材料分析題庫(kù)含

資料剖析試題庫(kù)選擇題：一、1.M層電子回遷到K層后，剩余的能量放出的特色X射線(xiàn)稱(chēng)（A.Kα；B.Kβ；C.Kγ；D.Lα。2.當(dāng)X射線(xiàn)發(fā)生裝置是Cu靶，濾波片應(yīng)選（C）A．Cu；B.Fe；C.Ni；D.Mo。3.當(dāng)電子把全部能量都變換為X射線(xiàn)時(shí)，該X射線(xiàn)波長(zhǎng)稱(chēng)（

B）A）短波限λ0；B.激發(fā)限λk；C.汲取限；D.特色X射線(xiàn)4.當(dāng)X射線(xiàn)將某物質(zhì)原子的K層電子打出去后，L層電子回遷電子打出核外，這整個(gè)過(guò)程將產(chǎn)生（D）

K層，剩余能量將另一個(gè)

L層光電子；B.二次熒光；C.俄歇電子；D.（A+C）二、1.最常用的X射線(xiàn)衍射方法是（B）。A.勞厄法；B.粉末法；C.周轉(zhuǎn)晶體法；D.德拜法。2.射線(xiàn)衍射方法中，試樣為單晶體的是（D）A、勞埃法B、周轉(zhuǎn)晶體法C、平面底片照相法D、A和B3.晶體屬于立方晶系，一晶面截x軸于a/2、y軸于b/3、z軸于c/4，則該晶面的指標(biāo)為（B）A、(364)B、(234)C、(213)D、(468)4.立方晶系中，指數(shù)相同的晶面和晶向（B）A、互相平行B、互相垂直C、成必定角度范圍D、無(wú)必定聯(lián)系5.晶面指數(shù)（111）與晶向指數(shù)（111）的關(guān)系是（C）。A.垂直；B.平行；C.不必定。6.在正方晶系中，晶面指數(shù){100}包含幾個(gè)晶面（B）。A.6；B.4；C.2D.1；。7.用來(lái)進(jìn)行晶體構(gòu)造剖析的X射線(xiàn)學(xué)分支是（B）射線(xiàn)透射學(xué)；射線(xiàn)衍射學(xué)；射線(xiàn)光譜學(xué)；D.其他三、1、對(duì)于簡(jiǎn)單點(diǎn)陣構(gòu)造的晶體，系統(tǒng)消光的條件是（A）A、不存在系統(tǒng)消光B、h+k為奇數(shù)C、h+k+l為奇數(shù)D、h、k、l為異性數(shù)2、立方晶系{100}晶面的多重性因子為（D）A、2B、3C、4D、63、洛倫茲因子中，第一幾何因子反應(yīng)的是（A）A、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響B(tài)、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響C、衍射線(xiàn)地點(diǎn)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響D、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響4、洛倫茲因子中，第二幾何因子反應(yīng)的是（B）A、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響B(tài)、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響C、衍射線(xiàn)地點(diǎn)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響D、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響5、洛倫茲因子中，第三幾何因子反應(yīng)的是（C）A、晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響B(tài)、參加衍射晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響C、衍射線(xiàn)地點(diǎn)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響D、試樣形狀對(duì)衍射強(qiáng)度的影響6、對(duì)于底心斜方晶體，產(chǎn)生系統(tǒng)消光的晶面有（C）A、112B、113C、101D、1117、對(duì)于面心立方晶體，產(chǎn)生系統(tǒng)消光的晶面有（C）A、200

B、220

C、112

D、1118、熱振動(dòng)對(duì)x-ray衍射的影響中不正確的選項(xiàng)是（E）A、溫度高升惹起晶胞膨脹B、使衍射線(xiàn)強(qiáng)度減小C、產(chǎn)生熱漫散射格角E、熱振動(dòng)在高衍射角所降低的衍射強(qiáng)度較低角下小9、將等同晶面?zhèn)€數(shù)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因子稱(chēng)為（C）A、構(gòu)造因子B、角因子C、多重性因子D、汲取因子

D、改變布拉四、1、衍射儀的測(cè)角儀在工作時(shí)，少度角（B）A.30度；B.60度；

如試樣表面轉(zhuǎn)到與入射線(xiàn)成C.90度。

30度角時(shí)，計(jì)數(shù)管與入射線(xiàn)成多2、不利于提升德拜相機(jī)的分辨率的是（A.采納大的相機(jī)半徑；B.采納

D）。X射線(xiàn)較長(zhǎng)的波長(zhǎng)；

C.采納大的衍射角；

D.采納面間距較大的衍射面。3、德拜法中有益于提升丈量精度的底片安裝方法是（A、正裝法B、反裝法C、偏裝法

C）D、以上均可4、樣品臺(tái)和測(cè)角儀機(jī)械連動(dòng)時(shí)，計(jì)數(shù)器與試樣的轉(zhuǎn)速關(guān)系是（A、1﹕1B、2﹕1C、1﹕2D、沒(méi)有確立比率5、對(duì)于相機(jī)分辨率的影響要素表達(dá)錯(cuò)誤的選項(xiàng)是（C）

B）A、相機(jī)半徑越大，分辨率越高C、X射線(xiàn)波長(zhǎng)越小，分辨率越高

B、θ角越大，分辨率越高D、晶面間距越大，分辨率越低6、粉末照相法所用的試樣形狀為（C）A、塊狀B、分別C、圓柱形

D、隨意形狀7、低角的弧線(xiàn)湊近中心孔，高角線(xiàn)湊近端部的底片安裝方法為（A）A、正裝法B、反裝法C、偏裝法D、隨意安裝都可8、以氣體電離為基礎(chǔ)制造的計(jì)數(shù)器是（D）A、正比計(jì)數(shù)器B、蓋革計(jì)數(shù)器C、閃耀計(jì)數(shù)器D、A和B9、利用X射線(xiàn)激發(fā)某種物質(zhì)會(huì)產(chǎn)生可見(jiàn)的熒光，并且熒光的多少與X射線(xiàn)強(qiáng)度成正比的特性而制造的計(jì)數(shù)器為（C）A、正比計(jì)數(shù)器B、蓋革計(jì)數(shù)器C、閃耀計(jì)數(shù)器D、鋰漂移硅檢測(cè)器五、1、測(cè)定鋼中的奧氏體含量，若采納定量X射線(xiàn)物相剖析，常用方法是（

C）。外標(biāo)法；B.內(nèi)標(biāo)法；C.直接比較法；D.K值法。2、X射線(xiàn)物相定性剖析時(shí)，若已知資料的物相能夠查（A.哈氏無(wú)機(jī)數(shù)值索引；B.芬克無(wú)機(jī)數(shù)值索引；3、PDF卡片中，數(shù)據(jù)最靠譜的用（B）表示A、iB、★C、○D、C

C）進(jìn)行查對(duì)。C.戴維無(wú)機(jī)字母索引；

D.A或

B。4、PDF卡片中，數(shù)據(jù)靠譜程度最低的用（A、iB、★C、○D、C

C）表示5、將所需物相的純物質(zhì)此外獨(dú)自標(biāo)定，而后與多項(xiàng)混淆物中待測(cè)相的相應(yīng)衍射線(xiàn)強(qiáng)度對(duì)比較而進(jìn)行的定量剖析方法稱(chēng)為（A、外標(biāo)法B、內(nèi)標(biāo)法

