《半導(dǎo)體光電子器件制作技術(shù)》

1、半導(dǎo)體光電子器件制作技術(shù)課程編號：*課程名稱：半導(dǎo)體光電子器件制作技術(shù)學(xué)分：1.5 學(xué)時:24 (其中實驗學(xué)時：0)先修課程：半導(dǎo)體物理一、目的與任務(wù)本課程是一門專業(yè)教育選修課，適合于光信息科學(xué)技術(shù)、電子科學(xué)與技術(shù)、測控技術(shù)與儀器等專業(yè)。本課程的目的是為光電信息工程，電子科學(xué)與技術(shù)，測控技術(shù)與儀器等專業(yè)的學(xué)生進(jìn)入半導(dǎo)體制造和研究領(lǐng)域打下堅實的理論和實踐基礎(chǔ)。本課程的任務(wù)是通過半導(dǎo)體光電子芯片、器件及系統(tǒng)制造的工藝方法、工藝原理以及半導(dǎo)體制造新技術(shù)及發(fā)展趨勢的學(xué)習(xí)，使學(xué)生掌握半導(dǎo)體光電子器件與系統(tǒng)的通用制備方法和過程以及相關(guān)基礎(chǔ)理論知識。二、教學(xué)內(nèi)容及學(xué)時分配第一章 緒論 (2學(xué)時)1.光電子材

2、料 2.光電子器件 3.工藝技術(shù)概述 第二章 晶體材料生長(3學(xué)時)1.單晶硅的生長及氧化技術(shù)2.砷化鎵晶體的生長技術(shù)3.氮化稼基晶體的生長技術(shù)第三章 薄膜沉積技術(shù)(8學(xué)時)1.薄膜技術(shù)概述2.蒸發(fā)技術(shù)3.濺射技術(shù)4.外延生長技術(shù)5.CVD技術(shù)6.典型介質(zhì)及金屬制備技術(shù)第四章 光刻和刻蝕(2學(xué)時)1.光刻工藝原理2.光學(xué)光刻工藝介紹3.新一代光刻方法4.濕法刻蝕5.干法刻蝕第五章 摻雜技術(shù) (2學(xué)時)1.擴(kuò)散工藝原理2.基本擴(kuò)散工藝3.離子注入原理4.注入相關(guān)工藝第六章 典型光電子器件制作工藝(7學(xué)時)1.CMOS工藝流程及制作步驟(2學(xué)時)2.光電探測器的結(jié)構(gòu)和制作(1學(xué)時)3.發(fā)光二極管的

3、結(jié)構(gòu)和制作(1學(xué)時)4.太陽能電池的結(jié)構(gòu)與制作(1學(xué)時)5.電致發(fā)光顯示的結(jié)構(gòu)和制作(2學(xué)時)三、考核與成績評定考核：統(tǒng)一命題，開卷成績評定：考試占80%，平時作業(yè)及日?？己说日?0%，按百分制給出最終成績。四、大綱說明1. 本大綱是根據(jù)我校電子科學(xué)與技術(shù)（光電子）、光電信息科學(xué)與工程、光電信息工程專業(yè)培養(yǎng)計劃及其知識結(jié)構(gòu)要求，并適當(dāng)考慮專業(yè)特色而制定的。2. 在保證基本教學(xué)要求的前提下，教師可以根據(jù)實際情況，對內(nèi)容進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整和刪節(jié)。3. 本大綱適合光電類相關(guān)專業(yè)。五、教材、參考書：教材：1(美)施敏, 梅凱瑞著，半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)，合肥，安徽大學(xué)出版社，2007參考書：1(美)Micha

4、el Quirk, Julian Serda著，半導(dǎo)體制造技術(shù)，北京，電子工業(yè)出版社 20042夏海良等編，半導(dǎo)體器件制造工藝，上海，上?？茖W(xué)技術(shù)出版社 1986編寫教師：喻志農(nóng)責(zé)任教授簽字：教學(xué)院長簽字：Fabrication Technology of Optoelectronic Semiconductor DevicesCourse Code: Course Name: Fabrication Technology of Optoelectronic Semiconductor DevicesClass Hour: 24Credit: 1.5Course DescriptionThe

5、objective of this course is to familiarize students with the fabrication technology of optoelectronic semiconductor devices. The course consists of crystal growth, thin film fabrication, lithography and etching, doping technique, fabrication of typical optoelectronic semiconductor devices, and so on. This course will help the students understand the general fabrication methods of optoelectronic semiconductor devices and systems, and the relevant basic theories in details. Through this course, students w