從而達(dá)到阻擋電鍍定的物質(zhì)附著于板面，從而達(dá)到阻擋電鍍和蝕和蝕 刻的功能?？痰墓δ?。 2. 2.干膜的分類干膜的分類依據(jù)厚度的不同干膜可以分為三類：依據(jù)厚度的不同干膜可以分為三類： 1.2mil1.2mil、1.5mil1.5mil、

2、2.0mil2.0mil1.2mil1.2mil干膜主要干膜主要 用于內(nèi)層板作業(yè)用于內(nèi)層板作業(yè)1.5mil1.5mil、干膜主要用于外、干膜主要用于外 層板作業(yè)當(dāng)層板作業(yè)當(dāng)然也可以用于內(nèi)層板作業(yè)但由然也可以用于內(nèi)層板作業(yè)但由 于較厚于較厚在蝕刻的過程中容易造成側(cè)蝕而且成本在蝕刻的過程中容易造成側(cè)蝕而且成本相對(duì)較高，所以相對(duì)較高，所以 一般不使用其作內(nèi)層。一般不使用其作內(nèi)層。2.0mil2.0mil干膜主要用于一些較特殊的要求的板干膜主要用于一些較特殊的要求的板比如說較大的二次孔比如說較大的二次孔1.5mil1.5mil干膜無法達(dá)到要干膜無法達(dá)到要求時(shí)才使用到。干膜品牌較多如杜邦、長(zhǎng)求時(shí)才使用到

3、。干膜品牌較多如杜邦、長(zhǎng)興、日立，本公司目前使用杜邦干膜。興、日立，本公司目前使用杜邦干膜。 干干膜的分類一般分為三層，一層是膜的分類一般分為三層，一層是PEPE保護(hù)膜，保護(hù)膜，中間是干膜層，另一個(gè)是中間是干膜層，另一個(gè)是PETPET保護(hù)層。保護(hù)層。PEPE層和層和PETPET層都只是起保護(hù)作用的在壓膜前和顯影前層都只是起保護(hù)作用的在壓膜前和顯影前都有必須要去掉的，真正起作用的是中間一層都有必須要去掉的，真正起作用的是中間一層干膜，它具有一定的粘性和良好的流動(dòng)性。其干膜，它具有一定的粘性和良好的流動(dòng)性。其主要成分如下：主要成分如下： 3.干膜的組成干膜的組成 （1）粘合劑）粘合劑n作為光致抗蝕

4、劑的成膜劑，使感光膠各作為光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組份粘結(jié)組份粘結(jié) 成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚它在光致聚 合過程中不參與化學(xué)反應(yīng)。合過程中不參與化學(xué)反應(yīng)。 要求粘結(jié)劑具有較好的要求粘結(jié)劑具有較好的 成膜性；成膜性； 與光致抗蝕劑的各組份有較好的互溶與光致抗蝕劑的各組份有較好的互溶 性；與性；與加工金屬表面加工金屬表面 有較好的附著力；它很容易從有較好的附著力；它很容易從金屬表面用堿溶液除去；金屬表面用堿溶液除去； 有較好的抗蝕、抗有較好的抗蝕、抗電鍍、抗冷流、耐熱等電鍍、抗冷流、耐熱等 性能。性能。 粘結(jié)劑通常是粘結(jié)劑通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯酯化或

5、酰胺化的聚苯乙烯順丁烯二酸酐順丁烯二酸酐樹脂樹脂(聚苯丁樹脂聚苯丁樹脂)。 （2）光聚合單體）光聚合單體n它是光致抗蝕劑膠膜的主要組份，在光引發(fā)劑的存在下，經(jīng)紫外光照射發(fā)生聚合反 應(yīng)，生 成體型聚合物，感光部分不溶于 顯影液，而未曝光部分可通過顯影除去， 從而形成抗蝕圖像。多 元醇烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類是廣泛應(yīng)用的聚合單體，例如季 戊四醇三丙烯酸酯是較好的 光聚合單體。 在紫外光線照射下，光引發(fā)劑吸收紫外光的 能量產(chǎn)生游離基，而游離基進(jìn)一步引發(fā)光聚合 單體交聯(lián)。干膜光致抗蝕劑通常使用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引發(fā)劑。 4)增塑劑 可增加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋 酸脂可作為增塑