A）C、直接比較法

D、K值法6、在待測(cè)試樣中摻入必定含量的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，把試樣中待測(cè)相的某根衍射線(xiàn)條強(qiáng)度與摻入試樣中含量已知的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的某根衍射線(xiàn)條對(duì)比較，進(jìn)而獲取待測(cè)相含量的定量剖析方法稱(chēng)為（B）A、外標(biāo)法B、內(nèi)標(biāo)法C、直接比較法九、1、透射電子顯微鏡中能夠除去的像差是（B）。A．球差；B.像散；C.色差。

D、K值法2、因?yàn)殡姶磐哥R中心地區(qū)和邊沿地區(qū)對(duì)電子折射能力不一樣而造成的像差稱(chēng)為（

A）A、球差B、像散C、色差D、背散3、因?yàn)橥哥R磁場(chǎng)非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)而惹起的像差稱(chēng)為（B）A、球差B、像散C、色差D、背散4、因?yàn)槿肷潆娮硬ㄩL(zhǎng)的非單調(diào)性造成的像差稱(chēng)為（C）A、球差B、像散C、色差D、背散5、制造出生界上第一臺(tái)透射電子顯微鏡的是（B）A、德布羅意B、魯斯卡C、德拜D、布拉格十、1、透射電鏡中電子槍的作用是（A）A、電子源B、匯聚電子束C、形成第一副高分辨率電子顯微圖像D、進(jìn)一步放大物鏡像2、透射電鏡中聚光鏡的作用是（B）A、電子源B、匯聚電子束C、形成第一副高分辨率電子顯微圖像D、進(jìn)一步放大物鏡像3、透射電鏡中物鏡的作用是（C）A、電子源B、匯聚電子束C、形成第一副高分辨率電子顯微圖像D、進(jìn)一步放大物鏡像4、透射電鏡中電中間鏡的作用是（D）A、電子源B、匯聚電子束C、形成第一副高分辨率電子顯微圖像D、進(jìn)一步放大物鏡像5、能提升透射電鏡成像襯度的光闌是（B）A、第二聚光鏡光闌B、物鏡光闌C、選區(qū)光闌D、索拉光闌6、物鏡光闌安置在（C）A、物鏡的物平面B、物鏡的像平面C、物鏡的背焦面D、物鏡的前焦面7、選區(qū)光闌在TEM鏡筒中的地點(diǎn)是（B）A、物鏡的物平面B、物鏡的像平面C、物鏡的背焦面D、物鏡的前焦面8、電子衍射成像時(shí)是將（A）A、中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合B、中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合C、封閉中間鏡D、封閉物鏡9、透射電鏡成容貌像時(shí)是將（B）A、中間鏡的物平面與與物鏡的背焦面重合B、中間鏡的物平面與與物鏡的像平面重合C、封閉中間鏡D、封閉物鏡10、為了減小物鏡的球差，常常在物鏡的背焦面上安置一個(gè)（B）A、第二聚光鏡光闌B、物鏡光闌C、選區(qū)光闌D、索拉光闌11、若H-800電鏡的最高分辨率是，那么這臺(tái)電鏡的有效放大倍數(shù)是（C）。1000；B.10000；C.40000；。十二、1、單晶體電子衍射花式是（A）。A.規(guī)則的平行四邊形斑點(diǎn)；B.齊心圓環(huán)；C.暈環(huán)；D.不規(guī)則斑點(diǎn)。2、薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（C）。A.尺寸很小的倒易點(diǎn)；B.尺寸很大的球；C.有必定長(zhǎng)度的倒易桿；3、當(dāng)偏離矢量S<0時(shí)，倒易點(diǎn)是在厄瓦爾德球的（A）。

