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1、專題03 無機(jī)非金屬材料專項(xiàng)訓(xùn)練1地殼中含量最多的非金屬元素是( )A氧B碳C硅D鋁【答案】A【詳解】地殼中含量最多的前五種元素:氧、硅、鋁、鐵、鈣,漢字中帶钅字旁(汞和金除外)的屬于金屬元素,所以地殼中含量最多的非屬元素是氧,故答案選A。2在SiO2晶體內(nèi)部,每個(gè)Si與4個(gè)O分別形成4個(gè)單鍵,則與每個(gè)O形成單鍵的Si的數(shù)目是A1B2C3D4【答案】B【詳解】在SiO2晶體內(nèi)部,每個(gè)Si與4個(gè)O形成4個(gè)單鍵,每個(gè)O與2個(gè)Si原子形成2個(gè)Si-O單鍵,因此在晶體內(nèi)部Si、O原子個(gè)數(shù)比是1:2,化學(xué)式寫為SiO2,因此合理選項(xiàng)是B。3“九秋風(fēng)露越窯開,奪得千峰翠色來”是贊譽(yù)越窯秘色青瓷的詩句,描繪
2、我國(guó)古代精美的青瓷工藝品。玻璃、水泥和陶瓷均為硅酸鹽制品,下列有關(guān)說法中正確的是()A玻璃是人類最早使用的硅酸鹽制品B制水泥的原料為純堿、石灰石和石英C硅酸鹽制品的性質(zhì)穩(wěn)定、熔點(diǎn)較高D沙子和黏土的主要成分均為硅酸鹽【答案】C【詳解】A陶瓷是人類最早使用的硅酸鹽制品,故A錯(cuò)誤;B純堿、石灰石和石英是制玻璃的原料,而制水泥的原料是黏土和石灰石,故B錯(cuò)誤;C硅酸鹽制品性質(zhì)穩(wěn)定、熔點(diǎn)高,故C正確;D沙子的主要成分是SiO2,黏土的主要成分是硅酸鹽,故D錯(cuò)誤;故答案:C。4天工開物記載:“凡埏泥造瓦,掘地二尺余,擇取無沙黏土而為之”,“凡坯既成,干燥之后,則堆積窖中燃薪舉火”,“澆水轉(zhuǎn)釉(主要為青色),
3、與造磚同法”。下列說法錯(cuò)誤的是( )A沙子和黏土的主要成分為硅酸鹽B“燃薪舉火”使黏土發(fā)生復(fù)雜的物理、化學(xué)變化C燒制后自然冷卻成紅瓦,澆水冷卻成青瓦D黏土是制作磚瓦和陶瓷的主要原料【答案】A【解析】沙子的主要成分為二氧化硅,二氧化硅是氧化物,不屬硅酸鹽,A項(xiàng)錯(cuò)誤;黏土燒制成瓦的過程為復(fù)雜的物理化學(xué)變化過程,B項(xiàng)正確;青瓦和紅瓦是在冷卻時(shí)區(qū)別的,C項(xiàng)正確;由“凡埏泥造瓦,掘地二尺余,擇取無砂粘土而為之”可知,D項(xiàng)正確。5下列有關(guān)硅及其化合物的敘述中,正確的是()A.硅是光導(dǎo)纖維的主要成分B.硅是構(gòu)成巖石與許多礦物的基本元素C.SiO2是酸性氧化物,不與任何酸發(fā)生反應(yīng)D.可以通過SiO2與水反應(yīng)一
4、步制得硅酸【答案】B【解析】光導(dǎo)纖維的主要成分是二氧化硅,故A錯(cuò)誤;硅是親氧元素,巖石與許多礦物的基本元素中含有Si元素,故B正確;SiO2是酸性氧化物,但可與氫氟酸發(fā)生反應(yīng),故C錯(cuò)誤;二氧化硅不溶于水,不能通過SiO2與水反應(yīng)一步制得硅酸,故D錯(cuò)誤。62020年12月17日,我國(guó)“嫦娥五號(hào)”返回器攜帶月球樣品安全著陸,探月工程圓滿成功?!版隙稹蔽逄?hào)探測(cè)器采用太陽能電池板提供能量,制造太陽能電池板的核心材料是A二氧化硅B硅C鈦合金D鋁合金【答案】B【詳解】四種材料中只有硅是半導(dǎo)體材料,硅常用于制造太陽能電池板,故答案選B。7下列關(guān)于碳和硅的比較,正確的是( )A碳和硅在自然界中的存在形式都是既
