電鍍液中主要成份的作用教材

1、電鍍液中主要成份的作用在電鍍加工廠的日常電鍍加工生產(chǎn)過程中,我們要使用到 電鍍液這個必須的電鍍原材料產(chǎn)品，電鍍?nèi)芤旱慕M成對電鍍層的結(jié)構(gòu)有著很重要的影響。不同的鍍層金屬所使 用的電鍍?nèi)芤旱慕M成可以是各種各樣的 .但是都必須含有主鹽。根據(jù)主鹽性質(zhì)的不同，可將電鍍?nèi)芤悍譃楹唵嘻}電鍍?nèi)芤汉徒j(luò)合物電鍍?nèi)芤簝纱箢?。?單鹽電鍍?nèi)芤褐兄饕饘匐x子以簡單離子形式存在(如cu2+、Ni2+、Zn2+等)，其溶液都是酸性的。在絡(luò)合物電鍍?nèi)芤褐?，因含有絡(luò)合劑，主要金屬離子以絡(luò)離子形式存在(如Cu(CN)32-、Zn(CN)42-、Ag(CN)2-等)，其溶液多數(shù)是堿性的，也 有酸性的。 除主鹽和絡(luò)合劑夕卜，電鍍?nèi)芤?/p>

2、中經(jīng)常還加有導(dǎo)電鹽、緩沖劑、陽極去極化劑以及添加劑等，它們各有不同的作用。一、主鹽 能夠在陰極上沉積出所要求的鍍層金屬的鹽。主鹽濃度高，溶液的導(dǎo)電性和電流效率一股都較高，可使用較大的電流密度，加快了沉積速度。在光亮電鍍時，鍍層的光亮度和整平性也較好。但是，主鹽濃度升高會使陰極極化下降，出現(xiàn)鍍層 結(jié)晶較粗，鍍液的分散能力下降，而且鍍液的帶出損失較大，本錢較高，同時還增加了廢 水處理的負(fù)擔(dān)。主鹽濃度低，那么采用的陰極電流密度較低.沉積速度較慢，但其分散能力和覆蓋能力均較濃溶液好。因此，主鹽濃度要有一個適當(dāng)?shù)姆秶?，并與溶液中其他成分的濃度維持一個適當(dāng)?shù)谋戎?。有時，由于使用要求不同.即使同一類型的鍍液

3、，其主鹽含量范圍也不同。對于電鍍形狀復(fù)雜的零件或用于預(yù)鍍、沖擊鍍時，要求較高的分散能力,較低 般多采用主鹽濃度的電鍍?nèi)芤骸６焖匐婂兊娜芤?，那么要求主鹽含量高。二、導(dǎo)電鹽 能提高溶液的電導(dǎo)率，而對放電金屬離子不起絡(luò)合作用的物質(zhì)。這類物質(zhì)包括酸、堿和鹽，由于它們的主要作用是用來提高溶液的導(dǎo)電性，習(xí)慣上通稱為導(dǎo)電鹽。如 酸性鍍銅溶液中的H2SO4氯化物鍍鋅溶液中的 KCL NaCl及氰化物 鍍銅溶液中的NaOH和NaCO等。 導(dǎo)電鹽的含量升高，槽電壓下降，鍍液的深鍍能力 得到改善，在多數(shù)情況下，鍍液的分散能力也有所提高。的限制.而且大量導(dǎo)電鹽的存在還會降低其他鹽類的溶解度。 劑的溶液，過多的導(dǎo)電鹽

4、會降低它們的溶解度，使溶液 象.嚴(yán)重的會影響鍍液的性能。所以導(dǎo)電鹽的含量也應(yīng)適當(dāng)。導(dǎo)電鹽的含量受到溶解度 對于含有較多外表活性 在較低的溫度下發(fā)生乳濁現(xiàn)三、絡(luò)合 在溶液中能與余屬離子生成絡(luò)合離子的物質(zhì)稱為絡(luò)合劑。如氰化物鍍液中的NaCN或KCN焦磷酸鹽鍍液中的 K4P2O或Na4P2O等。在絡(luò)合物鍍液中，最具重要意義的，并不是絡(luò)合劑的絕對含量，而是絡(luò)合劑與主鹽 的相對含量， 通常用絡(luò)合劑的游離量來表示，即除絡(luò)合金屬離子以外多余的絡(luò)合劑絡(luò)合劑的游離量增加，陰極極化增大，可使鍍層結(jié)晶細(xì)致，鍍液的分散能力和覆蓋能力都得到改善，但是.陰極電流效率下降，沉積速度減慢。過高時，大量析氫會造成鍍層針孔，低電

