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1、石墨烯報(bào)告一、石墨烯定義、性質(zhì)(一)石墨烯定義“中國(guó)石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟”發(fā)布的1號(hào)標(biāo)準(zhǔn)文件中,對(duì)石墨烯的定義如下:石墨烯是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯、和少層石墨烯的統(tǒng)稱。單層石墨烯是指由一層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)(即六角形蜂巢結(jié)構(gòu))周期性緊密堆積的碳原子構(gòu)成的一種二維碳材料。雙層石墨烯是指由兩層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)周期性緊密堆積的碳原子層以不同堆垛方式(包括AB堆垛,AA堆垛,AA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。少層石墨烯是指由3-10層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)周期性緊密堆積的碳原子層以不同堆垛方式(包括ABC堆垛,ABA堆垛等)堆垛構(gòu)成的一種二維碳材料。圖1 石墨烯的分類石墨烯發(fā)展歷史。石墨烯作為當(dāng)下最

2、熱門的新材料之一,其經(jīng)歷了如下的發(fā)展歷程:圖2 石墨烯的發(fā)展歷程(二)石墨烯性質(zhì)石墨烯的出現(xiàn),有望在構(gòu)造材料、電子器件功能性材料等諸多領(lǐng)域引發(fā)材料革命。由于其具有許多特殊性質(zhì),有日本的研究人員驚呼石墨烯是“神仙創(chuàng)造”的材料。許多學(xué)者稱石墨烯為“改變21世紀(jì)的材料”,并預(yù)測(cè)“21世紀(jì)將是碳(C)的時(shí)代”。相比于現(xiàn)有材料,石墨烯擁有眾多“史上最強(qiáng)”性能。超強(qiáng)導(dǎo)電性 :由于石墨烯擁有完美的“二維”平面晶格結(jié)構(gòu),因此電子在晶格中移動(dòng)時(shí),不會(huì)因?yàn)榫Ц袢毕莼蛞胪鈦?lái)原子而發(fā)生散射。另外,由于石墨烯中碳原子之間作用力很強(qiáng),使得運(yùn)動(dòng)中的電子受到的干擾極小,即使在周圍碳原子發(fā)生碰撞時(shí)也是如此,因此電子具有非???/p>

3、的運(yùn)動(dòng)速度(能夠達(dá)到光速1/300),遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了電子在其他金屬導(dǎo)體或半導(dǎo)體中的運(yùn)動(dòng)速度,正因如此,石墨烯擁有超強(qiáng)的導(dǎo)電性能。超高強(qiáng)度 :石墨烯的硬度高于金剛石,是目前為止人類已知的硬度最高的物質(zhì)。由于高的硬度,石墨烯擁有很高的強(qiáng)度,其強(qiáng)度比世界上最好的鋼鐵還要高上100倍。而同時(shí)它又擁有很好的韌性,且可以彎曲。導(dǎo)熱性能 :石墨烯的導(dǎo)熱性能優(yōu)于碳納米管。普通碳納米管的導(dǎo)熱系數(shù)可3500w/m·k,各種金屬中導(dǎo)熱系數(shù)相對(duì)較高的有銀、金、銅、鋁。而單層石墨烯的導(dǎo)熱系數(shù)可達(dá)5300w/m·k。優(yōu)異的導(dǎo)熱性能使得石墨烯有望作為未來(lái)超大規(guī)模納米集成電路的散熱材料。超大比表面積 :由于單

4、層石墨烯只有一個(gè)碳原子厚(0.335nm),所以石墨烯擁有超大的比表面積。在理想情況下,單層石墨烯的比表面積能夠達(dá)2630m2/g,而目前普通的活性炭的比表面積為1500 m2/g,石墨烯這種比表面積超大的特性使它在儲(chǔ)能領(lǐng)域的應(yīng)用潛力巨大。圖3 石墨烯史上最強(qiáng)性能除此之外,石墨烯還有眾多“獨(dú)特”的特點(diǎn):圖4 石墨烯獨(dú)特性質(zhì)二、制備原理及方法目前制備石墨烯的方法主要有4種:微機(jī)械剝離法、氣相沉積法、外延生長(zhǎng)法、氧化石墨還原法。到目前為止,還沒(méi)有形成一種成熟的方法大規(guī)模地生產(chǎn)質(zhì)量較高的工業(yè)級(jí)石墨烯。下面列出以上四種基本制備方法的對(duì)比。圖5 四種石墨烯制備方法比較上述各種制備方法各有優(yōu)劣。從產(chǎn)業(yè)化的

