場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書_第1頁(yè)
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書_第2頁(yè)
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書_第3頁(yè)
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書_第4頁(yè)
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè),還剩9頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書附件:場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書一、設(shè)備用途掃描電鏡是一種多功能的儀器,廣泛地用于材料的微觀組織觀察、微區(qū)成分分析、材料的斷分析、材料的晶粒度分析、夾雜物分析及織構(gòu)表征等,可對(duì)導(dǎo)電及不導(dǎo)電的固體材料進(jìn)行表面形貌的觀察及成分分析。場(chǎng)發(fā)射電鏡能夠?qū)崿F(xiàn)更高分辨率的形貌觀察,可實(shí)現(xiàn)對(duì)超細(xì)晶材料尤其是納米材料的表征。基于相關(guān)附件,也可以對(duì)材料在溫度及應(yīng)力作用下的動(dòng)態(tài)變化進(jìn)行原位觀察。儀器包括電子光學(xué)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、樣品室和樣品臺(tái)、探測(cè)器及成像系統(tǒng)、圖像處理系統(tǒng)、應(yīng)用軟件及數(shù)據(jù)處理軟件、X射線能譜分析儀(EDS)、背散射電子衍射分析儀(EBSD)、原位加熱臺(tái)。二、技術(shù)參數(shù)1,運(yùn)行環(huán)境1.

2、1 工作溫度:可以在1525環(huán)境溫度工作1.2 相對(duì)濕度:濕度小于60%RH時(shí)正常工作1.3工作電壓:在220V(有0%)、50Hz電壓下,儀器可連續(xù)使用2 .電子光學(xué)系統(tǒng)2.1 電子槍:Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍2.2 加速電壓:0.2kV30KV,步長(zhǎng)10V連續(xù)可2.3 電子束流:束流連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性優(yōu)于0.2%/h2.4 放大倍數(shù):15倍100萬(wàn)倍2.5 工作距離:550mm,粗調(diào)、精調(diào)兩種模式2.6 物鏡:無(wú)漏磁物鏡,能有效觀測(cè)磁性樣品2.7 物鏡光闌:具備自清潔功能3 .真空系統(tǒng)3.1 機(jī)械泵、分子泵、離子泵三級(jí)抽真空系統(tǒng)*3.2真空模式:能夠滿足基本的成像、分析的高真空模式,同時(shí)

3、滿足原位加熱臺(tái)等附件工作的需要模式3.3 真空度:電子槍真空度優(yōu)于l(TPa、樣品室高真空優(yōu)于10Pa3.4 抽真空時(shí)間:不高于5min4 .檢測(cè)器及成像系統(tǒng)4.1 成像模式:背散射成像、二次電子成像、任意比例混合模式成像4.2 檢測(cè)器:電子探測(cè)器不少于3個(gè),鏡筒內(nèi)二次電子探測(cè)器1個(gè),高靈敏度低電壓固體背散射探測(cè)器1個(gè)4.3 相機(jī):樣品室紅外高清CCD相機(jī)4.4 檢測(cè)器分辨率*4.4.1二次電子分辨率:30kV時(shí)小于1.0nm或20kV時(shí)小于1.3nm)1kV時(shí)優(yōu)于3.0nm*4.4.2背散射電子分辨率:30kV時(shí)小于2.5nm,1kV時(shí)優(yōu)于3.0nm5 .樣品室和樣品臺(tái)5.1 樣品臺(tái):自動(dòng)馬

4、達(dá)驅(qū)動(dòng)5軸以上(X、Y、Z、T、R)*5.2移動(dòng)范圍:XA100mm、Y100mm、Z50mmT=-570、R=360連續(xù)旋轉(zhuǎn)5.3 移動(dòng)精度:優(yōu)于2m5.4 樣品室尺寸:內(nèi)徑不小于300mm)高度不小于200mm)可容納樣品直徑不小于200mm5.5 樣品室有EDS、EBSD接口*5.6可加配加熱臺(tái)和原位拉伸臺(tái),加熱臺(tái)運(yùn)行時(shí)應(yīng)保證成像系統(tǒng)和EBSD能夠同步運(yùn)行6 .圖像處理系統(tǒng)6.1 存儲(chǔ)分辨率:不低于30002000像素6.2 活動(dòng)窗口:多個(gè)活動(dòng)窗口,可同時(shí)顯示背散射及二次電子圖像6.3 圖像格式:TIFF、BMP、JPEG等多種圖像格式6.4 圖像幀數(shù):不小于256幀,可降噪處理6.5

