007.光刻膠材料公司競爭力分析_第1頁
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。我國目前生產(chǎn)的電子化學產(chǎn)品，其中比較重要的兩大類的發(fā)展現(xiàn)狀如下：集成電路用電子化學品 它 。我國目前生產(chǎn)的電子化學產(chǎn)品，其中比較重要的兩大類的發(fā)展現(xiàn)狀如下：集成電路用電子化學品 它包外 500噸年規(guī)模的生產(chǎn)能力，MOS204000噸； 年 ， 60吋以上大屏幕顯示領域，目前仍以PDP 要求 頻集成電路及元器件的開發(fā)，集成電路與元器件特征尺寸越來越精細的趨勢，其加工尺寸將達到深微米、百納米直至納米級，應用光刻膠的發(fā)展趨勢為了適應微電子行業(yè)亞微米圖形加工技術要求，光刻膠、X 射線膠、離子束膠等。目前的開發(fā)已從普通紫外光發(fā)展到紫外光刻膠、深紫外光刻膠 航電子裝備中，已廣泛地應用MCM技術。 02 RGB 色阻、PS、BM、OC、Array 正型及觸控相關等具外司02 RGB 色阻、PS、BM、OC、Array 正型及觸控相關等具外司能 關應更；機會（Opportunity在大陸建立生產(chǎn)研發(fā) 成場急速擴大的背景下，建立生產(chǎn)研產(chǎn)求；技后控

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