標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 13389-1992是一項(xiàng)中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),全稱為《摻硼摻磷硅單晶電阻率與摻雜劑濃度換算規(guī)程》。該標(biāo)準(zhǔn)主要規(guī)定了如何將摻硼或摻磷的硅單晶材料的電阻率轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的摻雜劑(在這里指硼或磷)濃度的方法和要求,以確保在半導(dǎo)體工業(yè)中對(duì)材料性能的準(zhǔn)確評(píng)估與控制。下面是該標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容的詳細(xì)說明:

標(biāo)準(zhǔn)適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體工業(yè)中使用的摻硼或摻磷硅單晶材料,其目的是為了提供一個(gè)統(tǒng)一、準(zhǔn)確的換算方法,使得通過測(cè)量這些單晶的電阻率,能夠可靠地推算出材料中的摻雜劑濃度。

主要內(nèi)容概述

  1. 定義與符號(hào):標(biāo)準(zhǔn)首先明確了涉及的基本術(shù)語、單位以及符號(hào),確保所有使用者對(duì)關(guān)鍵概念有統(tǒng)一的理解。例如,明確電阻率的定義及其測(cè)量方法,以及摻雜劑濃度的表達(dá)方式。

  2. 測(cè)量原理與方法:闡述了電阻率與摻雜劑濃度之間理論上的關(guān)系,基于半導(dǎo)體物理原理,如雜質(zhì)能級(jí)、載流子濃度與電阻率之間的關(guān)系。同時(shí),介紹了用于測(cè)量電阻率的具體實(shí)驗(yàn)方法和技術(shù)要求,包括溫度控制、樣品制備及測(cè)試設(shè)備的校準(zhǔn)等。

  3. 換算公式與系數(shù):提供了詳細(xì)的數(shù)學(xué)模型和換算公式,用以將測(cè)得的電阻率值轉(zhuǎn)換為摻雜劑的實(shí)際濃度。這些公式考慮了摻雜類型(硼或磷)、晶體結(jié)構(gòu)、溫度效應(yīng)等因素,并可能包含特定的修正系數(shù)或圖表,以提高換算的精確度。

  4. 數(shù)據(jù)處理與誤差分析:指導(dǎo)用戶如何正確處理實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),包括數(shù)據(jù)的記錄、統(tǒng)計(jì)分析以及誤差來源的識(shí)別與評(píng)估,確保換算結(jié)果的可靠性。

  5. 質(zhì)量控制與驗(yàn)證:提出了實(shí)施該換算規(guī)程時(shí)應(yīng)遵循的質(zhì)量控制措施,以及如何通過比對(duì)實(shí)驗(yàn)、標(biāo)準(zhǔn)樣品驗(yàn)證等方法來檢驗(yàn)換算結(jié)果的準(zhǔn)確性。

  6. 附錄與參考文獻(xiàn):可能包含一些輔助性的計(jì)算表格、示例計(jì)算或是引用的相關(guān)研究文獻(xiàn),以便使用者深入理解和應(yīng)用該規(guī)程。

實(shí)施意義

該標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)施對(duì)于保證半導(dǎo)體器件制造過程中材料的一致性和可靠性至關(guān)重要。它不僅有助于生產(chǎn)商優(yōu)化生產(chǎn)工藝,提高產(chǎn)品質(zhì)量,同時(shí)也為科研機(jī)構(gòu)和檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室提供了統(tǒng)一的測(cè)試與評(píng)估依據(jù),促進(jìn)了技術(shù)交流與合作。


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  • 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 13389-2014
  • 1992-02-19 頒布
  • 1992-10-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 13389-1992摻硼摻磷硅單晶電阻率與摻雜劑濃度換算規(guī)程_第1頁
GB/T 13389-1992摻硼摻磷硅單晶電阻率與摻雜劑濃度換算規(guī)程_第2頁
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UDC669.782-172-415:621.317.33(083.5)H21中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T13389—92摻硼摻磷硅單品電阻率與摻雜劑濃度換算規(guī)程1992-02-19發(fā)布1992-10-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)摻硼摻磷硅單晶電阻率與摻雜劑濃度換算規(guī)程GB/T13389-92Practiceforconversionbetweenresistivityanddopantdensityforboron-dopedandphosphorus-dopedsilicon主題內(nèi)容與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了23℃時(shí)摻硼摻磷硅單品電阻率和摻雜劑濃度間的換算方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于摻雜劑濃度10”~10”m-(電阻率0.0001~10,000Q·cm)摻硼硅單品和10"~5X10”cm-(電阻率0.0002~4,0000·cm)摻磷硅單晶電阻率與摻雜劑濃度的換算,也可擴(kuò)展到硅中激活能與硼、磷相似的其他摻雜劑。2引用標(biāo)準(zhǔn)GB6615硅片電阻率的直排四探針測(cè)試方法方法提要用公式、表格或曲線圖形進(jìn)行電阻率和摻雜劑濃度之間的換算換算步驥4.11按照?qǐng)D解法、表格法或計(jì)算法把電阻率值換算成摻雜劑濃度值。4.1.1圖解法4.1.1.1摻硼硅單品使用圖1中標(biāo)有“硼”的曲線4.1.1.2摻硅單品使用圖1中標(biāo)有“磷”的曲線。4.1.2表格法4.1.2.1摻硼硅單晶使用表1。4.1.2.2摻磷硅單品使用表2。4.1.3計(jì)算法4.1.3.1摻硼硅單晶按式(1)由電阻率值計(jì)算摻雜劑濃度值N-1-330X10%1082×101工PC1+(54.560)510········(M)武中:0-電阻率,Q·cm;-摻雜劑濃度,cm-。4.1.3.22摻磷硅單品按式(2)、式(3)由電阻率值計(jì)算摻雜劑濃度值:N-6212X

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