5、流密度區(qū)沒有鍍層，還會造成基體金屬的氫脆。對于陽極來說，它將降低陽極極化，有利于陽極的正常溶解。絡(luò)合劑的游離量低，鍍層結(jié)晶變粗，鍍掖的分散能力和覆蓋能力都較差。四、緩沖劑 用來穩(wěn)定溶液的PH值，特別是陰極外表附近的 PH值。緩沖劑一般是用 弱酸或 弱酸的酸式鹽，如鍍鎳溶液中的比 H3BO3和焦磷酸鹽鍍液中的 Na2HPO4等。任何一種緩沖 劑都只能在一定的范圍內(nèi)具有較好的緩沖作用，超過這一范圍其緩沖作用將不明顯或完全沒有緩沖作用， 而是還必須要有足夠的量才能起到穩(wěn)定溶液PH值的作用，由于緩沖劑可以減緩陰極外表因析氫而造成的局部PH值的升高，并能將其控制在最正確值范圍內(nèi)，所以對提高陰極極化有一定

6、作用，也有利于提高鍍液的分散能力和鍍層質(zhì)量。過多的緩沖劑既無必要，還有可能降低電流效率或產(chǎn)生其他副作用。五、電鍍穩(wěn)定劑 用來防止鍍液中主鹽水解或金屬離子的氧化，保持溶液的清澈穩(wěn)定。如酸性鍍錫和鍍銅溶液中的硫酸，酸性鍍錫溶液中的抗氧化劑等。六、陽極活化劑 在電鍍過程中能夠消除或降低陽極極化的物質(zhì)，它可以促進陽極正常溶解，提高陽極電流密度。如鍍銀溶液中的氯化物，氰化鍍銅溶液中的酒石酸鹽七、添加劑是指那些在鍍液中含量很低，但對鏈液和鍍層性能卻有著顯著影響的物質(zhì)。近年來添加劑的開展速度很快?在電鍍生產(chǎn)中占的地位越來越重要，種類越來越多，而且越來越多地使用復(fù)合添加劑來代替單一添加劑。按照它們在電鍍?nèi)芤褐?/p>

7、所起的作用，大致可分為如下幾類。一 光亮劑 它的參加可以使鍍層光亮。如鍍鎳中的糖精及1,4- 丁炔二醇;氯化物鍍 鋅中的芐*丙酮等。當(dāng)在鍍液中含有幾種光亮劑或?qū)追N物質(zhì)配制成復(fù)合光亮劑時，常根 據(jù)光亮劑的集團及其在鍍液中的作用、性能和對鍍層的影響等，又將它們分為初級光亮劑、次級光亮劑、載體光亮劑和輔助光亮劑等。二整平劑 具有使鍍層將基體外表細(xì)微不平處填平的物質(zhì)。如鍍鎳溶液中的香豆素，酸性光亮鍍銅溶液中的四氫噻唑硫酮、甲基紫等。三 潤濕劑 它們的主要作用是降低溶液與陰極間的界面張力，使氫氣泡容易脫離陰 極 外表，從而防止鍍層產(chǎn)生針孔。這類物質(zhì)多為外表活性劑，其添加量很少，對鍍液和鍍層的其他性能沒