6、劑。 （3）光引發(fā)劑）光引發(fā)劑 (5)增粘劑 可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學(xué)結(jié)合力，防止因粘結(jié)不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊 病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。 (6)熱阻聚劑 在干膜的生產(chǎn)及應(yīng)用過程中，很多步驟需要接受熱能，為阻止熱能對(duì)干膜的聚合作用加入 熱阻聚劑。如甲氧基酚、對(duì)苯二酚等均可作為熱阻聚劑。(7)色料 為使干膜呈現(xiàn)鮮艷的顏色，便于修版和檢查而添加色料。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料使干膜呈現(xiàn)鮮艷的綠色、蘭色等。(8)溶劑為溶解上述各組份必須使用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。 此外有些種類的干膜還加入光致變色劑，使之在曝光后增色或減色，以鑒別是否曝光，這 種干膜又叫變色于膜。 4.干

7、膜的儲(chǔ)存n干膜在儲(chǔ)存過程中可能由于溶劑的揮發(fā)而變脆，也可能由于環(huán)境溫度的影響而產(chǎn)生熱聚 合，或因抗蝕劑產(chǎn)生局部流動(dòng)而造成厚度不均勻(即所謂冷流)，這些都嚴(yán)重影響干膜的使用。 因此在良好的環(huán)境里儲(chǔ)存干膜是十分重要的。技術(shù)要求規(guī)定，干膜應(yīng)儲(chǔ)存在陰涼而潔凈的 室內(nèi)，防止與化學(xué)藥品和放射性物質(zhì)一起存放。二、干膜的流程 儲(chǔ)存條件為：黃光區(qū)，溫度低于27(521 為最佳)，相對(duì)濕度50左右。儲(chǔ)存期從出廠之日算起不小于六個(gè)月，超過儲(chǔ)存期按技術(shù)要求 檢驗(yàn)合格者仍可使用。在儲(chǔ)存和運(yùn)輸過程中應(yīng)避免受潮、受熱、受機(jī)械損傷和受日光直接照射。 前處理(基板的清理) 壓膜 靜置 對(duì)板 曝光 靜置 顯影 檢修 貼干膜前基板

8、表面的清潔處理與干燥貼干膜前板面包括覆銅箔板基板和孔金屬化后預(yù)鍍銅的基板。為保證干膜與基板表面牢 固的粘附，要求基板表面無氧化層、油污、指印及其它污物，無鉆孔毛刺、無粗糙鍍層。為增大干 膜與基板表面的接觸面積，還要求基板有微觀粗糙的表面。為達(dá)到上述兩項(xiàng)要求，貼膜前要對(duì) 基板進(jìn)行認(rèn)真的處理。其處理方法可以概括為機(jī)械清洗和化學(xué)清洗兩類。 （1)機(jī)械清洗 n機(jī)械清洗即用刷板機(jī)清洗。刷板機(jī)又分為磨料刷輥式刷板機(jī)和浮石粉刷板機(jī)兩種。磨料刷輥式刷板機(jī) 磨料刷輥式刷板機(jī)裝配的刷子通常有兩種類型，壓縮型刷子和硬毛型刷子。壓縮型刷子是 將粒度很細(xì)的碳化硅或氧化鋁磨料粘結(jié)在尼龍絲上，然后將這種尼龍絲制成纖維板或軟