5、能夠進(jìn)行數(shù)字動(dòng)畫記錄6.6 具有圖像注釋、測(cè)量等圖像處理功能7 .控制和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)7.1 基于以太網(wǎng)架構(gòu)的數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)7.2 軟件平臺(tái)適用于windows操作系統(tǒng)7.3 顯示器:24”LED顯示器8 .X射線能譜分析儀(EDS)8.1 能量探測(cè)器:電制冷硅漂移探測(cè)器(SDD)*8.2有效采集面積:SDD晶體有效活區(qū)面積不小于30mm2,窗口有效面積不小于20mm2,可實(shí)現(xiàn)低電壓或者小束流條件下的高質(zhì)量、高效率分析*8.3探測(cè)器定位:探測(cè)器由馬達(dá)控制精確定位,軟件可控,能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)和控制采集計(jì)數(shù)率,保證不同樣品的數(shù)據(jù)重復(fù)性和測(cè)試條件重復(fù)性的目的*8.4能量分辨率:MnKa優(yōu)于127eV,CKa

6、優(yōu)于50eV,FKa優(yōu)于60eV8.5元素分析范圍:至少為Be4U92*8.6峰背比:優(yōu)于20000:18.7 譜峰穩(wěn)定性:分辨率變化在1eV以內(nèi),48小時(shí)內(nèi)峰位漂移小于1.5eV8.8 計(jì)數(shù)率:輸出最大計(jì)數(shù)率大于800Q00CPS,可處理最大計(jì)數(shù)率大于1,500,000CPS8.9 具有輕元素定量分析和修正功能,可對(duì)Be、B、C、N等進(jìn)行濃度定量檢測(cè)以及修正8.10 采集界面:采用32位和64位雙系統(tǒng),采集界面方便簡(jiǎn)單,智能化設(shè)定參數(shù),兼容原有EBSD數(shù)據(jù),能實(shí)現(xiàn)能譜的采集與定量分析、線掃描及全息面掃描,包含常規(guī)面分布、定量面分布和快速面分布、快速智能面分布等*8.11定性分析:具備點(diǎn)、線、

7、面掃描分析功能,可自動(dòng)和手動(dòng)進(jìn)行全譜元素譜峰識(shí)別,并具有檢驗(yàn)重疊峰剝離準(zhǔn)確性以及合峰效應(yīng)的有效方法,能夠分析夾雜和偏析等微量元素和微量相8.12定量分析:采用最先進(jìn)的修正技術(shù)和虛擬標(biāo)樣數(shù)據(jù)庫(kù),系統(tǒng)能夠自動(dòng)有效修正元素之間的相互吸收,可對(duì)拋光表面或粗糙表面進(jìn)行點(diǎn)、線和面的分析,譜峰穩(wěn)定,數(shù)據(jù)重現(xiàn)性好,不需要多元素校準(zhǔn)峰位。具備方便的虛擬標(biāo)樣分析方法,且可以得到高級(jí)的非歸一化定量結(jié)果,各元素定量誤差沒(méi)有相互干擾,數(shù)據(jù)格式可以和電子探針等高級(jí)分析方式的數(shù)據(jù)直接對(duì)應(yīng);*8.13智能軟件系統(tǒng):中英文任意切換的軟件界面,能譜與電鏡一體化,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)讀取和控制電鏡參數(shù),完整的離線能譜分析軟件,具備實(shí)時(shí)跟蹤能

