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文檔簡介
1、PN結(jié)電容PN結(jié)電容低頻下,PN結(jié)具有良好的整流效應(yīng)。高頻下,PN結(jié)的整流效應(yīng)基本消失。-PN結(jié)具有電容PN結(jié)的起因,大小和影響因素。5.3.1 勢壘電容 CT以PN結(jié)加正向偏壓為例:正向偏壓增大,勢壘區(qū)寬度變窄,空間電荷數(shù)量減少??臻g電荷來源于不能移動的雜質(zhì)離子。電荷數(shù)目的減少是因為電子和空穴的注入,中和作用。相當(dāng)于電子和空穴的“存入”過程。反之,正向偏壓減小,勢壘區(qū)寬度變寬,空間電荷數(shù)量增多,電子和空穴被“取出”。5.3.2 擴(kuò)散電容 CD 當(dāng)外加正偏電壓變化時,PN結(jié)外擴(kuò)散區(qū)內(nèi)積累的非平衡載流子數(shù)變化引起的電容效應(yīng)。5.3.3 勢壘電容的計算PN結(jié)的直流偏壓不同時,微分電容也不同。VD換
2、為VD-V 按突變結(jié)的電荷分布模型,推導(dǎo)突變結(jié)勢壘電容公式:電量對電壓求微分求總電量:單位面積的總電量為:若PN結(jié)面積為A,則PN結(jié)的勢壘電容為:單位面積的勢壘電容為:對于P+N結(jié)或N+P結(jié),上式可簡化為:其中NB為輕摻雜一邊的雜質(zhì)濃度。耗盡層近似,也適用于加反向偏壓。以上結(jié)論在半導(dǎo)體器件的設(shè)計和生產(chǎn)中有重要的實際意義。 加正向電壓時勢壘電容比該式較大:1.勢壘區(qū)變窄,空間 電荷變少。2.大量載流子流過勢壘區(qū),對勢壘電容有貢獻(xiàn)。突變結(jié)和線性緩變結(jié)的勢壘電容都與外加電壓有關(guān)系??梢灾瞥勺?nèi)萜骷?;可以用來測量結(jié)附近的雜質(zhì)濃度和雜質(zhì)濃度梯度。5.3.4 擴(kuò)散電容的計算擴(kuò)散電容是因為擴(kuò)散區(qū)載流子濃度隨
3、外加電壓變化引起的電容效應(yīng)。外加電壓變化時,需要外電路注入電荷以適應(yīng)PN結(jié)擴(kuò)散區(qū)載流子濃度的變化。外電路通過P端注入的正電荷分為兩部分:N側(cè)擴(kuò)散區(qū)空穴的增加和平衡P側(cè) 擴(kuò)散區(qū)少子電子數(shù)的增加。注入到N區(qū)和P區(qū)的非平衡少子分布:將上兩式在擴(kuò)散區(qū)內(nèi)積分,得到單位面積擴(kuò)散區(qū)內(nèi)積累的載流子總電荷量:擴(kuò)散區(qū),單位面積的微分電容:單位面積總擴(kuò)散電容:設(shè)A為PN結(jié)的面積,則加正向偏壓時,總的微分電容為:(1)在300K時流過PN結(jié)的電流I。N區(qū)空穴:P區(qū)電子:少子濃度:總電流:Js(2)假設(shè)以P區(qū)指向N區(qū)為x軸的正方向,列出N區(qū)內(nèi)的空穴和電子濃度分布的表達(dá)式。N區(qū)內(nèi)空穴濃度分布為:利用 ,得出電子濃度分布:(3)確定N區(qū)內(nèi)空穴擴(kuò)散電流、電子擴(kuò)散電流、電子漂移電流和總的電子電流隨x變化的表達(dá)式。N區(qū)內(nèi)空穴擴(kuò)散電流:N區(qū)內(nèi)電子擴(kuò)散電流:電子的遷移率不同于P區(qū):電子漂移電流:注入的空穴濃度遠(yuǎn)小于
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