5、角度來(lái)看,目前適合大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)方法僅有氣相沉積法和氧化石墨還原法。(一)微機(jī)械剝離法微機(jī)械剝離法是直接將石墨烯薄片從較大的石墨晶體上剝離下來(lái)的方法。2010年曼徹斯特大學(xué)Geim教授和Novoselov博士就是使用該方法分離出石墨烯。圖6 機(jī)械剝離法該方法的優(yōu)點(diǎn)在于操作相對(duì)簡(jiǎn)單,且可以獲得其他方法無(wú)法實(shí)現(xiàn)的極高品質(zhì)的石墨烯片;缺點(diǎn)在于難以控制所獲得的石墨烯的大小和層數(shù),并且不適宜大規(guī)模量產(chǎn)。(二)氣相沉積法化學(xué)氣相沉積(CVD)是一種能夠規(guī)?;练e半導(dǎo)體薄膜的制備技術(shù),目前在工業(yè)上應(yīng)用最為廣泛。該方法是在真空中將甲烷等碳素源加熱到1000,使其分解,然后在Ni及Cu等金屬箔上形成石墨烯膜。

6、2010年6月韓國(guó)成均館大學(xué)與三星電子研究所宣布,通過(guò)該方法開發(fā)出可制得30英寸單層石墨烯的制造工藝以及采用這種石墨烯膜的觸摸面板。該方法優(yōu)點(diǎn)在于工藝簡(jiǎn)單,能夠制備大面積石墨烯薄膜。缺點(diǎn)在于:(1)在1000高溫下采用的工藝只能以分批處理的方式推進(jìn);(2)存在反復(fù)轉(zhuǎn)印過(guò)程中容易混入雜質(zhì)的問(wèn)題;(3)理想的基片材料單晶Ni的價(jià)格昂貴,使得綜合制造成本偏高。圖7 氣相沉積法(三)外延生長(zhǎng)法外延生長(zhǎng)法又叫做熱分解法,是以單晶碳化硅(SiC)為原料,將SiC基板加熱到1300左右去除表面的Si,剩下的碳原子自發(fā)性重新組合形成單層或者多層石墨烯片。IBM公司在2010年1月將原來(lái)的機(jī)械剝離法改為此方法制

7、成了石墨烯薄膜。該方法的優(yōu)點(diǎn)在于可以得到尺寸較大、質(zhì)量較高的單晶石墨烯;缺點(diǎn)包括:(1)石墨烯片很難轉(zhuǎn)印到其他基板上,只能使用昂貴的SiC基板;(2)工藝條件苛刻,必須在高溫和超高真空條件下實(shí)現(xiàn)。圖8 外延生長(zhǎng)法(四)氧化石墨還原法氧化石墨還原法是日本三菱化學(xué)開發(fā)的氧化石墨烯法。這種方法首先使石墨烯氧化,之后放入溶液內(nèi)融化,最后在基板上對(duì)齊還原。該方法優(yōu)點(diǎn)在于需要溫度較低、簡(jiǎn)單且成本低廉,可大面積制造透明導(dǎo)電膜及以及采用涂布工藝制作的TFT,是目前公認(rèn)最容易實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)的方法。缺點(diǎn)在于,在氧化還原的過(guò)程中,石墨烯的電子結(jié)構(gòu)及晶體完整性容易受到強(qiáng)氧化劑的破壞。因此,由此方法制備的石墨烯很難保證

8、具有充分的導(dǎo)電性和透明性。圖9 氧化石墨還原法三、基礎(chǔ)科研現(xiàn)狀石墨烯從其誕生至今不過(guò)10年光景。2004年為石墨烯科學(xué)研究的萌芽階段,隨后即進(jìn)入快速成長(zhǎng)階段;從2008年開始,尤其是在2010年石墨烯發(fā)明者獲得了諾貝爾獎(jiǎng)之后,關(guān)于石墨烯的基礎(chǔ)科研工作開展得如火如荼。下文從專利分布、研究機(jī)構(gòu)分布、研究領(lǐng)域分布和主要研究成果等方面梳理目前石墨烯的基礎(chǔ)科研動(dòng)向。(一)專利,論文分布目前全球共有超過(guò)200個(gè)機(jī)構(gòu)和1000多名研究人員從事石墨烯技術(shù)的開發(fā)和研究,其中包括三星、IBM等科技巨頭。我們通過(guò)最近幾年的專利申請(qǐng)情況對(duì)目前石墨烯的研究進(jìn)展進(jìn)行概覽。圖10 2000-2012年全球石墨烯專利申請(qǐng)量從

9、專利申請(qǐng)總量來(lái)看,2010年以來(lái)全球石墨烯專利申請(qǐng)總量呈爆發(fā)式增長(zhǎng);2012年全球石墨烯專利申請(qǐng)量已經(jīng)達(dá)到3500個(gè),可見目前全球范圍內(nèi)正在掀起石墨烯研究與開發(fā)的高潮。從石墨烯專利申請(qǐng)國(guó)別分布來(lái)看,2013年全球石墨烯專利申請(qǐng)量最大的是中國(guó),其次為美國(guó)、韓國(guó)和日本。在石墨烯相關(guān)論文方面,歐盟排名第一,2013年共發(fā)表了7800篇論文;就國(guó)別而論,依然是中國(guó)排名第一,共發(fā)表了6649篇論文??傮w而言,目前中國(guó)已經(jīng)處在石墨烯研究的前沿陣地;但是,從研究深度和創(chuàng)新性而言,非常核心的技術(shù)和創(chuàng)新性技術(shù)中國(guó)仍未掌握。全球針對(duì)石墨烯的研究不斷向前推進(jìn),截至2012年,全球被SCI收錄的關(guān)于石墨烯的研究論文共