9、墊，經(jīng) 固化后切成圓片，裝在一根輥芯上制成刷輥。 硬毛型刷子的刷體是用含有碳化硅磨料的直徑為 06mm的尼龍絲編繞而成的。磨料粒度不同，用途也不同，通常粒度為180目和240目的刷子 用于鉆孔后去毛刺處理，粒度為320月和500目的刷子用于貼干膜前基板的處理。兩種刷子相比較各有其優(yōu)缺點(diǎn)。壓縮型刷子因含磨料粒度很細(xì)，并且刷輥對(duì)被刷板面的壓 力較大，其缺點(diǎn)是由于尼龍絲較細(xì)容易撕裂，使用壽命短。硬毛型刷子的顯著優(yōu)點(diǎn)是尼龍絲耐磨性好，因而使用壽命長(zhǎng)，大約 是壓縮型刷子的十倍，但是這種刷子不宜用于處理多層板內(nèi)層基板，因基板薄不僅處理效果不 理想，而且還會(huì)造成基板卷曲。在使用刷輥式刷板機(jī)的過程中，為防止尼

10、龍絲過熱而熔化，應(yīng)不斷向板面噴淋自來水進(jìn)行 冷卻和潤(rùn)濕。 浮石粉刷板機(jī)多年來國(guó)內(nèi)外廣泛使用的是磨料刷輥式刷板機(jī)。研究表明，用這類刷板機(jī)清潔處理板面有 些缺欠，如在表面上有定向的擦傷，有耕地式的溝槽，有時(shí)孔的邊緣被撕破形成橢圓孔，由于 磨刷磨損刷子高度不一致而造成處理后的板面不均勻等。 隨著電子工業(yè)的發(fā)展，現(xiàn)代的電路設(shè)計(jì)要求越來越細(xì)的線寬和間距，仍舊使用磨料刷輥式 刷板機(jī)處理板面，產(chǎn)品合格率低下，因此發(fā)展了浮石粉刷板機(jī)。 浮石粉刷板機(jī)是將浮石粉懸濁液噴到板面上用尼龍刷進(jìn)行擦刷，其機(jī)器主要有以下幾個(gè) 工段：a尼龍刷與浮石粉漿液相結(jié)合進(jìn)行擦刷；b刷洗除去板面的浮石粉；c高壓水洗；d水 洗；e干燥。浮

11、石粉刷板機(jī)處理板面有如下優(yōu)點(diǎn)：a磨料浮石粉粒子與尼龍刷相結(jié)合的作用與板面相切擦刷，能除去所有的污物，露出新 鮮的純潔的銅；b能夠形成完全砂粒化的、粗糙的、均勻的、多峰的表面，沒有耕地式的溝槽； c由于尼龍刷的作用緩和，表面和孔之間的連接不會(huì)受到破壞； d由于相對(duì)軟的尼龍刷的靈活性，可以彌補(bǔ)由于刷子磨損而造成的板面不均勻的問題；e由于板面均勻無溝槽，降低了曝光時(shí)光的散射，從而改進(jìn)了成像的分辨率。 其不足是浮石粉對(duì)設(shè)備的機(jī)械部分易損傷。2)化學(xué)清洗 化學(xué)清洗首先用堿溶液去除銅表面的油污、指印及其它有機(jī)污物。然后用酸性溶液去除氧 化層和原銅基材上為防止銅被氧化的保護(hù)涂層，最后再進(jìn)行微蝕處理以得到與干

12、膜具有優(yōu)良 粘附性能的充分粗化的表面。 (3)電解清洗 貼干膜前基板表面清潔處理，一般采用上述1)一2)種處理方法，機(jī)械清洗及浮石粉刷板 對(duì)去除基板表面的含鉻鈍化膜(銅箔表面防氧化劑)效果不錯(cuò)，但易劃傷表面，并可能造成磨料 顆粒(如，碳化硅、氧化鋁、浮石粉)嵌入基體內(nèi)，同時(shí)還可能使撓性基板、多層板內(nèi)層薄板及薄 型印制板基板的尺寸變形。 化學(xué)清洗去油污性較好，但去除含鉻鈍化膜的效果差。 電解清洗的優(yōu)點(diǎn)不僅能較好地解決機(jī)械清洗、浮石粉刷板及化學(xué)清洗對(duì)基板表面清潔處 理中存在的問題，而且使基板產(chǎn)生一個(gè)微觀的比較均勻的粗糙表面，大大提高比表面，增強(qiáng)干膜與基板表面的粘合力，這對(duì)生產(chǎn)高密度、細(xì)導(dǎo)線的導(dǎo)電圖