D.倒易圓盤(pán)。球面外；B.球面上；C.球面內(nèi)；D.B+C。4、能幫助除去180o不獨(dú)一性的復(fù)雜衍射花式是（A）。A.高階勞厄斑；B.超構(gòu)造斑點(diǎn)；C.二次衍射斑；D.孿晶斑點(diǎn)。5、菊池線(xiàn)能夠幫助（D）。A.預(yù)計(jì)樣品的厚度；B.確立180o不獨(dú)一性；C.鑒識(shí)有序固溶體；D.精準(zhǔn)測(cè)定晶體取向。6、假如單晶體衍射花式是正六邊形，那么晶體構(gòu)造是（D）。A.六方構(gòu)造；B.立方構(gòu)造；C.四方構(gòu)造；D.A或B。7、有一倒易矢量為g2a2bc，與它對(duì)應(yīng)的正空間晶面是（C）。（210）；B.（220）；C.（221）；D.（110）；。十三、1、將某一衍射斑點(diǎn)移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點(diǎn)成像，這是（C）。A.明場(chǎng)像；B.暗場(chǎng)像；C.中心暗場(chǎng)像；D.弱束暗場(chǎng)像。2、當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（D）。=0；B.Ig<0；C.Ig>0；D.Ig=Imax。3、已知一位錯(cuò)線(xiàn)在選擇操作反射g1=（110）和g2=（111）時(shí)，位錯(cuò)不行見(jiàn)，那么它的布氏矢量是（B）。A.b=（0-10）；B.b=（1-10）；C.b=（0-11）；D.b=（010）。4、當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)的成像襯度是（C）。A.質(zhì)厚襯度；B.衍襯襯度；C.應(yīng)變場(chǎng)襯度；D.相位襯度。5、當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ优c基體呈共格關(guān)系時(shí)，此時(shí)所看到的粒子大?。˙）。A.小于真切粒子大??；B.是應(yīng)變場(chǎng)大小；C.與真切粒子相同大?。籇.遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真切粒子。6、中心暗場(chǎng)像的成像操作方法是（C）。A．以物鏡光欄套住透射斑；B．以物鏡光欄套住衍射斑；C．將衍射斑移至中心并以物鏡光欄套住透射斑。十四、1、不過(guò)反應(yīng)固體樣品表面容貌信息的物理信號(hào)是（B）。A.背散射電子；B.二次電子；C.汲取電子；D.透射電子。2、在掃描電子顯微鏡中，以下二次電子像襯度最亮的地區(qū)是（B）。A.和電子束垂直的表面；B.和電子束成30o的表面；C.和電子束成45o的表面；D.和電子束成60o的表面。3、能夠探測(cè)表面1nm層厚的樣品成分信息的物理信號(hào)是（D）。A.背散射電子；B.汲取電子；C.特色X射線(xiàn)；D.俄歇電子。十五、1、掃描電子顯微鏡裝備的成分剖析附件中最常有的儀器是（B）。A.波譜儀；B.能譜儀；C.俄歇電子譜儀；D.特色電子能量損失譜。2、波譜儀與能譜儀對(duì)比，能譜儀最大的長(zhǎng)處是（A）。A.迅速高效；B.精度高；C.沒(méi)有機(jī)械傳動(dòng)零件；D.價(jià)錢(qián)廉價(jià)。3、要剖析基體中碳含量，一般應(yīng)采納（A）電子探針儀，A.波譜儀型B、能譜儀型填空：一、1.當(dāng)X射線(xiàn)管電壓超出臨界電壓就能夠產(chǎn)生連續(xù)X射線(xiàn)和表記X射線(xiàn)。2.當(dāng)X射線(xiàn)管電壓低于臨界電壓僅產(chǎn)生連續(xù)X射線(xiàn)；當(dāng)X射線(xiàn)管電壓超出臨界電壓就能夠產(chǎn)生連續(xù)X射線(xiàn)和特色X射線(xiàn)。3.特色X射線(xiàn)的產(chǎn)生過(guò)程中，若K層產(chǎn)生空位，由L層和M層電子向K層躍遷產(chǎn)生的K系特色輻射按次序稱(chēng)K射線(xiàn)和K射線(xiàn)。αβ4.X射線(xiàn)的實(shí)質(zhì)既擁有顛簸性也擁有粒子性，擁有波粒二象性。5.短波長(zhǎng)的X射線(xiàn)稱(chēng)硬X射線(xiàn)，常用于金屬零件的無(wú)損探傷；長(zhǎng)波長(zhǎng)的X射線(xiàn)稱(chēng)軟X射線(xiàn)，常用于醫(yī)學(xué)透視上。6.連續(xù)譜短波限只與管電壓相關(guān)。7.特色X射線(xiàn)譜的頻次或波長(zhǎng)只取決于陽(yáng)極靶物質(zhì)的原子能級(jí)構(gòu)造。二、1.實(shí)質(zhì)上說(shuō)，X射線(xiàn)的衍射是由大批原子參加的一種散射現(xiàn)象。2.布拉格方程在實(shí)驗(yàn)上的兩種用途是構(gòu)造剖析和X射線(xiàn)光譜學(xué)。3.粉末法中晶體為多晶體，不變化，變化。4.平面底片照相法能夠分為透射和背射兩種方法。5.平面底片照相方法合用于研究晶粒大小、擇優(yōu)取向以及點(diǎn)陣常數(shù)精準(zhǔn)測(cè)定方面。三、1、原子序數(shù)Z越小，非相關(guān)散射越強(qiáng)。2、構(gòu)造因子與晶胞的形狀和大小沒(méi)關(guān)。3、熱振動(dòng)給X射線(xiàn)的衍射帶來(lái)很多影響有：溫度高升惹起晶胞膨脹、衍射線(xiàn)強(qiáng)度減小、產(chǎn)生向各個(gè)方向散射的非相關(guān)散射。4、衍射強(qiáng)度公式不合用于存在織構(gòu)組織。5、構(gòu)造因子=0時(shí)，沒(méi)有衍射我們稱(chēng)系統(tǒng)消光或構(gòu)造消光。對(duì)于有序固溶體，本來(lái)消光的地方會(huì)出現(xiàn)弱衍射。6、影響衍射強(qiáng)度的要素除構(gòu)造因子外還有角因子，多重性因子，汲取因子，溫度因子。四、1.在Δθ必定的狀況下，θ→90度，sinθ→0；所以精準(zhǔn)測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)應(yīng)選擇高角度衍射線(xiàn)。2.德拜照相法中的底片安裝方法有:正裝法,反裝法和偏裝法三種。3.在粉末多晶衍射的照相法中包含德拜-謝樂(lè)法、聚焦照相法和針孔法。4.德拜相機(jī)有兩種，直徑分別是和。丈量θ角時(shí)，底片上每毫米對(duì)應(yīng)2o和1o。5.衍射儀的核心是測(cè)角儀圓，它由輻射源、試樣臺(tái)和探測(cè)器共同構(gòu)成。6.能夠用作X射線(xiàn)探測(cè)器的有正比計(jì)數(shù)器、蓋革計(jì)數(shù)器和閃耀計(jì)數(shù)器等。7.影響衍射儀實(shí)驗(yàn)結(jié)果的參數(shù)有狹縫光闌、時(shí)間常數(shù)和掃面速度等。五、1、X射線(xiàn)物相剖析包含定性剖析和定量剖析，而定性剖析2、X射線(xiàn)物相定量剖析方法有外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、直接比較法3、定量剖析的基本任務(wù)是確立混淆物中各相的相對(duì)含量。

更常用更寬泛。等。4、內(nèi)標(biāo)法僅限于粉末試樣。九、1、電磁透鏡的像差包含球差、像散和色差。2、透射電子顯微鏡的分辨率主要受衍射效應(yīng)和球面像差兩要素影響。3、透射電子顯微鏡頂用磁場(chǎng)來(lái)使電子聚焦成像的裝置是電磁透鏡。4、像差分為兩類(lèi)，即幾何像差和色差。十、1、TEM中的透鏡有兩種，分別是靜電透鏡和電磁透鏡。2、TEM中的三個(gè)可動(dòng)光欄分別是聚光鏡光欄位于第二聚光鏡焦點(diǎn)上，物鏡光欄位于物鏡的背焦面上，選區(qū)光欄位于物鏡的像平面上。3、TEM成像系統(tǒng)由物鏡、中間鏡和投影鏡構(gòu)成。4、透射電鏡主要由電子光學(xué)系統(tǒng),電源與控制系統(tǒng)和真空系統(tǒng)三部分構(gòu)成。5、透射電鏡的電子光學(xué)系統(tǒng)分為三部分，即照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和察看記錄系統(tǒng)。十一、1、限制復(fù)型樣品的分辨率的主要要素是復(fù)型資料的粒子尺寸大小。2、今日復(fù)型技術(shù)主要應(yīng)用于萃取復(fù)型來(lái)揭取第二相細(xì)小顆粒進(jìn)行剖析。3、質(zhì)厚襯度是成立在非晶體樣品中原子對(duì)入射電子的散射和透射電子顯微鏡成像基礎(chǔ)上的成像原理，是解說(shuō)非晶態(tài)樣品電子顯微圖像襯度的理論依照。