8、有明顯的影響。如鍍鎳溶液中的十二烷基硫酸鈉和銨鹽鍍鋅中的海鷗洗滌劑。四應(yīng)力消除劑 能夠降低鍍層內(nèi)應(yīng)力，提高鍍層韌性的物質(zhì)。堿性鍍鋅溶液中的香豆素五鍍層細(xì)化劑它是能使鍍層結(jié)晶細(xì)化并具有光澤的添加劑。如堿性鍍鋅溶液中的DE及DPE等添加劑?？梢栽谝毫朱F劑這是一類外表活性劑。具有發(fā)泡作用，在氣體或機械攪拌的作用下， 面生成一層較厚的穩(wěn)定的泡沫以抑制氣體析出時帶出的酸霧、堿霧或溶液的飛沫。選擇的原那么是它對鍍液和鍍層的其他性能沒有有害的影響，而本身在溶液中相當(dāng)穩(wěn)定，如鍍鉻溶液中使用的F53。抑霧刑的參加量一般都很小，過多會造成泡沫外溢或爆鳴，如果選擇或使用不當(dāng)那么會在 鍍層上造成氣流痕、針孔等。七無

9、機添加劑此類添加劑多數(shù)是硫、硒、碲的化合物及一些可與鍍層金屬共析的其他金屬鹽。這些金屬離子對鍍層的性能會有顯著的影響，而且這種影響是多方面的。例如在鍍鎳 溶液中參加鎘鹽可以得到光亮的鍍層，在硫酸鹽鍍錫溶液中參加鉛鹽可防止鍍層長錫須，在鍍銀或鍍金溶液中參加銻或鉆鹽可以提高鍍層的硬度等等。但是這些金屬的含量必須很低，否那么將會使鍍層惡化，如發(fā)黑、發(fā)脆、產(chǎn)生條紋等。八、陽極 電鍍時發(fā)生氧化反響的電極為陽極。它有不溶性陽極和可溶性陽極之分。不溶性陽極的作用是導(dǎo)電和控制電流在陰極外表的分布；可溶性陽極除了有這兩種作用外，還具有向鍍液中補充放電金屬離子的作用。后者在向鍍液補充金屬離子時，最好是陽極上溶解入

10、溶液的金屬離子的價數(shù)與陰極上消耗掉的相同。如酸性鍍錫時，陰極 上消耗掉的是Sn2+，要求陽極上溶解入溶液的也是 Sn2+;在堿性鍍錫時，陰極 上消耗掉 的是Sn4+ ,要求陽極上溶解入溶液的也是 Sn4+。同是還希望陽極上溶解 入溶液中的金屬離子 的量與陰極上消耗掉的根本相同，以保持主鹽濃度在電鍍過程中的穩(wěn)定。陽極的純度、形狀及它在溶液中的懸掛位置和它在電鍍時的外表狀態(tài)等對電鍍層質(zhì)量都有影響。染料型鍍銅光亮劑配方分析目錄?鍍銅光亮劑應(yīng)用背景?特點*染料光亮劑組成*配方例如僅做參考光亮硫酸鹽鍍銅有許多優(yōu)點，特別適宜作塑料電鍍的底鍍層，也常作為裝飾性鋼鐵零件電鍍銅、鎳、鉻的底鍍層。用光亮硫酸鹽鍍銅

11、整平增厚，是降低電鍍本錢有效手段之一。硫酸鹽鍍銅用于工業(yè)化生產(chǎn)已有 100多年，通過向鍍液中添 加一些光亮添加劑和整平劑等，可以得 到細(xì)致、平整的鍍層。1. 背景國外酸銅添加劑中很早就將染料用作整平劑。雖然后來又開發(fā)了一些整平劑，但效果不及染料型的好。染料的優(yōu)點主要是覆蓋能力較好，同時有較好的整 平作用。我 國在開始試驗MN型光亮劑時，也對染料進行過研究，如曾從 40多 種染料中篩選出甲基紫和藏花紅，認(rèn)為 這2種染料效果較好，但使用中存在幾個問題。 1鍍液允許上限溫度低， 一般不超過 30C 2染料的聚合和沉降； 3染料型光亮劑 在高、中電流密度區(qū)整平性不如 MN 型好。2. 染料型鍍銅光亮劑