13、形是十分有利的。電解清洗工藝過程如下：進(jìn)料電解清洗水洗微蝕刻水洗鈍化水洗干燥出料 本公司使用機(jī)械清洗的處理方式，其流程為: 進(jìn)料 酸洗 水洗 磨刷 水洗 吸干 烘干其參數(shù)管控重點(diǎn)如下:1.刷痕121mm上圖所示為刷痕試驗(yàn)的幾種狀況，A區(qū)所示為正常的刷痕，B區(qū)所示為刷輪左高右低之情況，C區(qū)所示為刷輪右高左低之情況，D區(qū)所示為刷輪嚴(yán)重變形之情況(俗稱“狗骨頭”)。如果出現(xiàn)B.C的狀況,需對(duì)刷輪的水平度進(jìn)行調(diào)試, 如果出現(xiàn)D的狀況,需對(duì)刷輪進(jìn)行整刷或更換刷輪. 2.酸液的濃度:35% 3.刷輪電流:30.5A 4.烘干段溫度:955 5.輸送速度:3.10.05mm處理后的板面是否清潔應(yīng)進(jìn)行檢查，簡(jiǎn)

14、單的檢驗(yàn)方法是水膜破裂試驗(yàn)法。板面滑活處理 后，流水浸濕，垂直放置，整個(gè)板面上的連續(xù)水膜應(yīng)能保持15秒鐘不破裂。清潔處理后，最好立即貼膜，如放置時(shí)間超過四個(gè)小時(shí)，應(yīng)重新進(jìn)行清潔。前處理常見的不良問題：板面氧化、粘膠等等。板面氧化的原因主要來源于：前處理的參數(shù)不正常，比如說濃度偏低、溫度偏低或者是速度偏快等；粘膠來源于前處理之前的板面有些粘膠，而前處理的過程中無法去除掉從而導(dǎo)致經(jīng)過前處理的板子上粘有一些膠無法去掉從而對(duì)后續(xù)的品質(zhì)造成嚴(yán)重的影響。貼貼 膜膜 貼膜時(shí)，先從干膜上剝下聚乙烯保護(hù)膜，然后在加熱加壓的條件下將干膜抗蝕劑粘貼在覆 銅箔板上。干膜中的抗蝕劑層受熱后變軟，流動(dòng)性增加，借助于熱壓輥

15、的壓力和抗蝕劑中粘結(jié) 劑的作用完成貼膜。 貼膜通常在貼膜機(jī)上完成，貼膜機(jī)型號(hào)繁多，但基本結(jié)構(gòu)大致相同： 貼膜可連續(xù)貼，也可單張貼。連續(xù)貼膜時(shí)要注意在上、下干膜送料輥上裝干膜時(shí)要對(duì)齊， 單張貼時(shí)，膜的尺寸要稍小于板面，以防抗蝕劑粘到熱壓輥上。連續(xù)貼膜生產(chǎn)效率高，適合于 大批量生產(chǎn)，小批量生產(chǎn)可采用單張貼法，以減少干膜的浪費(fèi)。貼膜時(shí)要掌握好的三個(gè)要素為壓力、溫度、傳送速度。 壓力：新安裝的貼膜機(jī)，首先要將上下兩熱壓輥調(diào)至軸向平行，然后來用逐漸加大壓力的 辦法進(jìn)行壓力調(diào)整，根據(jù)印制板厚度調(diào)至使干膜易貼、貼牢、不出皺折。一般壓力調(diào)整好后就可 固定使用，不需經(jīng)常調(diào)整，一般線壓力為0.50.6kg。 溫度

