標(biāo)準(zhǔn)解讀
《YS/T 897-2013 高純鈮化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法》是一項(xiàng)針對(duì)高純鈮材料中痕量雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了使用輝光放電質(zhì)譜(Glow Discharge Mass Spectrometry, GDMS)技術(shù)來(lái)檢測(cè)鈮材料中的多種微量元素的方法。這些雜質(zhì)元素包括但不限于鐵、鎳、鉻等,它們的存在可能影響鈮材料在特定應(yīng)用下的性能。
標(biāo)準(zhǔn)首先概述了適用范圍,明確了適用于通過(guò)GDMS方法分析的高純鈮樣品類型及其預(yù)期達(dá)到的檢測(cè)限。接著,在引用文件部分列出了制定本標(biāo)準(zhǔn)時(shí)參考的相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),為理解和執(zhí)行提供了背景資料支持。
對(duì)于術(shù)語(yǔ)和定義部分,則對(duì)一些關(guān)鍵概念進(jìn)行了明確界定,如“高純鈮”、“輝光放電質(zhì)譜法”等,確保使用者能夠準(zhǔn)確理解并正確應(yīng)用。
方法原理部分描述了GDMS的基本工作機(jī)理:利用高壓電場(chǎng)使樣品表面產(chǎn)生等離子體,然后通過(guò)質(zhì)量分析器分離不同質(zhì)量數(shù)的離子,并根據(jù)信號(hào)強(qiáng)度定量分析目標(biāo)元素含量。
接下來(lái)是關(guān)于儀器設(shè)備的要求,包括推薦使用的GDMS型號(hào)規(guī)格、操作條件設(shè)定以及校準(zhǔn)程序等信息,以保證測(cè)試結(jié)果的一致性和可比性。
樣品準(zhǔn)備章節(jié)詳述了如何從原始材料中獲取適合GDMS分析的試樣,涵蓋了取樣位置選擇、尺寸要求及預(yù)處理步驟等內(nèi)容,強(qiáng)調(diào)了避免污染的重要性。
實(shí)驗(yàn)過(guò)程則具體指導(dǎo)了如何設(shè)置參數(shù)、引入樣品、采集數(shù)據(jù)直至完成一次完整的GDMS測(cè)量周期,同時(shí)還提到了數(shù)據(jù)處理與報(bào)告編寫(xiě)的基本原則。
最后,標(biāo)準(zhǔn)附錄中還包含了典型實(shí)驗(yàn)條件下某些常見(jiàn)雜質(zhì)元素的檢出限值表,以及可能遇到的問(wèn)題解決方案等輔助資料,幫助實(shí)驗(yàn)室技術(shù)人員更好地掌握和運(yùn)用這項(xiàng)技術(shù)。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替
- 2013-10-17 頒布
- 2014-03-01 實(shí)施



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YS/T 897-2013高純鈮化學(xué)分析方法痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定輝光放電質(zhì)譜法-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
ICS7712099
H63..
中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
YS/T897—2013
高純鈮化學(xué)分析方法
痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定
輝光放電質(zhì)譜法
Methodsforchemicalanalysisofhighpurityniobium—
Determinationoftraceimpurityelementcontent—
Glowdischargemassspectrometry
2013-10-17發(fā)布2014-03-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布
YS/T897—2013
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口
(SAC/TC243)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位北京有色金屬研究總院金川集團(tuán)股份有限公司東方電氣集團(tuán)峨嵋半導(dǎo)體材料
:、、
有限公司
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李艷芬李寶城劉英孫澤明童堅(jiān)李繼東臧慕文李娜程紫輝張江峰
:、、、、、、、、、、
邱平秦芳林文英王攀峰
、、、。
Ⅰ
YS/T897—2013
高純鈮化學(xué)分析方法
痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定
輝光放電質(zhì)譜法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了高純鈮中痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定方法測(cè)定元素見(jiàn)表
,1。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于高純鈮中痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定除鉭鉬鎢外各元素測(cè)定范圍為
。、、1.0g/kg~
鉭的測(cè)定范圍為鉬和鎢的測(cè)定范圍為μ
5000μg/kg,1.0μg/kg~300000μg/kg,1.0μg/kg~100000μg/kg。
2方法原理
試料作為陰極進(jìn)行輝光放電其表面原子被濺射而脫離試料進(jìn)入輝光放電等離子體中離子化后再被
,,
導(dǎo)入質(zhì)譜儀中進(jìn)行測(cè)定在每一元素同位素質(zhì)量數(shù)處以預(yù)設(shè)的掃描點(diǎn)數(shù)和積分時(shí)間對(duì)相應(yīng)譜峰積分所
。,
得面積即為譜峰強(qiáng)度在缺少標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)計(jì)算機(jī)根據(jù)儀器軟件中的典型相對(duì)靈敏度因子自動(dòng)計(jì)算出
。,“”
各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)有標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)則需要通過(guò)在與被測(cè)樣品相同的分析條件離子源結(jié)構(gòu)以及測(cè)試條件
;,、
下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行獨(dú)立測(cè)定獲得相對(duì)靈敏度因子應(yīng)用該相對(duì)靈敏度因子計(jì)算出各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)
,。
被測(cè)元素的含量以質(zhì)量分?jǐn)?shù)wX計(jì)按式計(jì)算
(),(1):
XIXA
wX=RSF(/Nb)··Nbw
()IAX·(Nb)……(1)
Nb·
式中
:
wX待測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)單位為微克每千克
()———,(μg/kg);
X在特定輝光放電條件下測(cè)定中X元素的校正系數(shù)
RSF(/Nb)———Nb;
IX待測(cè)元素X的同位素譜峰強(qiáng)度
———,cps;
A元素的同位素豐度
Nb———Nb;
I元素的同位素譜峰強(qiáng)度
Nb———Nb,cps;
AX待測(cè)元素X的同位素豐度
———;
w的質(zhì)量分?jǐn)?shù)定義為9
(Nb)———Nb1.00×10μg/kg。
3試劑與材料
除非另有說(shuō)明分析中所用的試劑均為優(yōu)級(jí)純所用的水為一級(jí)水
,;。
31無(wú)水乙醇
.。
32氬氣φ
.(≥99.999%)。
33氫氟酸
.(1+9)。
34鈮標(biāo)準(zhǔn)樣品被測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)在
.,50μg/kg~500μg/kg。
35鈮空白樣品要求被測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于被測(cè)試樣的倍以上
.,10。
4儀器
41高質(zhì)量分辨率輝
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