12、的特點染料型鍍銅光亮劑的性能集中表達在整平能力、出光速率、走位能力三個方 面。研制整平 能力強、出光速率快、走位好的高性能鍍銅光亮劑關(guān)鍵在于中間體的選擇與復(fù)配原那么確實定。1出光速度快，整平性好。對此，我們曾與市面上認(rèn)為最正確的進口同類型光亮 劑在大生產(chǎn)線上作了現(xiàn)場比照，一般車削鐵零件或黃銅零件，可在 6分鐘左右出 現(xiàn)鏡面光亮的鍍層，性能根本持平。其中“ 207是濃縮型的，用量較省，綜合性能較好；“ 209 最突出的是整平性，鍍層飽滿度更好些。2覆蓋能力走位好，尤其在低電區(qū)有較好的光亮度。對此，我們曾做了大量赫爾槽和角陰極試驗，試片在低電流密度區(qū)鍍層仍比擬清亮， 未出現(xiàn)界限明顯 的暗色銅鍍層。

13、3光亮劑容許范圍寬，調(diào)整較容易。也就是加得少，鍍層光亮度略差些；稍多加些，也不會出現(xiàn)明顯的掛勾或零件孔邊的“眼圈印。4兼容性好，能與進口染料型光亮劑相互替換或取代使用。5在一般情況下，不會產(chǎn)生憎水膜，因而電鍍后續(xù)鍍層前不需進行脫膜處理；但前提是鍍液中有機雜質(zhì)不能積累太多；太多了需用雙氧水-活性炭處理。6由于染料在鍍液中及在電極上的分解和聚合， 會產(chǎn)生顆粒狀懸浮或沉淀物， 吸附到鍍件上， 就會出現(xiàn)針孔、麻點，因而鍍液必須進行循環(huán)過濾，循環(huán)量最好 每小時不少于槽液總體積的 5 倍，至少也得 3倍。3. 染料型光亮劑的組成一般將染料型光亮劑分為開缸劑MU、光澤劑與整平劑3種出售。開缸時3種都加。開

14、缸劑主要為細(xì)化結(jié)晶、減少針孔麻點，開缸時用量較大，但平時補加 不多。而光澤劑與整平劑 由用戶視情況補加。開缸劑主要為細(xì)化結(jié)晶、減少針 孔麻點，開缸時用量較大，但平時補加不 多。補充時以A，B劑為主，一般情況 下A，B劑可按各50%參加；假設(shè)有些零件要求鍍液覆蓋 能力走位更好些，可適當(dāng)多加些 A 劑；有些形狀較簡單的零件，但要求出光速度和整平能 力更好的，那么可適當(dāng)多加些B劑。不過A，劑的添加量不宜相差過多,一般以不超過10%為宜。3.1 光亮劑光亮劑用來增強高電流密度區(qū)光亮度與整平劑配合發(fā)揮作用。主要成分為有機含硫磺酸鹽主要發(fā)光基團等類型。高檔次的光亮劑中間體有醇硫基丙烷磺酸鈉HP，二甲基甲酰

15、胺基磺酸鈉TPS，噻咪啉基二硫代丙烷磺酸SH110。HP是作用于酸 性鍍銅液中取代傳統(tǒng) SP 聚二硫二丙烷磺酸鈉的晶粒細(xì)化劑與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬多加不發(fā)霧，低位效果好等優(yōu)點。TPS性能與 SP 相仿其高區(qū)走位性能優(yōu)良光亮劑組分性能較易控制是取代 SP 的新一代高性能酸銅 中間體;SH11作用與SP根本相同，其不同之處它是晶粒細(xì)化劑與整平劑結(jié)合的產(chǎn)物該工藝特別適用于線路板電鍍及電鑄銅。3.2 載體在銅鍍液中，參加的光亮劑必須在外表活性劑的協(xié)同下才能使鍍層光亮、整平，這些外表活性劑即為載體。常見的載體有聚乙二醇、多胺與環(huán)氧乙烷的加成物AE、脂肪胺與環(huán)氧乙烷的加成物DAE、脂肪