16、：根據(jù)干膜的類型、性能、環(huán)境溫度和濕度的不同而略有不同。膜涂布的較干、環(huán)境溫 度低、濕度小時(shí)，貼膜溫度要高些，反之可低些。貼膜溫度過高，干膜圖像變脆，耐鍍性能差，貼 膜溫度過低，干膜與銅表面粘附不牢，在顯影或電鍍過程中，膜易起翹甚至脫落。通?？刂瀑N膜 溫度在100左右。 傳送速度：與貼膜溫度有關(guān)，溫度高，傳送速度可快些，溫度低則將傳送速度調(diào)慢。通常傳 送速度為0.9一1.8米分。 大批量生產(chǎn)時(shí)，在所要求的傳送速度下，熱壓輥難以提供足夠的熱量，因此需給要貼膜的 板子進(jìn)行預(yù)熱，即在烘箱中干燥處理后稍加冷卻便可貼膜。 為適應(yīng)生產(chǎn)精細(xì)導(dǎo)線的印制板，又發(fā)展了濕法貼膜工藝，此工藝是利用專用貼膜機(jī)在貼干 膜

17、前于銅箔表面形成一層水膜，該水膜的作用是：提高干膜的流動(dòng)性； 驅(qū)除劃痕、砂眼、凹坑和 織物凹陷等部位上滯留的氣泡；在加熱加壓貼膜過程中，水對(duì)光致抗蝕劑起增粘作用，因而可 大大改善干膜與基板的粘附性，從而提高了制作精細(xì)導(dǎo)線的合格率，據(jù)報(bào)導(dǎo)，采用此工藝精細(xì) 導(dǎo)線合格率可提高19。 完好的貼膜應(yīng)是表面平整、無皺折、無氣泡、無灰塵顆粒等夾雜。 為保持工藝的穩(wěn)定性，貼膜后應(yīng)經(jīng)過15分鐘的冷卻及恢復(fù)期再進(jìn)行曝光。 對(duì)板曝對(duì)板曝 光光 n對(duì)板n對(duì)板：對(duì)板作業(yè)員是指將底片與以壓過膜的板進(jìn)對(duì)位的過程，是進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移所不可缺少的步驟；其目的在于使底片上圖像與板上的孔作一個(gè)定位的動(dòng)作，以便后續(xù)作業(yè)。n對(duì)板作業(yè)所遵循

18、的規(guī)則是以孔為中心，以不崩孔為原則。即作業(yè)中是板上的孔為對(duì)位的基準(zhǔn)點(diǎn)，而不是說隨意的蓋于板面即可的一種簡(jiǎn)單動(dòng)作。n對(duì)板作業(yè)根據(jù)其作業(yè)方式的來不同基本上可分三類：手工作業(yè)(目視定位)、上PIN對(duì)板作業(yè)(即所謂的PIN對(duì))以及“三明治”式對(duì)板作業(yè)； 手工作業(yè) 是指通過人工方法將底片對(duì)準(zhǔn)于板上，此種作業(yè)方式靈活性較高但對(duì)于局部性孔偏無法作出及時(shí)以及有效的反應(yīng)，而且底片在不斷的人工拉扯過程中容易變形造成一此無法處理的孔偏給后制程帶來一些困擾比如防焊作業(yè)時(shí)會(huì)出現(xiàn)陰影等。PIN對(duì)作業(yè)是批通過在底片打上PIN針，然后將板相對(duì)應(yīng)的孔對(duì)上去從而達(dá)到將底片與板對(duì)位的效果。 此種方法作業(yè)中不容易出現(xiàn)底片變形的原因主

19、要來源于無塵室內(nèi)的臟物，此部分臟物有大有小造成的問題卻對(duì)品質(zhì)有十分大的影響。因此，環(huán)境衛(wèi)生對(duì)干膜的品質(zhì)有著舉足輕重的作用。菲林刮傷是指菲林在作業(yè)的過程中因銅渣或者說是硬物的碰撞，使菲林受到登損受從而引起的生產(chǎn)品質(zhì)問題。 菲林刮傷的原因主要來自于人為的操作不當(dāng)，其主要是在保存和使用過程中所產(chǎn)生的；改善的方法是對(duì)其保存以及使用操作有一個(gè)明確的規(guī)定，并且能依據(jù)所制定的規(guī)定嚴(yán)格要求所有的作業(yè)人員，使員工每個(gè)人都能十分清楚的了解以達(dá)到所需的目標(biāo)。 曝光 曝光即在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發(fā)光聚合單體 進(jìn)行聚合交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的體型大分子結(jié)構(gòu)。曝光一般在自動(dòng)