5、有游離態(tài)也有化合態(tài)B碳和硅的最高化合價(jià)都是+4價(jià)C硅元素在地殼中的含量占第二位,碳占第一位D硅與碳一樣均含有兩種常見價(jià)態(tài)的氧化物和【答案】B【詳解】A硅是一種親氧元素,在自然界中主要以氧化物和硅酸鹽的形式存在,只有化合態(tài),沒有游離態(tài),碳元素在自然界中既有游離態(tài)又有化合態(tài),A錯(cuò)誤;B碳、硅元素的原子最外層都有4個(gè)電子,其最高化合價(jià)都是+4價(jià),B正確;C氧元素在地殼中的含量占第一位,硅元素在地殼中的含量占第二位,C錯(cuò)誤;D碳有兩種常見氧化物和,硅只有一種常見氧化物,D錯(cuò)誤;故選。8能證明碳酸的酸性比硅酸的強(qiáng)的依據(jù)是( )A是氣體,是固體B高溫下能發(fā)生反應(yīng):C能溶于水生成碳酸,而卻不溶于水D將通入溶
6、液中有膠狀沉淀生成【答案】D【詳解】A氧化物的狀態(tài)不能決定氧化物水化物的酸性強(qiáng)弱,故A錯(cuò)誤;B反應(yīng)原理是高沸點(diǎn)制低沸點(diǎn)氣體,之所以能發(fā)生是因?yàn)樯闪藫]發(fā)性的氣體二氧化碳,故B錯(cuò)誤;C氧化物的水溶性不能決定其水化物的酸性強(qiáng)弱,故C錯(cuò)誤;D,強(qiáng)酸能制弱酸,所以酸性:碳酸硅酸,故D正確;故選D。9我國(guó)具有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電腦芯片“龍芯一號(hào)”的問世,填補(bǔ)了我國(guó)計(jì)算機(jī)制造史上的一項(xiàng)空白。下列對(duì)硅及其化合物的有關(guān)敘述正確的是( )A二氧化硅既能與燒堿溶液反應(yīng)又能與氫氟酸反應(yīng),所以二氧化硅是兩性氧化物B晶體硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下不與任何物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)C晶體硅是一種良好的半導(dǎo)體材料,但是它的提煉工藝復(fù)雜,價(jià)格
7、極高D晶體硅和金剛石的硬度都很大【答案】D【詳解】A二氧化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和水,沒有鹽生成,與氫氧化鈉反應(yīng)生成硅酸鈉和水,有鹽生成,因此二氧化硅是酸性氧化物,A錯(cuò)誤;B晶體硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,但常溫下能與氫氟酸反應(yīng),B錯(cuò)誤;C晶體硅是一種良好的半導(dǎo)體材料,是由二氧化硅和碳在高溫條件下反應(yīng)得到粗硅,粗硅和HCl在加熱條件下反應(yīng)得到三氯硅烷,三氯硅烷與氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到硅單質(zhì),它的提煉工藝不算復(fù)雜,價(jià)格不高,C錯(cuò)誤;D晶體硅和金剛石的硬度都很大,D正確;故選D。10下列物質(zhì)中,屬于酸性氧化物且跟水不能形成酸的是( )ACO2BSiO2CSO2DFe2O3【答案】B【詳解】A二氧化碳
8、是酸性氧化物,且與水反應(yīng)可以生成碳酸,故A不選;B二氧化硅是酸性氧化物,且不溶于水,與水也不反應(yīng),故B可選;C二氧化硫?qū)儆谒嵝匝趸?,溶于水,且與水反應(yīng)生成亞硫酸,故C不選;D氧化鐵屬于堿性氧化物,不溶于水,與水也不反應(yīng),故D不選;故選B。11下列說法正確的是( )ASiO2熔點(diǎn)高硬度大,因此可用于制光導(dǎo)纖維B向Na2SiO3溶液中滴加稀鹽酸:C,該物質(zhì)間轉(zhuǎn)化能實(shí)現(xiàn)D高純硅可用于制作光感電池【答案】D【詳解】ASiO2具有全反射的光學(xué)特性,用于制光導(dǎo)纖維,與其熔點(diǎn)、硬度等性質(zhì)無關(guān),A錯(cuò)誤;BNa2SiO3為可溶性的鈉鹽,在書寫離子方程式時(shí)應(yīng)拆成離子形式,B錯(cuò)誤;CSiO2與鹽酸不反應(yīng),C錯(cuò)誤;