小孔徑角4、粉末樣品制備方法有膠粉混淆法

和支持膜分別粉末法

。5、透射電鏡的復(fù)型技術(shù)主要有一級(jí)復(fù)型、二級(jí)復(fù)型和萃取復(fù)型三種方法。十二、1、電子衍射和X射線(xiàn)衍射的不一樣之處在于入射波長(zhǎng)不一樣、試樣尺寸形狀不一樣，以及樣品對(duì)電子和X射線(xiàn)的散射能力不一樣。2、電子衍射產(chǎn)生的復(fù)雜衍射花式是高階勞厄斑、超構(gòu)造斑點(diǎn)、二次衍射、孿晶斑點(diǎn)和菊池花式。3、偏離矢量S的最大值對(duì)應(yīng)倒易桿的長(zhǎng)度，它反應(yīng)的是θ角偏離布拉格方程的程度。4、單晶體衍射花式標(biāo)定中最重要的一步是確立晶體構(gòu)造。5、二次衍射能夠使密排六方、金剛石構(gòu)造的花式中在本該消光的地點(diǎn)產(chǎn)生衍射花式，但體心立方和面心立方構(gòu)造的花式中不會(huì)產(chǎn)生剩余衍射。6、倒易矢量的方向是對(duì)應(yīng)正空間晶面的法線(xiàn)；倒易矢量的長(zhǎng)度等于對(duì)應(yīng)晶面間距的倒數(shù)。7、只需倒易陣點(diǎn)落在厄瓦爾德球面上，就表示該晶面知足布拉格條件，能產(chǎn)生衍射。十三、1、運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的兩個(gè)基本假定是雙光束近似和柱體近似。2、對(duì)于理想晶體，當(dāng)樣品厚度或偏離矢量連續(xù)改變時(shí)襯度像中會(huì)出現(xiàn)等厚消光條紋或等傾消光條紋。3、對(duì)于缺點(diǎn)晶體，缺點(diǎn)襯度是由缺點(diǎn)惹起的位移矢量致使衍射波振幅增添了一個(gè)附加位相角，可是若附帶的位相角α=2π的整數(shù)倍時(shí)，缺點(diǎn)也不產(chǎn)生襯度。4、一般狀況下，孿晶與層錯(cuò)的襯度像都是平行直線(xiàn)，但孿晶的平行線(xiàn)間距不等，而層錯(cuò)的平行線(xiàn)是等間距的。5、實(shí)質(zhì)的位錯(cuò)線(xiàn)在位錯(cuò)線(xiàn)像的一側(cè)，其寬度也大大小于位錯(cuò)線(xiàn)像的寬度，這是因?yàn)槲诲e(cuò)線(xiàn)像的寬度是應(yīng)變場(chǎng)寬度。十四、1、電子束與固體樣品互相作用能夠產(chǎn)生背散射電子、二次電子、透射電子、特色X射線(xiàn)、俄歇電子、汲取電子等物理信號(hào)。2、掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)是陰極射線(xiàn)電子束在熒光屏上的掃描寬度與電子槍電子束在樣品表面的掃描寬度的比值。在襯度像上顆粒、突出的棱角是亮襯度，而裂紋、凹坑則是暗襯度。3、分辨率最高的物理信號(hào)是征X射線(xiàn)為100nm4、掃描電鏡的分辨率是指5、掃描電子顯微鏡能夠代替

俄歇電子或二次電子為5nm，分辨率最低的物理信號(hào)是特以上。二次電子信號(hào)成像時(shí)的分辨率金相顯微鏡進(jìn)行資料金相察看，也能夠?qū)嗫谶M(jìn)行分析察看。6、掃描電子顯微鏡常用的信號(hào)是

二次電子

和

背散射電子

。7、掃描電子顯微鏡是電子光學(xué)系統(tǒng)，信號(hào)采集辦理、圖像顯示和記錄系統(tǒng)，真空系統(tǒng)三個(gè)基本部分構(gòu)成。8、電子光學(xué)系統(tǒng)包含電子槍、電磁透鏡、掃描線(xiàn)圈和樣品室。十五、1、電子探針的功能主假如進(jìn)行微區(qū)成分剖析。2、電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是X射線(xiàn)譜儀，用來(lái)測(cè)定特色波長(zhǎng)的譜儀叫做波譜儀。用來(lái)測(cè)定射線(xiàn)特色能量的譜儀叫做能量分別譜儀。3、電子探針儀的剖析方法有定性剖析和定量剖析。此中定性剖析包含定點(diǎn)剖析、線(xiàn)剖析、面剖析。4、電子探針包含能譜儀和波譜儀兩種儀器。判斷題：一、1.激發(fā)限與汲取限是一回事，不過(guò)從不一樣角度看問(wèn)題。（√）2.經(jīng)濾波后的X射線(xiàn)是相對(duì)的單色光。（√）3.產(chǎn)生特色X射線(xiàn)的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處于激發(fā)狀態(tài)。（√）4.選擇濾波片只需依據(jù)汲取曲線(xiàn)選擇資料，而不需要考慮厚度。（×）二、射線(xiàn)衍射與光的反射相同，只需知足入射角等于反射角就行。（×）2.干預(yù)晶面與實(shí)質(zhì)晶面的差異在于：干預(yù)晶面是虛構(gòu)的，指數(shù)間存在條約數(shù)n。（√）3.布拉格方程只波及X射線(xiàn)衍射方向，不可以反應(yīng)衍射強(qiáng)度。（√）三、1、衍射方向在X射線(xiàn)波長(zhǎng)必定的狀況下取決與晶面間距（√）2、在一個(gè)晶面族中，等同晶面越多，參加衍射的概率就越大（√）3、X射線(xiàn)衍射線(xiàn)的峰寬能夠反應(yīng)出很多晶體信息，峰越寬說(shuō)明晶粒越大（×）4、原子的熱振動(dòng)可使X射線(xiàn)衍射強(qiáng)度增大（×）5、溫度一準(zhǔn)時(shí)，衍射角越大，溫度因子越小，衍射強(qiáng)度隨之減?。ā蹋?、布拉格方程只波及X射線(xiàn)衍射方向，不可以反應(yīng)衍射強(qiáng)度（√）7、衍射角一準(zhǔn)時(shí)，溫度越高，溫度因子越小，衍射強(qiáng)度隨之減?。ā蹋?、原子的熱振動(dòng)會(huì)產(chǎn)生各個(gè)方向散射的相關(guān)散射（×）四、1、大直徑德拜相機(jī)能夠提升衍射線(xiàn)接受分辨率，縮短嚗光時(shí)間。（×）2、在衍射儀法中，衍射幾何包含二個(gè)圓。一個(gè)是測(cè)角儀圓，另一個(gè)是輻射源、探測(cè)器與試樣三者還一定位于同一聚焦圓。（√）3、德拜法比衍射儀法丈量衍射強(qiáng)度更精準(zhǔn)。（×）4、衍射儀法和德拜法相同，對(duì)試樣粉末的要求是粒度均勻、大小適中，沒(méi)有應(yīng)力。（√）5、要精準(zhǔn)丈量點(diǎn)陣常數(shù)。一定第一盡量減少系統(tǒng)偏差，其次選高角度θ角，最后還要用直線(xiàn)外推法或柯亨法進(jìn)行數(shù)據(jù)辦理。（√）6、粉末照相法所用的粉末試樣顆粒越細(xì)越好（×）7、德拜相機(jī)的底片安裝方式中，正裝法多用于點(diǎn)陣常數(shù)確實(shí)定（×）8、依據(jù)不用光晶面的N值比值能夠確立晶體構(gòu)造（√）9、為了提升德拜相機(jī)的分辨率，在條件同意的狀況下，應(yīng)盡量采納波長(zhǎng)較長(zhǎng)的x-ray源（√）10、在剖析大晶胞的試樣時(shí)，應(yīng)盡可能采納波長(zhǎng)較長(zhǎng)的x-ray源，以便賠償因?yàn)榫О^(guò)大對(duì)分辨率的不良影響（√）11、選擇小的接受光闌狹縫寬度，能夠提升接受分辨率，但會(huì)降低接受強(qiáng)度（√）五、1、X射線(xiàn)衍射之所以能夠進(jìn)行物相定性剖析，是因?yàn)闆](méi)有兩種物相的衍射花式是完好相同的。（√）2、理論上X射線(xiàn)物相定性剖析能夠告訴我們被測(cè)資猜中有哪些物相，而定量剖析能夠告訴我們這些物相的含量有多少。（√）3、各相的衍射線(xiàn)條的強(qiáng)度跟著該相在混淆物中的相對(duì)含量的增添而加強(qiáng)（√）4、內(nèi)標(biāo)法僅限于粉末試樣（√）5、哈氏索引和芬克索引均屬于數(shù)值索引（√）6、PDF索引中晶面間距數(shù)值下腳標(biāo)的x表示該線(xiàn)條的衍射強(qiáng)度待定（×）7、PDF卡片的右上角標(biāo)有★說(shuō)明數(shù)據(jù)靠譜性高（√）8、多相物質(zhì)的衍射花式互相獨(dú)立，互不擾亂（×）9、物相定性剖析時(shí)的試樣制備，一定將擇優(yōu)取向減至最?。ā蹋┚拧?、TEM的分辨率既受衍射效應(yīng)影響，也受透鏡的像差影響。（√）2、孔徑半角α是影響分辨率的重要要素，TEM中的α角越小越好。（×）3、TEM中主假如電磁透鏡，因?yàn)殡姶磐哥R不存在凹面鏡，所以不可以象光學(xué)顯微鏡那樣經(jīng)過(guò)凹凸鏡的組合設(shè)計(jì)來(lái)減小或除去像差，故TEM中的像差都是不行除去的。（×）4、TEM的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率r0的數(shù)值減小而減??；隨孔徑半角α的減小而增添；隨放大倍數(shù)的提升而減小。（×）5、電磁透鏡的景深和焦長(zhǎng)隨分辨率r0的數(shù)值減小而減?。浑S孔徑半角α的減小而增添（√）6、光學(xué)顯微鏡的分辨率取決與照明光源的波長(zhǎng)，波長(zhǎng)越短，分辨率越高（√）7、波長(zhǎng)越短，顯微鏡的分辨率越高，所以能夠采納波長(zhǎng)較短的γ射線(xiàn)作為照明光源。（×）8、用小孔徑角成像時(shí)可使球差顯然減小。（√）9、限制電磁透鏡分辨率的最主要要素是色差。（×）10、電磁透鏡的景深越大，對(duì)聚焦操作越有益。（√）十、1、有效放大倍數(shù)與儀器能夠達(dá)到的放大倍數(shù)不一樣，前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率，后者不過(guò)是儀器的制造水平。（√）2、物鏡的分辨率主要決定于極靴的形狀和加工精度（√）3、物鏡光闌能夠減小像差但不可以提升圖像的襯度（×）4、物鏡光闌孔越小，被擋去的電子越多，圖像的襯度越大（√）5、物鏡光闌能使物鏡孔徑角減小，能減小像差，獲取質(zhì)量較高的圖像（6、物鏡光闌是沒(méi)有磁性的（√）7、利用電子顯微鏡進(jìn)行圖像剖析時(shí)，物鏡和樣品之間的距離是固定不變的（十二、