20、雙面曝光 機(jī)內(nèi)進(jìn)行，現(xiàn)在曝光機(jī)根據(jù)光源的冷卻方式不同，可分風(fēng)冷和水冷式兩種 影響曝光成像質(zhì)量的因素 影響曝光成像質(zhì)量的因素除干膜光致抗蝕劑的性能外，光源的選擇、曝光時(shí)間(曝光量) 的控制、照相底版的質(zhì)量等都是影響曝光成像質(zhì)量的重要因素。(1)光源的選擇 任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發(fā)射光 譜曲線。如果某種干膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發(fā)射主峰相重疊或大部分重疊，則 兩者匹配良好，曝光效果最佳。2)曝光時(shí)間(曝光量)的控制 正確控制曝光時(shí)間是得到優(yōu)良的干膜抗蝕圖像非常重要的因素。當(dāng)曝光不足時(shí)，由于單體 聚合的不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條

21、不清晰，色澤暗淡，甚至脫膠，在電鍍前處理 或電鍍過程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。 當(dāng)曝光過頭時(shí)，會(huì)造成難于顯影，膠膜發(fā)脆、留下殘膠 等弊病。更為嚴(yán)重的是不正確的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差，過量的曝光會(huì)使圖形電鍍的線條 變細(xì)，使印制蝕刻的線條變粗，反之，曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細(xì)。如何正確確定曝光時(shí)間呢如何正確確定曝光時(shí)間呢? 嚴(yán)格的講，以時(shí)間來計(jì)量曝光是不科學(xué)的，因?yàn)楣庠吹膹?qiáng)度往往隨著外界電壓的波動(dòng)及燈 的老化而改變。光能量定義的公式EIT，式中E表示總曝光量，單位為毫焦耳平方厘米；I表示 光的強(qiáng)度，單位為毫瓦平方厘米；T為曝光時(shí)間，單位為秒。從上式可以看出，總曝光量E隨

22、光強(qiáng)I 和曝光時(shí)間T而變化。 當(dāng)曝光時(shí)間T恒定時(shí)，光強(qiáng)I改變，總曝光量也隨之改變，所以盡管嚴(yán) 格控制了曝光時(shí)間，但實(shí)際上干膜在每次曝光時(shí)所接受的總曝光量并不一定相同，因而聚合 程度也就不同。 為使每次曝光能量相同，使用光能量積分儀來計(jì)量曝光。其原理是當(dāng)光強(qiáng)I發(fā)生變化時(shí)， 能自動(dòng)調(diào)整曝光時(shí)間T，以保持總曝光量E不變。 對(duì)板曝光中常見問題點(diǎn)原因分析與改善對(duì)策 一、對(duì)偏：指菲林的內(nèi)容和板本身未做到以孔為中心進(jìn)行對(duì)位。 原因解決方法作業(yè)中的對(duì)位不準(zhǔn)以孔為中心，目視到位菲林有變形如伸長(zhǎng)縮短車間溫濕度保護(hù)在管控范圍內(nèi)，棕片嚴(yán)重變形時(shí)，重新制作新的棕片定位PIN針未上好如定位PIN孔有沖偏對(duì)板時(shí)套PIN有偏