9、D高純硅是良好的半導(dǎo)體材料,可用于制作光感電池,D正確;答案選D。12據(jù)參考消息報(bào)道,有科學(xué)家提出硅是“21世紀(jì)的能源”“未來的石油”。假如硅作為一種普遍使用的新型能源被開發(fā)利用,下列說法你認(rèn)為不妥的是( )A硅便于運(yùn)輸、貯存,從安全的角度考慮,硅是較安全的燃料B自然界中存在大量的單質(zhì)硅C硅燃燒放出的熱量多,且燃燒產(chǎn)物對(duì)環(huán)境污染程度低,容易有效控制D自然界中Si易開采【答案】B【詳解】A常溫下硅為固體,性質(zhì)較穩(wěn)定,便于運(yùn)輸、貯存,較為安全,故A正確;B自然界中硅是親氧元素,以化合態(tài)的形式存在,故B錯(cuò)誤;C硅作為一種普遍使用的新型能源被開發(fā)利用說明硅燃燒放出的熱量多,硅燃燒生成二氧化硅,二氧化硅
10、是固體,容易有效控制,故C正確;DSi在自然界中含量豐富,且易開采,故D正確;故答案選B。13為了探究HCl、H2CO3和H2SiO3的酸性強(qiáng)弱,某學(xué)生設(shè)計(jì)了如圖所示的實(shí)驗(yàn)裝置,希望通過一次實(shí)驗(yàn)達(dá)到實(shí)驗(yàn)?zāi)康模铝姓f法不正確的是( )A錐形瓶中可以盛放Na2CO3B裝置B中的目的是除去揮發(fā)的HClC裝置C的目的是尾氣處理D該裝置可以得出HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性強(qiáng)弱順序【答案】C【詳解】A錐形瓶中可以盛放Na2CO3,發(fā)生反應(yīng)生成二氧化碳,A正確;B裝置B中裝的是飽和碳酸氫鈉溶液,的目的是除去揮發(fā)的HCl,B正確;C裝置C為硅酸鈉,C中沉淀為硅酸,目的是比較硅酸和碳酸的酸性,C錯(cuò)誤;
11、D由強(qiáng)酸制弱酸的反應(yīng),可以得出HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性強(qiáng)弱順序依次減弱,D正確;故選:C。14SiO2是一種化工原料,可以制備一系列物質(zhì)。下列說法正確的是A圖中所有反應(yīng)都不屬于氧化還原反應(yīng)B硅酸鹽的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,常用于制作光導(dǎo)纖維C普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的,其熔點(diǎn)很高D可用鹽酸除去石英砂(主要成分為 SiO2)中少量的碳酸鈣【答案】D【詳解】A化學(xué)反應(yīng)前后有元素化合價(jià)變化的一定是氧化還原反應(yīng),二氧化硅與碳反應(yīng)生成粗硅、粗硅提純得到單晶硅過程中的反應(yīng),均有元素化合價(jià)的變化,屬于氧化還原反應(yīng),故A錯(cuò)誤;B光導(dǎo)纖維的成分是二氧化硅,硅酸鹽的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、不能用于制作光導(dǎo)纖維