√）√）1、多晶衍射環(huán)和粉末德拜衍射花式相同，跟著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（√）2、單晶衍射花式中的全部斑點(diǎn)同屬于一個(gè)晶帶。（×）3、偏離矢量S=0時(shí)，衍射斑點(diǎn)最亮。這是因?yàn)镾=0時(shí)是精準(zhǔn)知足布拉格方程，所以衍射強(qiáng)度最大。（√）4、對(duì)于未知晶體構(gòu)造，僅憑一張衍射花式是不可以確立其晶體構(gòu)造的。還要從不一樣位向拍攝多幅衍射花式，并依據(jù)資料成分、加工歷史等或聯(lián)合其他方法綜合判斷晶體構(gòu)造。（√）5、電子衍射和X射線(xiàn)衍射相同一定嚴(yán)格切合布拉格方程。（×）6、倒易矢量能獨(dú)一地代表對(duì)應(yīng)的正空間晶面。（√）十三、1、實(shí)質(zhì)電鏡樣品的厚度很小時(shí),能近似知足衍襯運(yùn)動(dòng)學(xué)理論的條件,這時(shí)運(yùn)動(dòng)學(xué)理論能很好地解說(shuō)襯度像。（√）2、厚樣品中存在消光距離ξg，薄樣品中則不存在消光距離ξg。（×）3、明場(chǎng)像是質(zhì)厚襯度，暗場(chǎng)像是衍襯襯度。（×）4、晶體中只需出缺點(diǎn)，用透射電鏡就能夠察看到這個(gè)缺點(diǎn)。（×）5、等厚消光條紋和等傾消光條紋往常是容貌察看中的擾亂，應(yīng)當(dāng)經(jīng)過(guò)更好的制樣來(lái)防止它們的出現(xiàn)。（×）十四、1、掃描電子顯微鏡中的物鏡與透射電子顯微鏡的物鏡相同。（×）2、掃描電子顯微鏡的分辨率主要取決于物理信號(hào)而不是衍射效應(yīng)和球差。（√）3、掃描電子顯微鏡的襯度和透射電鏡相同取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。（×）4、掃描電子顯微鏡擁有大的景深，所以它能夠用來(lái)進(jìn)行斷口容貌的剖析察看。（√）十五、1、波譜儀是逐個(gè)接收元素的特色波進(jìn)步行成分剖析；能譜儀是同時(shí)接收全部元素的特色射線(xiàn)進(jìn)行成分剖析的。（√）