10、有17361篇。其中申請(qǐng)數(shù)量排在全球前2位的國(guó)家是中國(guó)和美國(guó),發(fā)表的論文總數(shù)占全球總量的一半。美國(guó)作為世界科技最發(fā)達(dá)的國(guó)家,其發(fā)表的關(guān)于石墨烯研究方面的文獻(xiàn)達(dá)4730篇,占總量的27.3%;我國(guó)在石墨烯研究雖然起步晚于美國(guó),但在這幾年的努力下,文獻(xiàn)發(fā)表量達(dá)到了5072篇,占比29.2%,超過(guò)美國(guó)位居全球首位。圖11給出了中美兩國(guó)石墨烯領(lǐng)域論文引用情況對(duì)比。由圖11可以看出,雖然在發(fā)表文章的數(shù)量上中國(guó)已經(jīng)超過(guò)了美國(guó),但是論文質(zhì)量整體卻與美國(guó)尚有差距。主要表現(xiàn)在 :一方面論文的平均被引用次數(shù)上,中國(guó)的不到美國(guó)的一半 ;另一方面,被引用的總體情況也相對(duì)較差,中國(guó)占總量 29%的文章量,卻僅占國(guó)際論文

11、被引總次數(shù)的 14.3%,另外,中國(guó)學(xué)者發(fā)表的論文中 1/5的文章SCI被引用次數(shù)為 0。不過(guò),國(guó)內(nèi)一些優(yōu)秀學(xué)者的研究成果已經(jīng)得到了國(guó)際研究機(jī)構(gòu)的廣泛認(rèn)可如清華大學(xué)的石高全課題組,清華大學(xué)李景虹課題組,發(fā)表的石墨烯領(lǐng)域論文SCI被引次數(shù)都超過(guò) 3 000次,從一個(gè)側(cè)面也反映出中國(guó)在石墨烯研究的實(shí)力和國(guó)際影響力。圖12給出了截至2012年底,國(guó)際研究機(jī)構(gòu)在石墨烯領(lǐng)域論文發(fā)表排名情況。可以看到中國(guó)有5家單位石墨烯方向的論文發(fā)表數(shù)排在全世界的前20,他們分別是中國(guó)科學(xué)院、清華大學(xué)、北京大學(xué)、中國(guó)科技大學(xué)和復(fù)旦大學(xué),表現(xiàn)出中國(guó)在石墨烯研究領(lǐng)域的實(shí)力。圖11 中美兩國(guó)石墨烯論文引用情況對(duì)比圖12 國(guó)際研

12、究領(lǐng)域在石墨烯論文發(fā)表排名情況(二)研究機(jī)構(gòu)分布從事石墨烯研究的機(jī)構(gòu)比較廣泛,包括學(xué)術(shù)研究機(jī)構(gòu)、企業(yè)、個(gè)人和政府層面。比較普遍的研究模式是學(xué)術(shù)研究機(jī)構(gòu)與企業(yè)的合作,例如韓國(guó)三星與韓國(guó)成均館大學(xué)合作對(duì)石墨烯的制備基礎(chǔ)方法和應(yīng)用開展研究。從研究機(jī)構(gòu)專利數(shù)量口徑看,在前十名中,有4家機(jī)構(gòu)來(lái)自韓國(guó),4家來(lái)自中國(guó),2家來(lái)自美國(guó)。并且,6家機(jī)構(gòu)都是科研院所或獨(dú)立科研機(jī)構(gòu),4家為企業(yè)。其中,專利數(shù)量最多的是韓國(guó)三星電子,其專利申請(qǐng)數(shù)量為210個(gè),占全球總量的7.3%,其研究范圍涵蓋了石墨烯制備方法和在顯示屏、鋰電池領(lǐng)域的應(yīng)用;其次為韓國(guó)成均館大學(xué)、浙江大學(xué)、IBM、清華大學(xué)等。我國(guó)也在進(jìn)行石墨烯專利的申請(qǐng),根據(jù)新世界專利搜索(SOOPAT)專利檢索引擎,截至 2013年 6月,目前國(guó)內(nèi)機(jī)構(gòu)共申請(qǐng)3000余件石墨烯相關(guān)的發(fā)明專利,其中456件已經(jīng)獲得中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的專利授權(quán),主要集中在石墨烯的制備和石墨烯應(yīng)用領(lǐng)域。另外還有2000余件尚在審查中,也從側(cè)面反映出國(guó)內(nèi)近幾

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