23、沖片后用高腳鏡量測(cè)PIN孔的偏差，對(duì)板時(shí)確保按PIN到位 二、對(duì)反：指在對(duì)板作業(yè)過程中因?yàn)槲磳?duì)印刷孔作業(yè)從而導(dǎo)致有一部分的內(nèi)容沒有對(duì)上(一般都是中間部分)。 原因解決方法手工作業(yè)中作業(yè)員未能按對(duì)印刷孔作業(yè)而是以對(duì)兩頭的內(nèi)容作業(yè)加防呆PIN并嚴(yán)格按對(duì)三個(gè)印刷孔的方式作業(yè)PIN對(duì)作業(yè)中PIN針?biāo)系牡胤轿慈∮∷⒖椎姆较驈亩鴮?dǎo)致對(duì)板是套PIN錯(cuò)pIN對(duì)時(shí)分清面次，固定三個(gè)印刷孔右下角三、曝光過度：指在對(duì)板曝光過程中因?yàn)槟芰吭O(shè)定不當(dāng)或者操作不當(dāng)所引起的不需曝光的部分感到光而固化。原因解決方法曝光機(jī)所設(shè)定的能量較高使得干膜在曝光過程中因?yàn)樗邮艿哪芰窟^高從而導(dǎo)致曝光過度每班作曝光尺對(duì)曝光能量進(jìn)行確認(rèn)，如

24、有異常及時(shí)調(diào)整。 在曝光過程中因?yàn)槲涣妓鶎?dǎo)致菲林的藥膜面未與干膜緊貼在一起，導(dǎo)致在曝光過程中光線的折射較多引起部分干膜曝光過度基板本身有凹陷或者機(jī)臺(tái)的臺(tái)面有一些不平以及導(dǎo)氣條的設(shè)置不當(dāng)(或者是說未加導(dǎo)氣條)造成菲林與板面未能緊緊貼在一起而引起曝光過度加設(shè)導(dǎo)氣條（導(dǎo)氣條需跨臺(tái)面的導(dǎo)氣溝）吸真空710mmHg后開始趕氣對(duì)板彎板翹之板進(jìn)行整平處理四、臟點(diǎn)：指在曝光過程中因有一些不透明的物質(zhì)附著于板面菲林而臺(tái)面或者干膜上，因?yàn)樵谄毓膺^程中這部分不透明物質(zhì)對(duì)光線有遮擋作用，所以本來要曝光的部分因有物體擋住從而未能曝光造成顯影時(shí)被沖掉。原因解決機(jī)臺(tái)上有臟物對(duì)機(jī)臺(tái)進(jìn)行徹底的保養(yǎng)對(duì)所用的棕片進(jìn)行定時(shí)清潔無

25、塵室硬件設(shè)施不完善提升無塵室等級(jí)顯影 顯影顯影機(jī)理是感光膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下 來，顯影時(shí)活性基團(tuán)羧基一COOH與無水碳酸鈉溶液中的Na+作用，生成親水性集團(tuán)一 COONa。從而把未曝光的部分溶解下來，而曝光部分的干膜不被溶脹。 顯影操作一般在顯影機(jī)中進(jìn)行，控制好顯影液的溫度，傳送速度，噴淋壓力等顯影參數(shù)，能夠得到好的顯影效果。 顯影主要管控參數(shù)如下：1.碳酸鈉濃度：1.00.1%2.顯影液溫度：3013.顯影壓力：1# 131PSI 2# 221PSI4.水洗壓力：222PSI5.烘干溫度：55-60 正確的顯影速度通過顯像點(diǎn)(沒有曝光的干膜從印制板上被

26、顯掉之點(diǎn))來確定，顯像點(diǎn)必 須保持在顯影段總長(zhǎng)度的一個(gè)恒定百分比上。如果顯出點(diǎn)離顯影段出口太近，未聚合的抗蝕膜 得不到充分的清潔顯影，抗蝕劑的殘余可能留在板面上。如果顯出點(diǎn)離顯影段的入口太近，已 聚合的于膜由于與顯影液過長(zhǎng)時(shí)間的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤。通常顯像點(diǎn)控 制在顯影段總長(zhǎng)度的40一60之內(nèi)。 使用顯影機(jī)由于溶液不斷地噴淋攪動(dòng)，會(huì)出現(xiàn)大量泡沫，因此必須加入適量的消泡劑。如 正丁醇、食品及醫(yī)藥用的消泡劑、印制板專用消泡劑AF一3等。消泡劑起始的加入量為0.1 左右，隨著顯影液溶進(jìn)干膜，泡沫又會(huì)增加，可繼續(xù)分次補(bǔ)加。顯影后要確保板面上無余膠，以 保證基體金屬與電鍍金屬之間有良好