16、胺聚氧乙烯醚AEO、辛基 酚聚氧乙烯醚0P、聚 乙烯亞胺季銨鹽等。有些載體還同時具有潤濕性、染料分散劑、鍍層晶粒細(xì)化的作用。常用的非離子外表活性劑聚乙二醇 P 分子量有6000, 8000,10000;潤濕 劑MT-100, P必 須和光亮劑、整平劑組合使用方可獲得全光亮鍍層，MT-10C為琥珀酸酯鈉鹽，低泡潤濕劑能提高鍍液的均鍍能力，使上下電流密度區(qū)沉積的鍍層均勻一致。3.3整平劑整平劑，多為雜環(huán)化合物和染料。染料由于其結(jié)構(gòu)不同，有些起光亮作用，有些起整平作用。常見的染料有甲基紫、藏花紅、噻嗪類染料MD三苯甲烷 染料、聚合硫代染料 堿性黃、吩嗪類染料等。最正確的吩嗪類染料是健拿綠B及健拿黑R

17、,它們具有最好的整平能力和最寬的光亮電流密度范圍。雜環(huán)化合物可以加強低電位區(qū)的走位能力，改善和加強整平能力。3.4潤濕劑濕潤劑一般為外表活性劑。外表活性劑的濕潤作用可以消除銅鍍層上產(chǎn)生的麻點與針孔，此外還能在陰極與鍍層界面上定向排列劑產(chǎn)生吸附作用，從而提高陰極極化 作用，使鍍層的結(jié)晶更加致密、均勻和細(xì)致。常用的非離子外表活性劑聚乙二醇分子量有6000, 8000, 10000、十二烷基磺酸鈉、 HFI 改性聚 醚、RPE 環(huán)氧乙烷-環(huán)氧丙烷 共聚物、烷基酚聚氧乙烯醚磺酸鹽的等。除此之外，還有結(jié)構(gòu)更加復(fù)雜的聚胺類外表活性劑，如烷氧雙胺、脂肪胺聚氧乙烯醚等。4. 染料型銅光亮劑的配制4.1 NM型

18、+染料類光亮劑成分含量mg/L12-巰基苯并咪唑M廠0.8390.8902乙撐硫脲N0.574'0.6003聚二硫二丙烷磺酸鈉 SP26.0 28.04聚乙二醇P0.0700.0785甲基紫0.0550.0604.2配制流程1 M 2-巰基苯駢咪唑溶液的配制M是一種整平劑。定量稱取 M后，將其參加去離子水中，加熱至 90C時，參加少量NaOH 攪拌下，固體慢慢溶解后，冷卻溶液至室溫待用。2 N乙撐硫脲卜SP聚二硫二丙烷磺酸鈉、聚乙二醇20000P溶液的配制N也是一種整平劑；P是外表活性劑，主要作用是減少鍍層針孔和麻點。定量稱 取N、SR P后，將其參加去離子水中，常溫下攪拌溶解后備用；

19、3) 染料溶液的配制將染料與染料分散劑參加水中，常溫下強力攪拌至均勻后待用；4) 光亮劑的配制將上述的前兩種溶液混合均勻后，參加局部去離子水，然后將染料溶液參加到 此混合液中，攪拌下補充水至計算值。4.3酸銅光亮劑參考配方成分含量(mg/L)1聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)0.011 0.0202聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)0.01 0.053龍膽紫0.018 0.0214聚乙二醇(P)0.15 0.205健拿黑R0.0290.035酸性鍍銅光亮劑配方分析目錄?背景一光亮劑*酸銅光亮劑*配方例如一僅供參考1. 背景酸性硫酸鹽鍍銅工藝因為其溶液根本成分簡單，溶液穩(wěn)定，電流效率高，參加適當(dāng)光亮劑就

20、可以得到高光亮度、高整平性、高均鍍能力的鍍層，因而得到廣泛 的應(yīng) 用。酸性鍍銅層的好壞在于酸銅光亮劑的選擇與應(yīng)用，而酸性鍍銅光亮劑的 開發(fā)關(guān)鍵在于中間體的選擇和復(fù)配。傳統(tǒng)的非染料系列 MN型光亮劑價格低、應(yīng) 用廣，但對高端產(chǎn)品性能無法滿足要求，近年來國 外的復(fù)合型染料系列酸銅光亮劑大舉進軍國內(nèi)市場,迅速占有60%-70%勺市場份額。國外產(chǎn)品價格較高,因此 有必要 開發(fā) 出能與國外產(chǎn)品性能相媲美的新一代酸銅光亮劑，是國內(nèi)電鍍工作 者的當(dāng)務(wù)之急。2. 酸銅光亮劑的組成酸性鍍銅光亮劑一般由載體、光亮劑、整平劑及輔助添加劑等組成。2. 1載體在酸性鍍銅電解液中，假設(shè)單獨參加光亮劑，鍍層的光亮效果不顯著