X名詞解說(shuō)：0、系統(tǒng)消光：因原子在晶體中地點(diǎn)不一樣或原子種類(lèi)不一樣而惹起的某些方向上衍射線(xiàn)消逝的現(xiàn)象。1、構(gòu)造因子：定量表征原子排布以及原子種類(lèi)對(duì)衍射強(qiáng)度影響規(guī)律的參數(shù)。索引：數(shù)字索引的一種，每種物質(zhì)的全部衍射峰之中，必定有三個(gè)峰的強(qiáng)度最大(而非面網(wǎng)間距最大)。把這三個(gè)強(qiáng)度最大的峰，按必定的規(guī)律排序，就構(gòu)成了Hanawalt排序和索引方法。排序時(shí)，考慮到影響強(qiáng)度的要素比較復(fù)雜，為了減少因強(qiáng)度丈量的差異而帶來(lái)的查找困難，索引中將每種物質(zhì)列出三次。數(shù)據(jù)檢索時(shí)，按實(shí)質(zhì)衍射圖譜中的3強(qiáng)峰進(jìn)行數(shù)據(jù)檢索，即可找到對(duì)應(yīng)的衍射卡片。3.直接比較法：將試樣中待測(cè)相某跟衍射線(xiàn)的強(qiáng)度與另一相的某根衍射線(xiàn)強(qiáng)度對(duì)比較的定量金相剖析方法。4.球差：即球面像差，是因?yàn)殡姶磐哥R的中心地區(qū)和邊沿地區(qū)對(duì)電子的折射能力不一樣造成的。軸上物點(diǎn)發(fā)出的光束，經(jīng)電子光學(xué)系統(tǒng)此后，與光軸成不一樣角度的光芒交光軸于不一樣地點(diǎn)，所以，在像面上形成一個(gè)圓形彌散斑，這就是球差。像散：由透鏡磁場(chǎng)的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)惹起的像差。色差：因?yàn)殡娮拥牟ㄩL(zhǎng)或能量非單調(diào)性所惹起的像差，它與多色光相像，所以叫做色差。5.景深：透鏡物平面同意的軸向偏差。焦長(zhǎng)：透鏡像平面同意的軸向偏差。在成一幅清楚像的前提下，像平面不變，光景沿光軸前后挪動(dòng)的距離稱(chēng)“景深”；光景不動(dòng)，像平面沿光軸前后挪動(dòng)的距離稱(chēng)“焦長(zhǎng)”。斑：物體上的物點(diǎn)經(jīng)過(guò)透鏡成像時(shí)，因?yàn)檠苌湫?yīng)，在像平面上獲取的其實(shí)不是一個(gè)點(diǎn)，而是一此中心最亮、四周帶有明暗相間齊心圓環(huán)的圓斑，即所謂Airy斑。7.孔徑半角：孔徑半角是物鏡孔徑角的一半，而物鏡孔徑角是物鏡光軸上的物體點(diǎn)與物鏡前透鏡的有效直徑所形成的角度。所以，孔徑半角是物鏡光軸上的物體點(diǎn)與物鏡前透鏡的有效直徑所形成的角度的一半。8.點(diǎn)分辨率與晶格分辨率：點(diǎn)分辨率是電鏡能夠分辨的兩個(gè)物點(diǎn)間的最小間距；晶格分辨率是能夠分辨的擁有最小面間距的晶格像的晶面間距。9.選區(qū)衍射：為了剖析樣品上的一個(gè)細(xì)小地區(qū)，在樣品上放一個(gè)選區(qū)光闌，使電子束只好經(jīng)過(guò)光闌孔限制的微區(qū)，對(duì)這個(gè)微區(qū)進(jìn)行衍射剖析。10.有效放大倍數(shù)：把顯微鏡最大分辨率放大到人眼的分辨本事（），讓人眼能分辨的放大倍數(shù)，即眼睛分辨率/顯微鏡分辨率。11.質(zhì)厚襯度：因?yàn)樵嚇拥馁|(zhì)量和厚度不一樣，各部分對(duì)入射電子發(fā)生互相作用，產(chǎn)生的汲取與散射程度不一樣，而使得透射電子束的強(qiáng)度散布不一樣，形成反差，稱(chēng)為質(zhì)-厚襯度。12.偏離矢量s：倒易桿中心至與愛(ài)瓦爾德球面交截點(diǎn)的距離可用矢量s表示，s就是偏離矢量。晶帶定律：凡是屬于[uvw]晶帶的晶面，它的晶面指數(shù)(hkl)都一定切合hu+kv+lw=0，往常把這類(lèi)關(guān)系式稱(chēng)為晶帶定律。14.相機(jī)常數(shù)：定義K=Lλ，稱(chēng)相機(jī)常數(shù)，此中L為鏡筒長(zhǎng)度，λ為電子波長(zhǎng)。15.明場(chǎng)像：讓透射束經(jīng)過(guò)物鏡光闌而把衍射束擋掉獲取圖像襯度的方法，叫明場(chǎng)成像，所獲取的像叫明場(chǎng)像。16.暗場(chǎng)像：用物鏡光闌擋住透射束及其他衍射束，而只讓一束強(qiáng)衍射束經(jīng)過(guò)光闌參加成像的方法，稱(chēng)為暗場(chǎng)成像，所得圖象為暗場(chǎng)像。17.中心暗場(chǎng)像：用物鏡光闌擋住透射束及其他衍射束，而只讓一束強(qiáng)衍射束通過(guò)光闌參加成像的方法，稱(chēng)為暗場(chǎng)成像，所得圖象為暗場(chǎng)像。假如物鏡光闌處于光軸地點(diǎn)，所得圖象為中心暗場(chǎng)像。18.消光距離ξg：晶體內(nèi)透射波與衍射顛簸力學(xué)互相作用，使其強(qiáng)度在晶體深度方向上發(fā)生周期性振蕩，振蕩的深度周期叫消光距離。19.衍射襯度：入射電子束和薄晶體樣品之間互相作用后，樣品內(nèi)不一樣部位組織的成像電子束在像平面上存在強(qiáng)度差其他反應(yīng)。衍射襯度主假如因?yàn)榫w試樣知足布拉格反射條件程度差異以及構(gòu)造振幅不一樣而形成電子圖象反差。20.背散射電子：入射電子被樣品原子散射回來(lái)的部分；它包含彈性散射和非彈性散射部分；背散射電子的作用深度大，產(chǎn)額大小取決于樣品原子種類(lèi)和樣品形狀。21.汲取電子：入射電子進(jìn)入樣品后，經(jīng)多次非彈性散射，能量損失殆盡（假定樣品有足夠厚度，沒(méi)有透射電子產(chǎn)生），最后被樣品汲取。