27、的結(jié)合力。 顯影后板面是否有余膠，肉眼很難看出?？梢宰鯟UCL2實(shí)驗(yàn) 進(jìn)行確認(rèn)，CUCL2實(shí)驗(yàn)操作方法如下：把顯影后的板直接放入除油槽浸泡2分鐘 水洗10秒 粗化槽浸泡20秒 水洗10秒 酸洗槽浸泡15秒 水洗10秒 5%CUCL2溶液15秒 30秒水洗干凈.CUCL2實(shí)驗(yàn)后的板，露銅部分呈灰黑色則正常，如仍呈現(xiàn)銅顏色則是顯影不凈。 修版與去膜！修版與去膜！ 修版 修版包括兩方面，一是修補(bǔ)圖像上的缺陷，一是除去與要求圖像無關(guān)的疵點(diǎn)。 上述缺陷產(chǎn)生的大體原因是：干膜本身有顆粒或機(jī)械雜質(zhì)；基板表面粗糙或凹凸不平；操 作工藝不當(dāng)如板面污物及貼膜小皺折；照相底版及真空框架不清潔等。為減少修版量，應(yīng)特別

28、 注意上述問題。修版液可用蟲膠、瀝青、耐酸油墨等。修版時(shí)應(yīng)注意戴細(xì)紗手套，以防手汗污染板面。去膜(退洗) 去膜使用35的氫氧化鈉溶液，溫度50一60，去膜方式可槽式浸泡，也可機(jī)器噴淋。 槽式浸泡是板子上架后浸泡到去膜溶液中，數(shù)分鐘后膜變軟脫落，取出后立即用水沖洗，膜就 可以去除干凈，銅表面也不會(huì)被氧化。機(jī)器噴淋去膜生產(chǎn)效率高，但應(yīng)注意檢查噴嘴是否堵塞，在去膜溶液中必須加入消泡劑。 干膜工藝的質(zhì)量檢驗(yàn)干膜工藝的質(zhì)量檢驗(yàn) 常見的故障及排除方法常見的故障及排除方法在使用干膜進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移時(shí)，由于干膜本身的缺陷或操作工藝不當(dāng)，可能會(huì)出現(xiàn)各種質(zhì)量 問題。下面列舉在生產(chǎn)過程中可能產(chǎn)生的故障，并分析原因，提出

29、排除故障的方法。 1干膜與覆銅箔板粘貼不牢干膜與覆銅箔板粘貼不牢 原 因 解決辦法 1)干膜儲(chǔ)存時(shí)間過久，抗蝕劑中溶劑揮發(fā)。在低于27的環(huán)境中儲(chǔ)存干膜，儲(chǔ)存時(shí)間不宜超過有效期。 2)覆銅箔板清潔處理不良，有氧化層或油污等污物或微觀表面粗糙度不夠。 重新按要求處理板面并檢查是否有均勻水膜形成。3)環(huán)境濕度太低。 保持環(huán)境濕度為50RH左右。4)貼膜溫度過低或傳送速度太快。 調(diào)整好貼膜溫度和傳送速度，連續(xù)貼膜最好把板子預(yù)熱。 2干膜與銅箔表面之間出現(xiàn)氣泡干膜與銅箔表面之間出現(xiàn)氣泡 原 因 解決辦法1)貼膜溫度過高，抗蝕劑中的揮發(fā)成分急劇揮發(fā)，殘留在聚酯膜和覆銅箔板之間，形成鼓泡。 調(diào)整貼膜溫度至標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)。2)熱壓輥表面不平有凹坑或劃傷。 注意保護(hù)熱壓輥表面的平整，清潔熱壓輥時(shí)不要用堅(jiān)硬、鋒利的工具去刮。3)