21、，還必 須參加外表活 性劑才能獲得光亮性好和具有一定整平性的鍍層。常用的有聚乙二 醇、多胺與環(huán)氧乙烷加成物AE、脂肪胺與環(huán)氧乙烷加成物DAE、脂肪胺聚 氧乙烯醚AEO及0P系列辛基酚聚氧乙 烯醚等。除作為光亮劑的載體外,有的 還具有潤濕、分散染料及細(xì)化晶粒的作用。2. 2光亮劑光亮劑主要作為細(xì)化晶粒、增強高電流密度區(qū)光亮度 ，與整平劑配合發(fā)揮作 用，主要成分 為有機硫磺酸鹽。常用的有 SP,它可以單獨作為光亮劑使用，也可 以和其它含2S2S2鍵的光 亮劑配合使用，如苯基二硫丙烷磺酸鈉BSP、醇硫基丙烷磺酸鈉HP、聚二甲基酰胺基磺酸 鈉仃P(guān)S等。2. 3整平劑多為雜環(huán)化合物和染料。常用的染料有甲

22、基紫、藏花紅、四氫噻唑硫酮H1、聚乙烯亞胺烷基化合物GISS、脂肪胺乙氧基磺化物AESS、巰基咪唑丙磺酸 鈉MESS噻嗪類染料、 三苯甲烷染料、聚合硫代染料堿性黃、偶氮嗪染料MDD及吩嗪類染料等。2. 4其它添加劑在酸性光亮鍍銅液中采用的外表活性劑以非離子外表活性劑效果最正確，并具 有穩(wěn)定的晶粒細(xì)化。此外還可參加少量陰離子外表活性劑作分散劑，對改善鍍層 質(zhì)量亦有一定效果。常用的非離子外表活性劑聚乙二醇P分子量有6000,8000,10000 ;琥珀酸酯鈉鹽類低泡潤濕劑 能提高鍍液的均鍍能力，使上下電 流密 度區(qū)沉積的鍍層均勻一致。3.酸銅光亮劑配方v酸性鍍銅光亮劑有三大系列,一類是非染料體系,

23、另一類是染料體系，還有一種就是以 非染料為根底添加局部染料的改良體系。傳統(tǒng)的非染料系列由“2巰基苯并咪唑M、“乙撐硫脲N “聚二硫二丙烷磺酸鈉SP “聚乙二醇P,分子 量6000 組合而成，簡稱 MN體系，在70年代末由我國的電鍍科技工 作者研制 成功。MN體系對酸銅光亮劑來說是一個里程碑。該系列光亮劑出光 慢、整平差、低電位光亮 整平明顯缺乏。但這一系列光亮劑應(yīng)用了多年，至今許多廠家還在正常使用。3.1傳統(tǒng)MN非染料系列工藝成分含量g/L12-巰基苯并咪唑(M)0.0003 ? 0.0012乙撐硫脲(N)0.0002 ? 0.00073聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)0.01 ? 0.02 4聚乙

24、二醇(P)0.05 ? 0.15十二烷基硫酸鈉0.05 ? 0.2溫度：15?30C當(dāng)用AEO代替十二烷基硫酸鈉時， AEO用量為十二烷基硫 酸鈉的1/5左右。此 工藝鍍中低 檔產(chǎn)品完全可以，但鍍高檔產(chǎn)品時，亮度較低，達不到要求。3.2傳統(tǒng)MN非染料系列改良工藝針對傳統(tǒng)非染料 MN系列光亮劑出光慢、整平性差、低電位光亮整平明顯缺乏等弱點，電鍍工作者不斷進行探索，先后有聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)、脂肪胺乙氧基磺化物(AESS)、聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)、三甲基甲酰胺基磺酸鈉(TPS)、巰基咪唑 丙磺酸鈉(MESS)等一種或幾種引入 MN型非染料系列中，極大地改善了中低電位的光亮整平性，拓寬