汲取電流像能夠反應(yīng)原子序數(shù)襯度，相同也能夠用來(lái)進(jìn)行定性的微區(qū)成分剖析。22.特色X射線(xiàn)：原子的內(nèi)層電子遇到激發(fā)此后，在能級(jí)躍遷過(guò)程中直接開(kāi)釋的擁有特色能量和波長(zhǎng)的一種電磁波輻射。利用特色X射線(xiàn)能夠進(jìn)行成分剖析。23.二次電子：二次電子是指被入射電子轟擊出來(lái)的核外電子。二次電子來(lái)自表面50-100的地區(qū)，能量為0-50eV。它對(duì)試樣表面狀態(tài)特別敏感，能有效地顯示試樣表面的微觀容貌。24.俄歇電子：假如原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過(guò)程中開(kāi)釋出來(lái)的能量不以X射線(xiàn)的形式開(kāi)釋?zhuān)怯迷撃芰繉⒑送饬硪浑娮哟虺?，離開(kāi)原子變?yōu)槎坞娮?，這類(lèi)二次電子叫做俄歇電子。俄歇電子信號(hào)合用于表層化學(xué)成分剖析。25.波譜儀：電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是X射線(xiàn)譜儀，用來(lái)測(cè)定X射線(xiàn)特色波長(zhǎng)的譜儀叫做波長(zhǎng)分別譜儀。26.能譜儀：電子探針的信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是X射線(xiàn)譜儀，用來(lái)測(cè)定X射線(xiàn)特色能量的譜儀叫做能量分別譜儀。問(wèn)答題：1.什么叫“相關(guān)散射”、“短波限”、汲取限答：相關(guān)散射，物質(zhì)中的電子在X射線(xiàn)電場(chǎng)的作用下，產(chǎn)生逼迫振動(dòng)。這樣每個(gè)電子在各方向產(chǎn)生與入射X射線(xiàn)同頻次的電磁波。新的散射波之間發(fā)生的干預(yù)現(xiàn)象稱(chēng)為相關(guān)散射。短波限，連續(xù)X射線(xiàn)譜在短波方向有一個(gè)波長(zhǎng)極限，稱(chēng)為短波限λ0.它是由光子一次碰撞就耗盡能量所產(chǎn)生的X射線(xiàn)。汲取限：主要因?yàn)楣怆娦?yīng)惹起的汲取忽然增添所對(duì)應(yīng)的X射線(xiàn)的波長(zhǎng)。2.剖析以下熒光輻射產(chǎn)生的可能性，為何1）用CuKαX射線(xiàn)激發(fā)CuKα熒光輻射；2）用CuKβX射線(xiàn)激發(fā)CuKα熒光輻射；3）用CuKαX射線(xiàn)激發(fā)CuLα熒光輻射。解：假定EK為K殼層的能量，EL為L(zhǎng)殼層的能量，EM為M殼層的能量，CuKαX射線(xiàn)的能量為EK-EL，CuKβX射線(xiàn)的能量為EK-EM，CuKα熒光輻射的能量為EK-EL，CuLα熒光輻射的能量為EL-EM，1）不行能，用CuKαX射線(xiàn)激發(fā)CuKα熒光輻射，需要EK的能量；2）不行能，用CuKβX射線(xiàn)激發(fā)CuKα熒光輻射，需要EK的能量；3）有可能，用CuKαX射線(xiàn)激發(fā)CuLα熒光輻射，需要EL的能量，詳細(xì)能不可以還要比較EK-EL和EL的大小。3.特色x射線(xiàn)譜的產(chǎn)活力理。答：高速運(yùn)動(dòng)的粒子（電子或光子）將靶材原子核外電子擊出去，或擊到原子系統(tǒng)外，或填到未滿(mǎn)的高能級(jí)上，原子的系統(tǒng)能量高升，處于激發(fā)態(tài)。為趨于穩(wěn)固，原子系統(tǒng)自覺(jué)向低能態(tài)轉(zhuǎn)變：較高能級(jí)上的電子向低能級(jí)上的空位躍遷，這一降低的能量以一個(gè)光子的形式輻射出來(lái)變?yōu)楣庾幽芰?，且這降低能量為固定值（因原子序數(shù)固定），因此λ固定，所以輻射出特色X射線(xiàn)譜。4.布拉格方程2dsinθ=λ中的d、θ、λ分別表示什么布拉格方程式有何用途答：dHKL表示HKL晶面的面網(wǎng)間距，θ角表示掠過(guò)角或布拉格角，即入射X射線(xiàn)或衍射線(xiàn)與面網(wǎng)間的夾角，λ表示入射X射線(xiàn)的波長(zhǎng)。該公式有二個(gè)方面用途：（1）已知晶體的d值。經(jīng)過(guò)丈量θ，求特色X射線(xiàn)的λ，并經(jīng)過(guò)λ判斷產(chǎn)生特色X射線(xiàn)的元素。這主要應(yīng)用于X射線(xiàn)熒光光譜儀和電子探針中。（2）已知入射X射線(xiàn)的波長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)丈量θ，求晶面間距。并經(jīng)過(guò)晶面間距，測(cè)定晶體構(gòu)造或進(jìn)行物相剖析。5.給出簡(jiǎn)單立方、面心立方、體心立方、密排六方以及體心四方晶體構(gòu)造X衍射發(fā)生消光的晶面指數(shù)規(guī)律。答：常有晶體的構(gòu)造消光規(guī)律簡(jiǎn)單立方對(duì)指數(shù)沒(méi)有限制（不會(huì)產(chǎn)生構(gòu)造消光）；面心立方h，k，l奇偶混淆；體心立方h+k+l=奇數(shù)；密排六方h+2k=3n,同時(shí)l=奇數(shù)；體心四方h+k+l=奇數(shù)。6.決定X射線(xiàn)強(qiáng)度的關(guān)系式是，試說(shuō)明式中各參數(shù)的物理意義答：X射線(xiàn)衍射強(qiáng)度的公式試中各參數(shù)的含義是：I0為入射X射線(xiàn)的強(qiáng)度；λ為入射X射線(xiàn)的波長(zhǎng)；