12、,故B錯(cuò)誤; C 普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的,玻璃是一種非晶體、屬于混合物,沒有固定的熔點(diǎn),故C錯(cuò)誤; D碳酸鈣溶于鹽酸生成氯化鈣、水以及二氧化碳,二氧化硅和鹽酸不反應(yīng),可以用鹽酸除去石英砂(主要成分為SiO2),故D正確;答案選D。15硅是組成無機(jī)非金屬材料的一種主要元素,下列有關(guān)硅的化合物的敘述錯(cuò)誤的是A氮化硅陶瓷是一種新型無機(jī)非金屬材料,其化學(xué)式為B碳化硅()的硬度大,熔點(diǎn)高,可用于制作高溫結(jié)構(gòu)陶瓷和軸承C光導(dǎo)纖維是一種新型無機(jī)非金屬材料,其主要成分為D氮化硅()、氧化鋁()、碳化硅()和二氧化鋯()都可用作制高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的材料【答案】C【詳解】A氮化硅中各元素的原子最外層達(dá)到
13、8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。硅原子最外層電子數(shù)為4,氮原子最外層電子數(shù)為5,要形成8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu),則應(yīng)有二者個(gè)數(shù)的比為3:4,其化學(xué)式為,故A正確;B碳化硅()為原子晶體,熔點(diǎn)高,可用于制作高溫結(jié)構(gòu)陶瓷和軸承,故B正確;C光導(dǎo)纖維的主要成分為二氧化硅,是一種新型無機(jī)非金屬材料,故C錯(cuò)誤;D氮化硅()和碳化硅()均屬于原子晶體,氧化鋁()和二氧化鋯()均屬于離子晶體,熔點(diǎn)高,都可用作制高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的材料,故D正確;故選C。16高純度單晶硅是典型的無機(jī)非金屬材料,又稱半導(dǎo)體材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計(jì)算機(jī)的一場(chǎng)“革命。這種材料可以按所給路線制備:SiO2粗硅SiHCl3Si(純) (1)寫出步驟的化學(xué)方程式:
14、_。(2)步驟經(jīng)過冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)為33.0)中含有少量的SiCl4(沸點(diǎn)為57.6)和HCl(沸點(diǎn)為),提純SiHCl3的主要化學(xué)操作的名稱是_;SiHCl3和SiCl4一樣遇水可發(fā)生劇烈水解,已知SiHCl3水解會(huì)生成兩種氣態(tài)產(chǎn)物,請(qǐng)寫出其水解的化學(xué)方程式:_。(3)請(qǐng)寫出二氧化硅與氫氯酸反應(yīng)的化學(xué)方程式:_?!敬鸢浮?蒸餾或分餾 【詳解】(1)工業(yè)上用焦炭在高溫下置換二氧化硅中的硅來制備粗硅,反應(yīng)的化學(xué)方程式為;(2)由題意可知,SiHCl3(沸點(diǎn)33.0)、SiCl4(沸點(diǎn)57.6)、HCl(沸點(diǎn))的沸點(diǎn)不同,根據(jù)沸點(diǎn)的不同實(shí)現(xiàn)物質(zhì)分離的方法為蒸餾或分餾;SiHCl3水解生
15、成硅酸、氫氣和氯化氫,反應(yīng)的化學(xué)方程式為;(3)二氧化硅能和氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和水,反應(yīng)的化學(xué)方程式為。17硅是重要的半導(dǎo)體材料。近日,我國(guó)宣布突破了碳基半導(dǎo)體材料制備的瓶頸,有望替代目前的硅材料,支持高端芯片的國(guó)產(chǎn)化。(1)Si在元素周期表中的位置是_。(2)制作芯片需要高純度的硅,高純硅中Si原子之間的相互作用是_(填“離子鍵”或“共價(jià)鍵”)。(3)非金屬性Si弱于P,用原子結(jié)構(gòu)解釋原因:_,得電子能力Si小于P。(4)下列關(guān)于C和Si及其化合物的推斷中,正確的是_(填序號(hào))。C的最高正化合價(jià)與Si的最高正化合價(jià)相同SiO2具有還原性最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性:H2CO3H2SiO3