25、了使用溫度范圍。同時針對傳統(tǒng)MN系列全面整平性較差這一弱點，用苯基聚二硫丙烷磺酸鈉 (BSP)、醇硫基丙烷磺酸鈉(HP)代替?zhèn)鹘y(tǒng)SP,整平 性能得到進一步改善；用四氫噻唑硫酮(H1)取代MN后，光亮度、 整平性、走位都會得到改進。傳統(tǒng)MN系列+有機染料成分含量(g/L )12-巰基苯并咪唑(M)0.0003 ? 0.0012乙撐硫脲(N)0.0002 ? 0.00073聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)0.01 ? 0.02 4聚乙二醇(P)0.1 ? 0.255甲基紫適量溫度：15? 32 C甲基紫在超過33C時候分解明顯，夏天的槽液需要冷卻降溫。已逐步被新型染料替代。傳統(tǒng) MN系列+PN成分含量(

26、g/L)12-巰基苯并咪唑(M)0.0003 ? 0.0012乙撐硫脲(N)0.0002 ? 0.00073聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)n0.01 ? 0.02n4聚乙二醇(P)0.05 ? 0.15聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)0.2溫度：15?45C323 傳統(tǒng) MN 系列 +AESS+GISS成分含量(g/L )12-巰基苯并咪唑(M)0.0003 ? 0.0012乙撐硫脲(N)0.0002 ? 0.00073聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)0.01 ? 0.024聚乙二醇(P)0.1 ? 0.255脂肪胺乙氧基磺化物(AESS)0.01 ? 0.026聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)0.01 ? 0

27、.02溫度：15? 30C3.2.4 MN的替代工藝成分含量(g/L )1四氫噻唑硫酮(H1)0.0002 ? 0.0012聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)0.001 ? 0.0023聚二硫二丙烷磺酸鈉(SP)0.01 ? 0.02n4聚乙二醇(P)0.05 ? 0.15聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)0.2 ? 0.04溫度：15? 45 E3.2.5 M、SP的替代工藝3.2.5.1 TPS 替代成分含量(g/L )1二甲基甲酰胺基磺酸鈉仃P(guān)S)0.03 ? 0.062乙撐硫脲(N)0.0003 ? 0.00073聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)0.01 ? 0.02 4聚乙二醇(P)0.05 ?

28、 0.15聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)0.2 ? 0.04溫度：15? 45 E325.2 H1 替代成分含量(g/L )1四氫噻唑硫酮(H1)0.0002 ? 0.0012苯基聚二硫丙烷磺酸鈉(BSP) n0.01 ? 0.033聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS) 10.01 ? 0.02n4聚乙二醇(P)0.05 ? 0.15聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)0.2 ? 0.04溫度：15?45C325.3 MESS 替代成分含量(g/L )1脂肪胺乙氧基磺化物(AESS)二0.0005 ? 0.022乙撐硫脲(N)0.0003 ? 0.00073醇硫基丙烷磺酸鈉(HP)0.02 ? 0.04H4聚乙二醇

29、(P)0.05 ? 0.15聚乙烯亞胺烷基鹽(PN)0.2 ? 0.04化學(xué)浸鍍(簡稱化學(xué)鍍)技術(shù)的原理是：化學(xué)鍍是一種不需要通電，依據(jù)氧化 復(fù)原反響原理， 利用強復(fù)原劑在含有金屬離子的溶液中，將金屬離子復(fù)原成金屬而沉積在各種材料外表形成致密鍍層的方法?；瘜W(xué)鍍常用溶液：化學(xué)鍍銀、鍍鎳、鍍銅、鍍鉆、鍍鎳磷液、鍍鎳磷硼液等。目前以次亞磷酸鹽為復(fù)原劑的化學(xué)鍍鎳的自催化沉積反響，已經(jīng)提出的理論有“原子氫態(tài)理論、“氫化物理論和“電化學(xué)理論等。在這幾種理論中，得到廣泛成認(rèn)的是“原子氫態(tài)理論。敏化敏化就是使非金屬外表形成一層具有復(fù)原作用的復(fù)原液體膜。這種具有復(fù)原作 用的處理液就是敏化劑。好的敏化效果要求具有

