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文檔簡介

1、PCB內(nèi)層線路與外層線路制程之分別內(nèi)層乾膜1.2mil乾膜PP基材銅內(nèi)層曝光&顯影底片空白處即為線路，此為負(fù)片底片負(fù)片底片1.2mil乾膜光線經(jīng)由底片空白處照射到乾膜，此乾膜用來保護(hù)線路不被蝕刻。此處乾膜沒有接觸到光線故會(huì)被顯影掉基材銅PP內(nèi)層蝕刻乾膜保護(hù)線路此處即為線路此處銅箔被蝕刻掉PP內(nèi)層剝膜乾膜被清掉PP此處即為線路外層線路一、廠內(nèi)使用1.5mil乾膜。二、底片使用正片作業(yè)(於二銅時(shí)以鍍錫鉛保護(hù)線 路)。三、鹼性蝕刻蝕刻液成分忘了。四、僅可單面曝光。因?yàn)槠毓鈾C(jī)臺(tái)玻璃面透光能 力較塑膠面佳。因此外層把上燈管給拆掉了。外層乾膜1.5mil乾膜PP基材銅一銅外層曝光&顯影正片底片1.5mil

2、乾膜基材銅PP一銅黑色部分即為線路此處乾膜沒有被光線照射故被顯影掉鍍二銅&鍍錫鉛1.5mil乾膜基材銅PP一銅錫鉛二銅(約0.7mil)約0.3mil剝膜基材銅PP一銅二銅(約0.7mil)錫鉛乾膜已被清除將需蝕刻部分顯漏出來需蝕刻部分鹼性蝕刻基材銅PP一銅二銅錫鉛錫具有怕酸不怕鹼之特性故能保護(hù)線路剝錫基材銅PP一銅二銅附註一、TENTING製程為一銅加二銅後以負(fù)片 作業(yè)走酸性蝕刻，作業(yè)方式如同內(nèi)層 作業(yè)。若外層搭配1.2mil乾膜可蝕刻較 細(xì)線路，但若銅厚太厚或是鍍銅不均 勻，則易造成蝕刻不潔而短路。因此 雙面板或多層板若走TENTING製程其 基板銅厚通常為1/3oz或1/4oz居多以期 能達(dá)到較佳的時(shí)刻效果。二、PATEN製程為一銅後外層乾膜再鍍二銅走鹼性蝕刻，此為廠內(nèi)一般外層線路做法。通常一銅鍍0.3mil二銅鍍0.7mil。如遇線距較細(xì)且密集的電路板，在二銅製程時(shí)易造成夾膜短路。二銅製程依序簡述為 鍍銅鍍錫剝膜鹼性蝕刻剝錫，二銅是鍍?cè)诰€路上，乾膜是附著線距上面，因此當(dāng)線距較細(xì)小時(shí)兩旁的線路會(huì)因鍍銅的關(guān)係使線路上幅連結(jié)將現(xiàn)距上的乾膜

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