光學(xué)冷加工光圈的識(shí)別及光膠上盤_第1頁
光學(xué)冷加工光圈的識(shí)別及光膠上盤_第2頁
光學(xué)冷加工光圈的識(shí)別及光膠上盤_第3頁
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精心整理光學(xué)冷加工圈的識(shí)別,1根,在在2,0.25微10.3161))34光膠上盤簡(jiǎn)度)先用航空汽油再用無水乙醇擦凈零)用刀口尺或平面樣板檢查平面度。

精心整理)光膠合格后,在不加工的光膠面周)將膠好零件的長(zhǎng)方體、立方體或角)光膠工房應(yīng)保持高度的清潔,室溫,分51--2道光學(xué)冷加工藝資料介紹1.1對(duì)拋光粉的要求1.2拋光粉的種類和性能)

27~898%0.5~17為2.1拋光膠2.2纖維材料若對(duì)拋光面的面(要長(zhǎng)毛氈pH在6之

精心整理,,。反之未60~)

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