30、復(fù)原作用的離子在一定條件下能較長時間保持其復(fù)原能力，并且能控制其復(fù)原反響的速度，要點是敏化所要還原出來的不是連續(xù)的鍍層，而只是活化點。目前最適合的復(fù)原劑只有氯化亞錫。目前，對于非金 屬化學(xué)鍍鎳用得最多的是 Pd活化工藝。當(dāng)吸附有Sn的非金屬 外表接觸到Pd活化液時，Pd會被Sn復(fù)原而沉積到非金屬外表形成活 化中心， 從而順利進行化學(xué)鍍。主鹽:化學(xué)鍍鎳溶液中的主鹽就是鎳鹽，一般采用氯化鎳或硫酸鎳，有時也采用氨基磺酸鎳、醋酸鎳等無機鹽。早期酸性鍍鎳液中多采用氯化鎳，但氯化鎳會增加鍍層的應(yīng)力，現(xiàn)大多采用硫酸鎳。目前已有專利介紹采用次亞磷酸鎳作為鎳和次亞磷酸根的來源，一個優(yōu)點是防止了硫酸根離子的存在，

31、同時在補加鎳鹽時，能使堿金屬離子的累積量到達最小值。但存在的問題是次亞磷酸鎳的溶解度有限，飽和時僅為35g/L。次亞磷酸鎳的制備也是一個問 題，價格較高。如果次亞磷酸 鎳的制備方法成熟以及溶解度問題能夠解決的話，這種鎳鹽將會有很好的前景。復(fù)原劑：化學(xué)鍍鎳的反響過程是一個自催化的氧化復(fù)原過程，鍍液中可應(yīng)用的復(fù)原劑有次 亞磷酸鈉、硼 氫化鈉、烷基胺硼烷及肼等。在這些復(fù)原劑中以次亞磷酸鈉用的最 多，這是因為其價格廉價， 且鍍液容易控制，鍍層抗腐蝕性能好等優(yōu)點。絡(luò)合劑：化學(xué)鍍鎳溶液中的絡(luò)合劑除了能控制可供反響的游離鎳離子的濃度外， 還能抑制 亞磷酸鎳的沉淀，提高鍍液的穩(wěn)定性，延長 鍍液的使用壽命。有的

32、絡(luò)合劑還能 起到緩沖劑和促進劑的作用，提高鍍液的沉積速度?；瘜W(xué)鍍鎳的絡(luò)合劑一般含有 羥基、羧基、 氨基等，常用的絡(luò)合劑有檸檬酸鈉、 酒石酸鈉等。在鍍液配方中，絡(luò)合劑的量不僅取決于鎳離子的濃度， 而且也取決于自身的化學(xué) 結(jié)構(gòu)。在鍍液 中每一個鎳離子可與 6 個水分 子微弱結(jié)合，當(dāng)它們被羥基，羧基， 氨基取代時，那么形成一個 穩(wěn)定的鎳配位體。如果絡(luò)合劑含有一個以上的官能團， 那么通過氧和氮配位鍵可以生成一個鎳的 閉環(huán)配合 物。在含有 O.lmol 的鎳離子鍍 液中，為了絡(luò)合所有的鎳離子，那么需要含量大約 0.3mol 的雙配位體的絡(luò)合劑。 當(dāng)鍍液中無絡(luò) 合劑時，鍍液使用幾個周期后，由于亞磷酸根聚集，濃度增大，產(chǎn) 生亞磷酸鎳沉淀，鍍液加熱 時呈現(xiàn)糊狀，加絡(luò)合劑后能夠大幅度提高亞磷酸鎳 的沉淀點，即提高了鍍液對亞磷酸鎳的容忍 量，延長了鍍液的使用壽命。不同絡(luò)合劑對鍍層沉積速率、外表形狀、磷含