16、【答案】第3周期第A族 共價(jià)鍵 Si與P電子層數(shù)相同,核電荷數(shù)Si小于P,原子半徑Si大于P 【詳解】(1)Si的原子序數(shù)為14,核外電子分3層排布,第3層4個(gè)電子,故在元素周期表中的位置是第3周期第A族。(2)制作芯片需要高純度的硅,硅晶體是由原子通過共價(jià)鍵結(jié)合而成的原子晶體,故高純硅中Si原子之間的相互作用是共價(jià)鍵。(3)非金屬性Si弱于P,用原子結(jié)構(gòu)解釋原因:Si與P電子層數(shù)相同,核電荷數(shù)Si小于P,原子半徑Si大于P,則原子核對(duì)核外電子的吸引力Si小于P,得電子能力Si小于P,。(4)主族元素的最高正化合價(jià)等于主族序數(shù),C和Si均處于第A族,故C的最高正化合價(jià)與Si的最高正化合價(jià)相同,
17、說法正確;SiO2中硅呈+4價(jià),二氧化硅性質(zhì)穩(wěn)定,不具有還原性,說法錯(cuò)誤;非金屬性越強(qiáng),最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性越強(qiáng),碳的非金屬性大于硅,故酸性:H2CO3H2SiO3,說法正確;故正確的是。18下圖是地殼中含量較大的九種元素分布圖,圖中X、Y、Z分別表示不同元素?;卮鹣铝袉栴}:(1)X的名稱為_,硅元素在自然界以_(填游離態(tài)或“化合態(tài)”)形式存在。(2)Y的氧化物屬于_氧化物,硅的氧化物屬于_氧化物(填“酸性”、 “兩性”或“堿性)。(3)常用ZCl3溶液作為刻制印刷電路時(shí)的“腐蝕液,該反應(yīng)的離子方程式為_,區(qū)別ZCl3溶液和Z(OH)3膠體的方法是_。(4)由粗硅制備硅烷(SiH4)的
18、基本流程如下圖所示(反應(yīng)條件均省略):已知:反應(yīng)I、II的化學(xué)方程式分別為Si+3HC1=SiHCl3+A,SiHCl3+B=Si+3HC1(均已配平)。A的化學(xué)式為_。反應(yīng)I、II、III中,有_個(gè)屬于氧化還原反應(yīng)。反應(yīng)IV中生成的SiH4和NH3兩種氣體的物質(zhì)的量之比為_?!敬鸢浮垦?化合態(tài) 兩性 酸性 2Fe3+Cu=2Fe2+Ca2+ 丁達(dá)爾效應(yīng) H2 3 1:4 【分析】根據(jù)地殼中元素含量可知,地殼中含量最高的為氧元素,占48.6%,第二位是硅元素,占26.3%,第三位是鋁元素,占7.73%,也是地殼中含量最多的金屬元素,第四位是鐵元素,占4.75%,則可判斷X為O元素,Y為Al元素,Z為Fe元素;根據(jù)題中所給的化學(xué)方程式,由質(zhì)量守恒定律,判斷A的化學(xué)式和氧化還原反應(yīng)個(gè)數(shù);根據(jù)題中信息,寫出反應(yīng)IV,得出氣體的物質(zhì)的量之比;據(jù)此解答。【詳解】(1)由上述分析可知,X為氧元素,Si是親氧元素,在自然界中沒有游離態(tài)的Si存在,以二氧化硅和硅酸鹽的形式存在,則硅只以化合態(tài)形式存在;答案為氧,化合態(tài)。(2)Y為Al元素,其氧化物為Al2O3,既能與酸反應(yīng)生成鹽和水,即
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