，為試樣到觀察點(diǎn)之間的距離；V為被照耀晶體的體積；Vc為單位晶胞體積；P為多重性因子，表示等晶面?zhèn)€數(shù)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響因子；F為構(gòu)造因子，反應(yīng)晶體構(gòu)造中原子地點(diǎn)、種類(lèi)和個(gè)數(shù)對(duì)晶面的影響因子；A(θ)為汲取因子，圓筒狀試樣的汲取因子與布拉格角、試樣的線(xiàn)汲取系數(shù)μl和試樣圓柱體的半徑相關(guān)；平板狀試樣汲取因子與μ相關(guān)，而與θ角沒(méi)關(guān)；(θ)為角因子，反應(yīng)樣品中參加衍射的晶粒大小，晶粒數(shù)目和衍射線(xiàn)地點(diǎn)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響；e-2M為溫度因子=有熱振動(dòng)影響時(shí)的衍射強(qiáng)度無(wú)熱振動(dòng)理想狀況下的衍射強(qiáng)度7.羅倫茲因數(shù)是表示什么對(duì)衍射強(qiáng)度的影響其表達(dá)式是綜合了哪幾方面考慮而得出的答：羅侖茲因數(shù)是三種幾何因子對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，第一種幾何因子表示衍射的晶粒大小對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，羅侖茲第二種幾何因子表示晶粒數(shù)目對(duì)衍射強(qiáng)度的影響，羅侖茲第三種幾何因子表示衍射線(xiàn)地點(diǎn)對(duì)衍射強(qiáng)度的影響。8.試比較衍射儀法與德拜法的優(yōu)弊端1）簡(jiǎn)易迅速（2）分辨能力強(qiáng)（3）直接獲取強(qiáng)度數(shù)據(jù)（4）低角度區(qū)的2θ丈量范圍大（5）樣品用量大（6）設(shè)施較復(fù)雜，成本高。9.試總結(jié)德拜法衍射花式的背底根源，并提出一些防備和減少背底的舉措。答：德拜法衍射花式的背底根源是入射波的非單色光、進(jìn)入試樣后出生的非相關(guān)散射、空氣對(duì)X射線(xiàn)的散射、溫度顛簸惹起的熱散射等。采納的舉措有盡量使用單色光、縮短曝光時(shí)間、恒溫試驗(yàn)等。10.粉末樣品顆粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)德拜花式影響如何為何板狀多晶體樣品晶粒過(guò)大或過(guò)小對(duì)衍射峰形影響又如何答.粉末樣品顆粒過(guò)大會(huì)使德拜花式不連續(xù)，或過(guò)小，德拜寬度增大，不利于分析工作的進(jìn)行。因?yàn)楫?dāng)粉末顆粒過(guò)大（大于10-3cm）時(shí)，參加衍射的晶粒數(shù)減少，會(huì)使衍射線(xiàn)條不連續(xù)；可是粉末顆粒過(guò)細(xì)（小于10-5cm）時(shí)，會(huì)使衍射線(xiàn)條變寬，這些都不利于剖析工作。多晶體的塊狀試樣，假如晶粒足夠細(xì)將獲取與粉末試樣相像的結(jié)果，即衍射峰寬化。但晶粒粗大時(shí)參加反射的晶面數(shù)目有限，所以發(fā)生反射的概率變小，這樣會(huì)使得某些衍射峰強(qiáng)度變小或不出現(xiàn)。11.實(shí)驗(yàn)中選擇X射線(xiàn)管以及濾波片的原則是什么已知一個(gè)以Fe為主要成分的樣品，試選擇適合的X射線(xiàn)管和適合的濾波片答：實(shí)驗(yàn)中選擇X射線(xiàn)管的原則是為防止或減少產(chǎn)生熒光輻射，應(yīng)當(dāng)防止使用比樣品中主元素的原子序數(shù)大2~6（特別是2）的資料作靶材的X射線(xiàn)管。選擇濾波片的原則是X射線(xiàn)剖析中，在X射線(xiàn)管與樣品之間一個(gè)濾波片，以濾掉Kβ線(xiàn)。濾波片的資料依靶的資料而定，一般采納比靶材的原子序數(shù)小1或2的資料。剖析以鐵為主的樣品，應(yīng)當(dāng)采納Co或Fe靶的X射線(xiàn)管，它們的分別相應(yīng)選擇Fe和Mn為濾波片。12.電子波有何特色與可見(jiàn)光有何異同答：電子波的波長(zhǎng)較短，軸對(duì)稱(chēng)非均勻磁場(chǎng)能使電子波聚焦。其波長(zhǎng)取決于電子運(yùn)動(dòng)的速度和質(zhì)量，電子波的波長(zhǎng)要比可見(jiàn)光小5個(gè)數(shù)目級(jí)。二者都是波，擁有波粒二象性，波的大小、產(chǎn)生方式、聚焦方式等不一樣。13.電磁透鏡的像差是如何產(chǎn)生的，如何來(lái)除去或減小像差答：電磁透鏡的像差能夠分為兩類(lèi)：幾何像差和色差。幾何像差是因?yàn)橥渡浯艌?chǎng)幾何形狀上的缺點(diǎn)造成的，色差是因?yàn)殡娮硬ǖ牟ㄩL(zhǎng)或能量發(fā)生必定幅度的改變而造成的。幾何像差主要指球差和像散。球差是因?yàn)殡姶磐哥R的中心地區(qū)和邊沿地區(qū)對(duì)電子的折射能力不切合預(yù)約的規(guī)律造成的，像散是由透鏡磁場(chǎng)的非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)惹起的。除去或減小的方法：球差：減小孔徑半角或減小焦距均可減小球差，特別小孔徑半角可使球差顯然減小。像散：引入一個(gè)強(qiáng)度和方向都能夠調(diào)理的改正磁場(chǎng)即消像散器予以賠償。色差：采納穩(wěn)固加快電壓的方法有效地較小色差。14.說(shuō)明影響光學(xué)顯微鏡和電磁透鏡分辨率的重點(diǎn)要素是什么如何提升電磁透鏡的分辨率答：光學(xué)顯微鏡的分辨本事取決于照明光源的波長(zhǎng)。電磁透鏡的分辨率由衍射效應(yīng)和球面像差來(lái)決定，球差是限制電磁透鏡分辨本事的主要要素。若只考慮衍射效應(yīng)，在照明光源和介質(zhì)必定的條件下，孔徑角α越大，透鏡的分辨本事越高。若同時(shí)考慮衍射和球差對(duì)分辨率的影響，重點(diǎn)在確立電磁透鏡的最正確孔徑半角，使衍射效應(yīng)斑和球差散焦斑的尺寸大小相等。15.電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)主要受哪些要素影響說(shuō)明電磁透鏡的景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是什么要素影響的結(jié)果假定電磁透鏡沒(méi)有像差，也沒(méi)有衍射Airy斑，即分辨率極高，此時(shí)景深和焦長(zhǎng)如何r0Df2r02r0.答：電磁透鏡景深與分辨本事、孔徑半角之間關(guān)系：tg表明孔徑半角越小、景深越大。透鏡集長(zhǎng)DL與分辨本事r0，像點(diǎn)所張孔徑半角2r0M2r0MDL2r0M2DLM，，M為透鏡放大的關(guān)系：tan，倍數(shù)。當(dāng)電磁透鏡放大倍數(shù)和分辨本事一準(zhǔn)時(shí)，透鏡焦長(zhǎng)隨孔徑半角減小而增大。電磁透鏡的景深長(zhǎng)、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是因?yàn)樾】讖桨虢怯绊懙慕Y(jié)果。假如電磁透鏡沒(méi)有像差，也沒(méi)有衍射Airy斑，即分辨率極高，此時(shí)沒(méi)有景深和焦長(zhǎng)。16、消像散器的作用和原理是什么答：消像散器的作用就是用來(lái)除去像散的。其原理就利用外加的磁場(chǎng)把固有的橢圓形磁場(chǎng)校訂成湊近旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)的磁場(chǎng)。機(jī)械式的消像散器式在電磁透鏡的磁場(chǎng)四周擱置幾塊地點(diǎn)能夠調(diào)理的導(dǎo)磁體來(lái)吸引一部分磁場(chǎng)進(jìn)而校訂固有的橢圓形磁場(chǎng)。而電磁式的是經(jīng)過(guò)電磁板間的吸引和排擠來(lái)校訂橢圓形磁場(chǎng)的。17.分別說(shuō)明成像操作與衍射操作時(shí)各級(jí)透鏡（像平面與物平面）之間的相對(duì)地點(diǎn)關(guān)系，并畫(huà)出光路圖。答：假如把中間鏡的物平面和物鏡的像平面重合，則在熒光屏上獲取一幅放大像，這就是電子顯微鏡中的成像操作，如圖（a）所示。假如把中間鏡的物平面和物鏡的后焦面重合，則在熒光屏上獲取一幅電子衍射花式，這就是電子顯微鏡中的電子衍射操作，如圖（b）所示。18.什么是衍射襯度它與質(zhì)厚襯度有什么差異答：因?yàn)闃悠分胁灰粯游幌嗟难苌錀l件不一樣而造成的襯度差異叫衍射襯度。它與質(zhì)厚襯度的差異：質(zhì)厚襯度是成立在原子對(duì)電子散射的理論基礎(chǔ)上的，而衍射襯度則是成立在晶體對(duì)電子衍射基礎(chǔ)之上。質(zhì)厚襯度利用樣品薄膜厚度的差異和均勻原子序數(shù)的差異來(lái)獲取襯度，而衍射襯度則是利用不一樣晶粒的晶體學(xué)位相不一樣來(lái)獲取襯度。質(zhì)厚襯度應(yīng)用于非晶體復(fù)型樣品成像中，而衍射襯度則應(yīng)用于晶體薄膜樣品成像中。19.制備復(fù)型的資料應(yīng)具備什么條件1）復(fù)型資料自己一定是非晶態(tài)資料。2）復(fù)型資料的粒子尺寸一定很小。3）復(fù)型資料應(yīng)具備耐電子轟擊的性能，即在電子束照耀下能保持穩(wěn)固，不發(fā)生疏解和損壞。20.剖析電子衍射與X衍射有何異同答：相同點(diǎn)：都是以知足布拉格方程作為產(chǎn)生衍射的必需條件。兩種衍射技術(shù)所獲取的衍射花式在幾何特色上大概相像。不一樣點(diǎn)：電子波的波長(zhǎng)比x射線(xiàn)短的多，在相同知足布拉格條件時(shí)，它的衍射角很小，約2為10-2rad。而X射線(xiàn)產(chǎn)生衍射時(shí)，其衍射角最大可湊近。在進(jìn)行電子衍射操作時(shí)采納薄晶樣品，增添了倒易陣點(diǎn)和愛(ài)瓦爾德球訂交截的時(shí)機(jī)，使衍射條件變寬。因?yàn)殡娮硬ǖ牟ㄩL(zhǎng)短，采納愛(ài)瓦爾德球圖解時(shí)，反射球的半徑很大，在衍射角θ較小的范圍內(nèi)反射球的球面能夠近似地當(dāng)作是一個(gè)平面，進(jìn)而也