8、力和智能定性,定量分析能力,自動(dòng)漂移校正*8.14低電壓分析:在電鏡低電壓條件下能正常分析,3KV下可獲取輕元素的定性定量信息,5KV下具備虛擬標(biāo)樣數(shù)據(jù)庫(kù),可實(shí)現(xiàn)全譜定性定量分析8.15 系統(tǒng)可靠性:采用獨(dú)立的圖像采集處理器和波形采集處理器,各自獨(dú)立封裝,防止集成式設(shè)計(jì)存在的故障可能點(diǎn)多、更換零部件成本高的問(wèn)題8.16 計(jì)算機(jī):原裝工作站,CPU四核,主頻高于3GHz,三級(jí)緩存不小于8M,內(nèi)存32G,硬盤500G*2,可實(shí)時(shí)備份,27”LCD顯示器,可刻錄DVD光驅(qū)8.17 配有彩色激光打印機(jī)8.18 與電鏡操作臺(tái)一體化風(fēng)格的原裝進(jìn)口實(shí)驗(yàn)臺(tái)9.背散射電子衍射分析儀(EBSD)9.1 與EDS一

9、體化的用戶界面,所有應(yīng)用軟件均可在同一個(gè)平臺(tái)上打開(kāi),操作簡(jiǎn)單方便9.2 支持包括中文在內(nèi)的多種語(yǔ)言的智能能譜與EBSD系統(tǒng)*9.3能夠與能譜儀同時(shí)實(shí)現(xiàn)同步原位分析,EDS面分布和EBSD面分布掃描能夠同時(shí)進(jìn)行,并且任意切換圖片顯示9.4可根據(jù)能譜數(shù)據(jù)對(duì)EBSD花樣進(jìn)行預(yù)過(guò)濾,實(shí)現(xiàn)對(duì)未知相的相鑒定*9.5高靈敏度的CCD相機(jī),焦距始終固定在熒光屏上,熒光屏和CCD相機(jī)像素對(duì)應(yīng),像素能完全利用,沒(méi)有縮錐比9.6加速電壓5V,束流小于100PA時(shí)可采集到明顯的衍射花樣*9.7直插式探頭,具備馬達(dá)自動(dòng)伸縮控制和防碰撞功能,能夠?qū)崟r(shí)顯示探頭位置*9.8工作距離范圍:具備專門的設(shè)計(jì)和接口,可以在540mm

10、范圍的任何WD位置進(jìn)行EBSD采集分析,充分靠近樣品而不遮擋能譜探頭9.9在線解析速度高于100點(diǎn)/秒,可以記錄原始菊池花樣進(jìn)行離線二次標(biāo)定*9.10在低束流條件下(5nA),用單晶銀(Ni)為標(biāo)樣,標(biāo)定的成功率保證在100%*9.11取向測(cè)量精度:優(yōu)于0.05度的取向精準(zhǔn)度*9.12花樣像素分辨率高于134410249.13 提供專用的由電子衍射獲得的EBSD晶體學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù),支持所有主要的第三方數(shù)據(jù)庫(kù),可分析不少于6萬(wàn)種的晶體結(jié)構(gòu),能方便自建數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入CIF數(shù)據(jù)9.14 背景扣除技術(shù):采用動(dòng)態(tài)和靜態(tài)扣除技術(shù)和自動(dòng)曝光設(shè)定,可以自動(dòng)扣除包括單晶在內(nèi)的7個(gè)晶系的各種材質(zhì)的背景花樣9.15 具備常

11、用的EBSD分析功能,包括晶體結(jié)構(gòu)模擬、晶粒尺寸、極圖、ODF、取向差、晶界分析等全部的表征,同時(shí)可以對(duì)材料的彈性模量、泰勒因子、施密特因子等進(jìn)行表征,所有分析功能全部集成在一個(gè)軟件平臺(tái)*9.16核心算法和誤差評(píng)判技術(shù):具備4條以上條帶一次標(biāo)定的核心算法,提高角分辨率,可采用帶寬標(biāo)定技術(shù)改善相似相結(jié)構(gòu)的剝離準(zhǔn)確性,自動(dòng)分析復(fù)雜材料和區(qū)分相似相,每一點(diǎn)的標(biāo)定誤差可以量化顯示和控制,且具備角度單位9.17 軟件具有智能相分布、智能跟蹤、智能數(shù)據(jù)復(fù)查、智能相機(jī)、智能背底處理、智能標(biāo)定等功能9.18 具備透射EBSD分析專用算法,自動(dòng)修正透射菊池花樣畸變和中心偏移問(wèn)題;具備能譜儀輔助的EBSD物相鑒定

12、功能,剝離相似的相結(jié)構(gòu)10.原位加熱臺(tái)1.1 .1Gatan系列Murano525熱臺(tái)1.2 .2保護(hù)措施:帶有熱量屏蔽裝置,對(duì)物鏡和樣品倉(cāng)不產(chǎn)生明顯的熱影響,需有效保護(hù)電鏡探測(cè)器,能夠使電鏡正常使用,并保證EBSD在加熱臺(tái)運(yùn)行時(shí)正常工作1.3 結(jié)構(gòu):結(jié)構(gòu)緊湊,方便安裝和取出,可以方便地用于EBSD的幾何配置,同時(shí)保持適當(dāng)?shù)墓ぷ骶嚯x*10.4溫度控制:PID自動(dòng)控制和手動(dòng)控制兩種模式,可存儲(chǔ)所有的加熱參數(shù),能夠精確同步EBSD的面分布與溫度曲線10.5 加熱速度:最大加熱速度不小于100/min10.6 溫度范圍:最高使用溫度在950以上*10.7溫度精度:0.510.8溫度穩(wěn)定性:1/h11

13、.配套設(shè)備11.1 數(shù)據(jù)處理計(jì)算機(jī)一臺(tái),要求CPU主頻高于3GHz,內(nèi)存大于8G,硬盤容量大于500G,可刻錄DVD光驅(qū),24”LCD顯示器,操作系統(tǒng)采用MicrosoftWindows7系統(tǒng)11.2 離子濺射儀11.2.1 Cressington108Auto全自動(dòng)離子濺射儀1套11.2.2 靶材為粕金11.2.3 可鍍最大樣品直徑大于60mm11.2.4 鍍金速率大于30nm/min11.2.5 鍍金顆粒小,鍍層均勻11.3 電解拋光儀11.3.1 進(jìn)口品牌電解拋光儀1套11.3.2 輸出電壓:0100V11.3.3 輸出電流:020A11.3.4 溫度范圍:室溫400,可恒溫控制11.3

14、.5 可恒流和恒壓操作,負(fù)載調(diào)解率0.01%11.3.6 穩(wěn)定度:電壓0.02%,電壓偏移1mV,電流0.1%11.4 UPS穩(wěn)壓保護(hù)電源1套,整機(jī)供電不低于2h,電子槍系統(tǒng)供電不低于200h11.5 備用場(chǎng)發(fā)射燈絲系統(tǒng)1套(燈絲+光闌)11.6 空氣壓縮機(jī)1臺(tái)11.7 冷卻循環(huán)水機(jī)1臺(tái)11.8 帶除濕功能的空調(diào)一部三、技術(shù)及售后服務(wù)發(fā)貨時(shí)間:合同生效后6個(gè)月內(nèi)。*廠商要求:同款型號(hào)設(shè)備國(guó)內(nèi)用戶不低于30家,同種品牌國(guó)內(nèi)用戶不低于200家。安裝驗(yàn)收:賣方負(fù)責(zé)派技術(shù)員在買方確定的時(shí)間內(nèi)到設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行免費(fèi)的安裝、調(diào)試,按驗(yàn)收指標(biāo)逐項(xiàng)測(cè)試至達(dá)到驗(yàn)收要求,出具驗(yàn)收?qǐng)?bào)告,由用戶確認(rèn)簽字,完成儀器驗(yàn)收工作。*人員培訓(xùn):電鏡廠家需提供初級(jí)培訓(xùn)、中級(jí)培訓(xùn)和高級(jí)培訓(xùn)三級(jí)培訓(xùn)模式:初級(jí)培訓(xùn):安裝調(diào)試完畢后,馬上對(duì)用戶人員進(jìn)行初級(jí)培訓(xùn)。培訓(xùn)時(shí)間不少于7天,培訓(xùn)內(nèi)容包括電鏡及附件的操作、電鏡及附件的日常維護(hù)、樣品觀測(cè)、分析、獲取圖象。中級(jí)培訓(xùn):儀器運(yùn)行一段時(shí)間后,針對(duì)用戶使用過(guò)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論